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1、PCM溶劑效應(yīng)原理及計(jì)算實(shí)例(一)作者:fado文章來(lái)源:本站原創(chuàng)點(diǎn)擊數(shù):顧669更新時(shí)間:2006-1-28收藏此頁(yè)一,處理溶劑效應(yīng)的理論模型從實(shí)驗(yàn)角度而言,溶劑效應(yīng)主要體現(xiàn)在兩個(gè)方面,一是溶劑分子與溶質(zhì)的絡(luò)合或者氫鍵等分子間弱相互作用(有時(shí)稱為短程”作用),二是 極性溶劑通過靜電作用對(duì)溶質(zhì)分子電荷分布的影響(“遠(yuǎn)程”作用)。對(duì)于第一種“短程”作用的理論計(jì)算,往往需要運(yùn)用“真實(shí)溶劑模型”(Explicit Solvation Model),即考慮多個(gè)溶劑分子與溶質(zhì)的相互作用,因?yàn)檫@種 作用經(jīng)常由很多不同構(gòu)型的弱相互作用絡(luò)合體貢獻(xiàn)而得,這種模型的具體應(yīng)用往往需要結(jié)合了蒙特卡羅或分子動(dòng)力學(xué)等方法
2、。對(duì)于第二種“遠(yuǎn)程” 作用,通常需要采用“虛擬溶劑模型”(Implicit Solvation Model)來(lái)計(jì)算?,F(xiàn)在比較流行的處理方法是引用“反應(yīng)場(chǎng)”(Reaction Field)的概念,把溶劑 效應(yīng)看成是溶質(zhì)分子分布在具有均一性質(zhì)的連續(xù)介質(zhì)(Continuum)當(dāng)中。而這種連續(xù)介質(zhì)模型又包含很多分支,PCM (極化連續(xù)介質(zhì)模型,Polari zed Continuum Model)就是最常用的分支之一。其他一些常用的連續(xù)介質(zhì)模型還包括Onsager, COSMO, SMx(x=1-5)等等。二,PCM模型的歷史PCM模型最早由意大利比薩大學(xué)的Tomasi教授于1981年提出,后來(lái)又發(fā)展
3、出諸多改進(jìn)版本。我們先來(lái)介紹最初版本的PCM (注:Gaussian 9 8軟件中的關(guān)鍵字SCRF=PCM即采用該最初版本的PCM)。三,PCM溶劑化自由能的構(gòu)成PCM模型將溶液中的自由能分為三部分的貢獻(xiàn)。solvation=AQg, +勇帥恤*航幃+ AG冊(cè)f首先,在溶劑分子中建立一個(gè)容納溶質(zhì)分子的空穴(cavity)會(huì)導(dǎo)致體系能量升高。這部分的能量稱為cavity formation energy(比較老的文獻(xiàn)中常簡(jiǎn) 稱為cavitation energy),這個(gè)能量永遠(yuǎn)是正值(能量升高)。其次,將溶質(zhì)分子放入空穴中后,溶質(zhì)和溶劑的作用,包括范德華力的作用和一些比 較弱的排斥作用(不包括靜
4、電排斥)。這部分能量稱為分散-排斥能(dispersion-repulsion energy),一般為負(fù)值(能量降低)。前兩項(xiàng)的能量與空穴表面 積接近成正比關(guān)系,在PCM模型中,這兩項(xiàng)能量由表面積結(jié)合一些與原子特性相關(guān)的半經(jīng)驗(yàn)參數(shù)計(jì)算而得。溶質(zhì)分子的非均勻電荷分布會(huì)通過靜電作用使連續(xù)介質(zhì)(溶劑)產(chǎn)生極化,而溶劑的極化作用反過來(lái)又會(huì)影響到溶質(zhì)分子的電荷分布。這種通過靜 電的相互作用最終效果是使體系能量降低,這種作用貢獻(xiàn)的能量稱為靜電能(electrostatic energy)。四,創(chuàng)建空穴(Cavity)PCM模型的空穴可以由多種方法構(gòu)建而成,Gaussian 03默認(rèn)采用的UA0(Unite
5、d Atom)空穴由以重原子(即非氫原子)為中心的多個(gè)球體組成。每 個(gè)球體的半徑由原子類別,成鍵方式,氫原子成鍵數(shù)目以及分子總電荷數(shù)決定,再乘以一個(gè)與溶劑性質(zhì)相關(guān)的系數(shù)(例如水為1.2, THF為1.4)。 為了使球體接觸位置的表面更光滑,還將添加一些不以重原子為中心的球體。對(duì)某氫原子不同其他原子成鍵的結(jié)構(gòu),例如質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)的過渡態(tài),UA0模型將無(wú)法構(gòu)建空穴。此時(shí)可以使用Gaussian 03的SPHEREONH=N 關(guān)鍵字在該氫原子中心處添加球體,N為輸入文件中該原子在原子列表中的序數(shù)。Gaussian支持的其他空穴構(gòu)建方法還包括UAHF(Gaussian 98默認(rèn),原子半徑由HF/6-31
6、g(d)計(jì)算優(yōu)化而得),UFF, PAULING, BONDI等。Gaussian手冊(cè)中還有很多參數(shù)可以控制構(gòu)建空穴的細(xì)節(jié)例如光滑度等等,但空穴的選擇對(duì)計(jì)算結(jié)果影響很大,要修改這些參數(shù)時(shí)要慎重。solvent probe sphenesolvent accessible.solventQ A-l excluding) surfacevan der Waals-surfsce另外需要說明的是上面介紹的這種空穴表面稱為溶劑排斥表面(Solvent Excluding Surface, SES),意思就是溶劑分子可以接近溶質(zhì),產(chǎn)生靜電作 用的最近距離。這個(gè)空穴只用于靜電能的計(jì)算。計(jì)算分散-排斥能需要
7、使用溶劑可接近表面(Solvent Accessible Surface, SAS),SAS為SES向外 擴(kuò)展溶劑分子半徑長(zhǎng)度而得。而計(jì)算cavitation energy時(shí)則一般使用范德華表面。因?yàn)榭昭ㄐ螤畈灰?guī)則,PCM模型只能使用數(shù)值方法求解空穴表面的電荷分布??昭ū砻鎸⒈环譃閹装倩蛏锨€(gè)碎片(tesserae)。五、自洽反應(yīng)場(chǎng)(SCRF)模型前面已經(jīng)簡(jiǎn)要介紹過計(jì)算靜電能的基本原理:構(gòu)建空穴,產(chǎn)生表面碎片之后,首先進(jìn)行氣態(tài)下溶質(zhì)分子的量子化學(xué)計(jì)算得到空穴表面各碎片的電 荷,然后將該電荷對(duì)溶質(zhì)分子的靜電作用作為一個(gè)勢(shì)能項(xiàng)加到哈密頓算符中,重新求解,得到新的電荷分布之后,進(jìn)行疊代直至自洽。這個(gè)
8、過程 與SCF運(yùn)算很相似,只是多了一項(xiàng)與空穴表面碎片電場(chǎng)有關(guān)的勢(shì)能算符。這種方法叫做自洽反應(yīng)場(chǎng)(Self-Consistent Reaction Field)模型。六、PCM模型的變體讀者可能已經(jīng)發(fā)現(xiàn)PCM模型中加入了很多假設(shè)和半經(jīng)驗(yàn)的參數(shù),為了提高PCM計(jì)算的精確度,二十多年來(lái)很多研究組對(duì)PCM進(jìn)行了多方面的 改進(jìn),發(fā)展了多種基于PCM模型的理論。而1981年Tomasi提出的原始PCM模型,最近已經(jīng)被改名為DPCM(Dielectric PCM,極化絕緣連續(xù) 介質(zhì)模型)以避免與CPCM和IEFPCM混淆。Isodensity Surface PCM (IPCM,等密度表面極化連續(xù)介質(zhì)模型)
9、IPCM采用分子的等(電子)密度面作為空穴(例如電子密度為0.001的表面),同樣進(jìn)行自洽反應(yīng)場(chǎng)疊代,直至等密度面不再變化為止。Self-Consistent Isodensity Surface PCM (SCIPCM,自洽等密度表面極化連續(xù)介質(zhì)模型)SCIPCM同樣采用分子的等(電子)密度面作為空穴,與IPCM不同的是SCIPCM除了考慮靜電效應(yīng)對(duì)等密度面的影響之外,還將體系總能量(包括 溶解能)包括進(jìn)來(lái),以優(yōu)化到具有最低能量的等密度面。因?yàn)榈让芏让?空穴)的變化會(huì)影響cavity formation energy和dispersion-repulsion energy, 所以把這兩項(xiàng)因素
10、加入疊代是很有必要的。CPCM 或 COSMO (COnductor-like Screening MOdel)CPCM或者COSMO準(zhǔn)確的說應(yīng)該不算PCM方法的一種,因?yàn)镃OSMO采用原子電荷而不是電子密度來(lái)計(jì)算靜電勢(shì)。由于采用了這個(gè)近似,C OSMO比PCM計(jì)算速度快很多,但精度也有所降低。IEFPCM (PCM using the Intergral Equation Formalism model)使用不同數(shù)學(xué)模型的PCM模型,可以計(jì)算在各項(xiàng)異性介質(zhì)(例如液晶)或非絕緣溶液(離子溶液)中的溶劑效應(yīng)。是Gaussian 03的默認(rèn)方法。(未完待續(xù),第二部分:Gaussian 98/03
11、PCM計(jì)算實(shí)例及常見問題分析)參考資料:綜述:Tomasi, J.; Mennucci, B.; Cammi, R., Quantum mechanical continuum solvation models. Chem. Rev. 2005, 105, (8), 2999-3093.參考文獻(xiàn):可參考上面綜述中引用的相關(guān)文獻(xiàn)。參考書:Young, D. C., Computational chemistry : a practical guide for applying techniques to real-world problems. Wiley-Interscience: New York ; Chi chester England, 2001; p 206.Jensen, F., Introduction to computational chemistry. Wiley: Chichester ; New York, 1999; p 392.Gaussian 98/03用戶手冊(cè)SCRF關(guān)鍵詞部分Foresman, J. B.; Frisch, A., Exploring chemistry with electronic structure methods. 2nd ed.; Gaussian, Inc.: Pi
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