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刮涂法制作GPP二極管芯片工藝技術(shù)(總6頁(yè)) -CAL-本頁(yè)僅作為文檔封面，使用請(qǐng)直接刪除 ）， ）； 去光刻膠 ：溫度500-520，時(shí)間15-20min，通氣O，6L/min或化2 22 ）， 在擴(kuò)散片磷面旋轉(zhuǎn)涂敷鉑源，烘干后鉑面背靠放在石英舟中并壓 需要指出的是，擴(kuò)鉑片應(yīng)按不同硅片電阻率、正向壓降VF和恢復(fù)時(shí)間Trr

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