常用晶體及光學(xué)玻璃折射率表

1、常用晶體及光學(xué)玻璃折射率表物質(zhì)名稱分子式或符號折射率熔凝石英SiO21.45843氯化鈉NaCl1.54427氯化鉀KCl1.49044螢？?？石CaF21.43381冕牌玻璃K61.51110K81.51590K91.51630重冕玻璃ZK61.61263ZK81.61400鋇冕玻璃BaK21.53988火石玻璃F11.60328鋇火石玻璃BaF81.62590重火石玻璃ZF11.64752ZF51.73977ZF61.75496液體折射率表物質(zhì)名 稱分子式密度溫度。c折射率丙!享CH3COCH30.791201.3593甲CH OH30.794201.3290乙CHOH0.800201.3

2、618苯CH 6 61.880201.5012二硫化 碳CS21.263201.6276四氯化 碳CCl41.591201.4607三氯甲 烷CHCl31.489201.4467乙醚CH 0.CH 2 52 50.715201.3538甘油C3H8O31.260201.4730松節(jié)油0.8720.71.4721橄欖油0.9201.4763水HO21.00201.3330DMF熔點-61 C,沸點 152.8C,76C(5.2kPa),相對密度 0.9445(25/4C),閃點 58C,自燃點 445C。對多種有機化合物和無機 化合物均有良好的溶解能力和化 學(xué)穩(wěn)定性。25C的蒸氣壓為0.493k

3、Pa。1.4269晶體的折射率n。和氣表物質(zhì)名 稱分子式none冰H021.3131.309氟化鎂MgF21.3781.390石英Si021.5441.553氯化鎂MgOH O21.5591.580錯石ZrO2 SiO21.9231.968硫化鋅ZnS2.3562.378方解石CaOCO21.6581.486鈣黃長石2Ca0.Al203 SiO21.6691.658菱鎂礦ZnO-CO21.7001.509剛石Al231.7681.760淡紅銀 礦3Ag S-ASS22 32.9792.711注: nn分別是晶體雙折射現(xiàn)象中的“尋常光”的折射率和“非常 光”的折射率。？?？資料來源：華東師 大光

4、學(xué)教程折光率色散雙折射率硬度比重真鉆石2. 420. 044無103. 52“蘇聯(lián)鉆”2. 150. 060無8. 55. 6一6注：“蘇聯(lián)鉆”，立方氧化鋯鉆石 一般情況下，基礎(chǔ)玻璃的折射率為1.51.7，而斜鋯石的折射率為2.2,鋯英石的折射率為1.94； SnO2 可以降低釉熔體的表面張力，且具有較高地折射率(2.09)CR-39即折射率1.499單體有機高分子化學(xué)日開發(fā)出新型熱固性樹脂2004-7-28 9:04:29來源：中國化工網(wǎng)日前，日本Nitto Denko Corp公司開發(fā)出一種折射系數(shù)為1.7的芳香 族熱固性樹脂，高于折射率1.56的環(huán)氧樹脂，且這種樹脂的耐熱性也比環(huán) 氧樹脂

5、高30%。該公司稱，折射系數(shù)的提高是由于在其中添加了二氧化鈦、二氧化鋯及 其它金屬氧化物的納米級粒子。據(jù)介紹，這種樹脂主要用途在電器領(lǐng)域，包 括用于涂料中可提高白色發(fā)光二極管(LEDs)的發(fā)光率和吸光率，液晶顯示器 (LCDs)和其它顯示器的防反射膜，以及在電荷耦合器件(CCDs)中作為微透鏡 使其能接受大量光等。金紅石型和銳鈦礦型02顏料的平均折射率分別為2.71和2.57，用2.71來 計算，氧化鋅顏料的相對密度為5.455.65，吸油度量為1025 g/100 g，折射 率為2.032.08。商業(yè)上98%顏料級硫化鋅的相對密度為4.04.1，折射率為2.37三氧化銻顏料的折射率約為2.0

6、，名稱？折射率？?？透光范圍？?？蒸發(fā)溫度(C)蒸發(fā)應(yīng)用鋁 1.62/550n20050002000-2200電子槍增透膜多層膜氟化鈰 1.63/500nm3005000 1429鉬，鉭，電子槍增透膜、 多層膜電子氧化鈰 2.35/500nm400160001950槍增透膜冰晶石 1.33/500nm25014000 1000鉬，鉭，電子槍增透膜氧化鉿1.95/500nm2307000 2500電子槍紫外-近紅外多層膜透明導(dǎo)電膜料2.0/500nm400800 1450電子槍，Al2O3透明導(dǎo)電膜氟化鈣 1.23-1.42/550nm15012000 12801400 鉬，鉭，鎢 增透膜氟化鎂

7、 1.38/550nm1307000 13001600 鉬，鉭，鎢增透膜、多層膜氧化鎂 1.7/500nm20080002000 電子槍多層膜鋯鈦混合物2.1/500nm4007000 2300鎢，電子槍增透膜氧 化 鈧 1.89/500nm25050002430 電 子槍紫外多層膜二氧化硅 1.45/500nm200200016002200 電子槍多層膜一氧化硅 1.55/550nm6008000 12001600 鉬，鉭，鎢增透膜、保護膜五氧化二鉭 2.1/500nm40070001950電子槍增透膜槍一氧化鈦2.35/500nm多層膜、分光膜40012000 17002000電子槍二氧化

8、鈦2.35/500nm增透膜、多層膜400120002200電子槍氧化釔1.87/550nm增透膜、多層膜40080002500電子槍氧化鋯2.05/500nm增透膜、多層膜25070002500電子三氧化二鈦2.35/500nm40012000 18002000鉭，鎢電子槍增透膜、多層膜氟化鑭 1.58/500nm22014000 1450鉬，電子槍增透膜硅 3.4/3000nm10009000 1500 電子槍紅外膜鍺 4.4/2000nm170023000 13001500電子槍，鎢紅外膜硒化鋅 2.58/550nm60015000 600900鉬，鉭， 電子槍紅外膜硫化鋅 2.4/12

9、00nm40014000 1100鉬，鉭，電子槍 多層膜氟化釔 1.49/632.8nm20015000 1100 鉬紅外膜（10.6mm）、增透膜氟化錯 1.51/632.8nm22015000 14001600鉬，電子槍紅外膜（10.6mm）、增透膜氟化鋁1.35/500nm2008000 8001000電子槍，鉬，鉭紫外膜氟 化 鉛1.76/470nm22090007001000鉑紫外膜氧 化 釓1.8/550nm320150002200增透膜五氧化三鈦 2.35/500nm40012000 17502000鈦酸鋇（BaTiO3）單晶具有優(yōu)異的光折變性能具有高的自泵浦相位共軛反射率和二波混頻（光放大） 效率，在光信息存儲方面有巨大的潛在應(yīng)用前景；同時它也是重要的襯底基片材料。晶體參數(shù):晶體結(jié)構(gòu)四方 Tetragona(4m):13oCT132oC a=3.99 ,c=4.04,(at26生長方法TSSG (Top Seeded Solution Growth)頂部籽晶法熔點1612 oC折射率515 nm633 nm800 nmno2.49122.41602.3681ne2.42472.36302.3235透過波長范圍0.43 - 6.30 m1、白色顏料與合成纖維的折射率見表 表1白