浮法玻璃中的滲析問(wèn)題探究

1、浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程(guchng)中沾錫問(wèn)題的探究 共十四頁(yè) 浮法玻璃生產(chǎn)的核心：成型工藝(gngy)。區(qū)分于傳統(tǒng)玻璃生產(chǎn)方法，極大提高了玻璃的生產(chǎn)效率和質(zhì)量。理想狀態(tài)：不與錫液發(fā)生任何反應(yīng)現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)：存在沾錫，滲錫，彩虹等問(wèn)題沾錫嚴(yán)重影響平板玻璃的光潔度、質(zhì)量(zhling)，甚至變?yōu)閺U品共十四頁(yè)沾錫問(wèn)題原因探究定義(dngy)：沾錫就是錫牢牢的粘結(jié)在玻璃表面上的現(xiàn)象。嚴(yán)重的損害了玻璃表面質(zhì)量, 阻礙了玻璃的正常生產(chǎn)。？疑問(wèn)： 5001000時(shí)，玻璃(b l)液和錫液之間的浸潤(rùn)角175，這幾乎是完全不濕潤(rùn)的。為什么會(huì)法身沾錫？共十四頁(yè)多相界面發(fā)生(fshng)復(fù)雜的物理化學(xué)變化共十四頁(yè) 純凈的錫

2、液不與玻璃相潤(rùn)濕。然而，浮法玻璃生產(chǎn)(shngchn)中，玻璃液在錫液面上是液、液、氣三相，情況變得不同。共十四頁(yè)第一步：浮法生產(chǎn)中錫液會(huì)被氧化為錫的氧化物。第二步：氧化物與玻璃(b l)熔體發(fā)生潤(rùn)濕，進(jìn)入到玻璃(b l)體表面。（滲錫）第三步：侵潤(rùn)到玻璃表面的錫的氧化物，與熔體中的錫液沾住。（沾錫）第四步：由于滲析的原因，在鋼化過(guò)程中產(chǎn)生“彩虹”等缺陷。共十四頁(yè)1、氧的影響。在高溫(gown)下氧金屬錫反應(yīng)如下 陰極過(guò)程是玻璃液中的鈉離子被還原(hun yun)為鈉溶解到錫液中； 陽(yáng)極過(guò)程是錫氧化成, 并為玻璃液吸收。3、水蒸氣的影響 水蒸氣的存在不僅高溫下能使錫氧化，它的濃度增大時(shí)還可以阻

3、止保護(hù)氣體中氫組分的除氧作用。2、界面上電化學(xué)過(guò)程。 其電極反應(yīng)可寫成氧化的原因共十四頁(yè)共十四頁(yè)沾錫產(chǎn)生(chnshng)的原因 玻璃表層的二價(jià)錫離子極化呈原子狀態(tài)，結(jié)構(gòu)發(fā)生(fshng)改變沾錫。滲錫 金屬錫變?yōu)殄a的氧化物，金屬鍵變?yōu)楣矁r(jià)鍵為主，與玻璃液有很好的相溶性，滲入玻璃下表面。 其中部分氧化物以氧化亞錫形式固溶于玻璃產(chǎn)生“彩虹”。共十四頁(yè) 浮法玻璃表面沾錫， 很少的氧(錫液中氧含量(hnling)超過(guò)50 PPm ) 也使錫氧化生成SnO 。 啟示：在浮法成型的過(guò)程中不含氧，效果最好 。 然而，實(shí)際上做到這點(diǎn)是不可能的, 總有一定(ydng)數(shù)量的氧存在于錫槽內(nèi)，怎么辦呢？ 有兩條道

4、路可走共十四頁(yè) Mg、Li、Na、Zn 、Fe作為添加元素(yun s)該元素(yun s)氧的結(jié)合力必須大于錫與氧的結(jié)合力2、利用微量金屬元素對(duì)槽內(nèi)錫液進(jìn)行(jnxng)凈化3、 在錫槽底和側(cè)壁以碳質(zhì)板材作為內(nèi)襯 在錫槽出口處設(shè)置上下對(duì)稱的石墨保護(hù)氣體擋簾，內(nèi)裝帶有噴嘴的預(yù)熱保護(hù)氣體管道。這樣在一定程度上限制了空氣的滲入。4、其他方法前處理措施1 、通入保護(hù)氣體共十四頁(yè)二氧化硫(r yng hu li)處理 表面處理的作用是使玻璃表面的鈉離子與二氧化硫相互作用形成硫酸鈉把玻璃凹凸不平的表面平整(pngzhng)化。 浮法發(fā)展中確實(shí)為改善玻璃表面質(zhì)量起到很大作用, 且至今仍在發(fā)揮作用。后處理措施共十四頁(yè)請(qǐng)大家(dji)批評(píng)指正共十四頁(yè)內(nèi)容摘要浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中?，F(xiàn)實(shí)生產(chǎn)：存在沾錫，滲錫，彩虹等問(wèn)題。定義：沾錫就是錫牢牢的粘結(jié)在玻璃表面上的現(xiàn)象。疑問(wèn)： 5001000時(shí)，玻璃液和錫液之間的浸潤(rùn)角175，這幾乎是完全(wnqun)不濕潤(rùn)的。（滲錫）第三步：侵潤(rùn)到玻璃表面的錫的氧化物，與熔體中的錫液沾住。（沾錫）第四步：由于滲析的原因，在鋼化過(guò)程中產(chǎn)生“彩虹”等缺陷。水蒸氣的存在不僅高溫下能使錫氧化，它的濃度增大時(shí)還可以阻止保護(hù)氣體中氫組分的除氧作用。