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文檔簡介
1、1電化學阻抗譜第1頁211.1 引言鎖相放大器頻譜分析儀阻抗頻率Eeqt電化學阻抗法交流伏安法阻抗測量技術(shù)阻抗模量、相位角頻率E=E0sin(t)電化學阻抗譜(Electrochemical Impedance Spectroscopy,EIS) 給電化學系統(tǒng)施加一個頻率不一樣小振幅交流正弦電勢波,測量交流電勢與電流信號比值(系統(tǒng)阻抗)隨正弦波頻率改變,或者是阻抗相位角隨改變。分析電極過程動力學、雙電層和擴散等,研究電極材料、固體電解質(zhì)、導(dǎo)電高分子以及腐蝕防護機理等。第2頁3將電化學系統(tǒng)看作是一個等效電路,這個等效電路是由電阻(R)、電容(C)、電感(L)等基本元件按串聯(lián)或并聯(lián)等不一樣方式組合
2、而成,經(jīng)過EIS,能夠測定等效電路組成以及各元件大小,利用這些元件電化學含義,來分析電化學系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和電極過程性質(zhì)等。利用EIS研究一個電化學系統(tǒng)基本思緒:電阻 R電容 C電感 L第3頁411.2 電化學阻抗譜基礎(chǔ) 11.2.1 電化學系統(tǒng)交流阻抗含義給黑箱(電化學系統(tǒng)M)輸入一個擾動函數(shù)X,它就會輸出一個響應(yīng)信號Y。用來描述擾動與響應(yīng)之間關(guān)系函數(shù),稱為傳輸函數(shù)G()。若系統(tǒng)內(nèi)部結(jié)構(gòu)是線性穩(wěn)定結(jié)構(gòu),則輸出信號就是擾動信號線性函數(shù)。XYG()MY=G()X第4頁5 假如X為角頻率為正弦波電勢信號,則Y即為角頻率也 為正弦電流信號,此時,頻響函數(shù)G()就稱之為系統(tǒng) 導(dǎo)納(admittance), 用
3、Y表示。 阻抗和導(dǎo)納統(tǒng)稱為阻納(immittance), 用G表示。阻抗和 導(dǎo)納互為倒數(shù)關(guān)系,Z=1/Y。 假如X為角頻率為正弦波電流信號,則Y即為角頻率也 為正弦電勢信號,此時,傳輸函數(shù)G()也是頻率函 數(shù),稱為頻響函數(shù),這個頻響函數(shù)就稱之為系統(tǒng)阻抗 (impedance), 用Z表示。Y/X=G()第5頁6阻納G是一個隨改變矢量,通慣用角頻率(或普通頻率f,=2f)復(fù)變函數(shù)來表示,即:其中:G阻納實部, G阻納虛部若G為阻抗,則有: 實部Z虛部Z|Z|(Z,Z)阻抗Z模值:阻抗相位角為 第6頁7log|Z| / degBode plotNyquist plot高頻區(qū)低頻區(qū)EIS技術(shù)就是測定
4、不一樣頻率(f)擾動信號X和響應(yīng)信號 Y 比值,得到不一樣頻率下阻抗實部Z、虛部Z、模值|Z|和相位角,然后將這些量繪制成各種形式曲線,就得到EIS抗譜。奈奎斯特圖波特圖第7頁811.2.2 EIS測量前提條件因果性條件(causality):輸出響應(yīng)信號只是由輸入擾動信號引發(fā)。線性條件(linearity): 輸出響應(yīng)信號與輸入擾動信號之間存在線性關(guān)系。電化學系統(tǒng)電流與電勢之間是動力學規(guī)律決定非線性關(guān)系,當采取小幅度正弦波電勢信號對系統(tǒng)擾動,電勢和電流之間可近似看作呈線性關(guān)系。通常作為擾動信號電勢正弦波幅度在5mV左右,普通不超出10mV。第8頁9穩(wěn)定性條件(stability): 擾動不會
5、引發(fā)系統(tǒng)內(nèi)部結(jié)構(gòu)發(fā)生改變,當擾動停頓后,系統(tǒng)能夠回復(fù)到原先狀態(tài)??赡娣磻?yīng)輕易滿足穩(wěn)定性條件;不可逆電極過程,只要電極表面改變不是很快,當擾動幅度小,作用時間短,擾動停頓后,系統(tǒng)也能夠恢復(fù)到離原先狀態(tài)不遠狀態(tài),能夠近似認為滿足穩(wěn)定性條件。第9頁10因為采取小幅度正弦電勢信號對系統(tǒng)進行微擾,電極上交替出現(xiàn)陽極和陰極過程,二者作用相反,所以,即使擾動信號長時間作用于電極,也不會造成極化現(xiàn)象積累性發(fā)展和電極表面狀態(tài)積累性改變。所以EIS法是一個“準穩(wěn)態(tài)方法”。因為電勢和電流間存在線性關(guān)系,測量過程中電極處于準穩(wěn)態(tài),使得測量結(jié)果數(shù)學處理簡化。EIS是一個頻率域測量方法,可測定頻率范圍很寬,因而比常規(guī)電化
6、學方法得到更多動力學信息和電極界面結(jié)構(gòu)信息。11.2.3 EIS特點第10頁1111.2.4 簡單電路基本性質(zhì)正弦電勢信號:正弦電流信號:-角頻率-相位角第11頁121. 電阻歐姆定律:純電阻,=0,Nyquist 圖上為橫軸(實部)上一個點Z-Z寫成復(fù)數(shù):實部:虛部:第12頁13寫成復(fù)數(shù):Nyquist 圖上為與縱軸(虛部)重合一條直線Z-Z*2. 電容電容容抗(),電容相位角=/2實部:虛部:第13頁143. 電組R和電容C串聯(lián)RC電路串聯(lián)電路阻抗是各串聯(lián)元件阻抗之和Nyquist 圖上為與橫軸交于R與縱軸平行一條直線。實部:虛部:第14頁154. 電組R和電容C并聯(lián)電路并聯(lián)電路阻抗倒數(shù)是
7、各并聯(lián)元件阻抗倒數(shù)之和實部:虛部:消去,整理得:圓心為 (R/2,0), 半徑為R/2圓方程第15頁16Nyquist 圖上為半徑為R/2半圓。第16頁1.2 物理參數(shù)和等效電路元件1.2.1 物理參數(shù)溶液電阻 (Rs)雙電層電容 (Cdl)極化阻抗 (Rp)電荷轉(zhuǎn)移電阻 (Rct)擴散電阻 (Zw)界面電容 (C)和 常相角元件(CPE)電感 (L)對電極和工作電極之間電解質(zhì)之間阻抗工作電極與電解質(zhì)之間電容 當電位遠離開路電位時時,造成電極表面電流產(chǎn)生,電流受到反應(yīng)動力學和反應(yīng)物擴散控制。電化學反應(yīng)動力學控制反應(yīng)物從溶液本體擴散到電極反應(yīng)界面阻抗通常每一個界面之間都會存在一個電容。第17頁1
8、811.3 電荷傳遞過程控制EIS假如電極過程由電荷傳遞過程(電化學反應(yīng)步驟)控制,擴散過程引發(fā)阻抗能夠忽略,則電化學系統(tǒng)等效電路可簡化為:CdRctR等效電路阻抗:第18頁19jZ=實部:虛部:消去,整理得:圓心為 圓方程半徑為第19頁20電極過程控制步驟為電化學反應(yīng)步驟時, Nyquist 圖為半圓,據(jù)此能夠判斷電極過程控制步驟。從Nyquist 圖上能夠直接求出R和Rct。由半圓頂點可求得Cd。半圓頂點P處:0 ,ZReR 0,ZReR+RctP第20頁21注意: 在固體電極EIS測量中發(fā)覺,曲線總是或多或少偏離半圓軌跡,而表現(xiàn)為一段圓弧,被稱為容抗弧,這種現(xiàn)象被稱為“彌散效應(yīng)”,原因普
9、通認為同電極表面不均勻性、電極表面吸附層及溶液導(dǎo)電性差相關(guān),它反應(yīng)了電極雙電層偏離理想電容性質(zhì)。溶液電阻R除了溶液歐姆電阻外,還包含體系中其它可能存在歐姆電阻,如電極表面膜歐姆電阻、電池隔膜歐姆電阻、電極材料本身歐姆電阻等。第21頁2211.4 電荷傳遞和擴散過程混合控制EISCdRctRZW電極過程由電荷傳遞過程和擴散過程共同控制,電化學極化和濃差極化同時存在時,則電化學系統(tǒng)等效電路可簡單表示為:ZW平板電極上反應(yīng):第22頁23電路阻抗:實部:虛部:(1)低頻極限。當足夠低時,實部和虛部簡化為:消去,得:第23頁24Nyquist 圖上擴散控制表現(xiàn)為傾斜角/4(45)直線。(2)高頻極限。當
10、足夠高時,含-1/2項可忽略,于是:電荷傳遞過程為控制步驟時等效電路阻抗Nyquist 圖為半圓第24頁25假如緩蝕劑不參加電極反應(yīng),不產(chǎn)生吸附絡(luò)合物等中間產(chǎn)物,則它阻抗圖僅有一個時間常數(shù),表現(xiàn)為變形單容抗弧,這是因為緩蝕劑在表面吸附會使彌散效應(yīng)增大,同時也使雙電層電容值下降,其阻抗圖及其等效電路如圖。第25頁26涂裝金屬電極存在兩個容性時間常數(shù),一個時涂層本身電容,另外一個是金屬表面雙電層電容,阻抗圖上含有雙容抗弧,如圖所表示。等效電路中Ccoat為涂層本身電容,Rcoat為涂層電阻,Cdl為涂層下雙電層電容,當溶液經(jīng)過涂層滲透到金屬表面時,還會有電化學反應(yīng)發(fā)生,Rcorr為電極反應(yīng)阻抗。第
11、26頁27當金屬表面存在局部腐蝕(點腐蝕),點蝕可描述為電阻與電容串聯(lián)電路,其中電阻Rpit為蝕點內(nèi)溶液電阻,普通Rpit=1100之間。而是實際體系測得阻抗應(yīng)為電極表面鈍化面積與活化面積(即點蝕坑)界面阻抗并聯(lián)耦合。但因鈍化面積阻抗遠遠高于活化省得阻抗,因而實際上阻抗頻譜圖反應(yīng)了電極表面活化面積上阻抗,即兩個時間常數(shù)疊合在一起,表現(xiàn)為一個加寬容抗弧。其阻抗圖譜與等效電路如圖9所表示。第27頁28所謂半無限擴散過程,是指溶液中擴散區(qū)域,即在定態(tài)下擴散粒子濃度梯度為一定數(shù)值區(qū)域,擴散層厚度為無窮大,不過普通假如擴散層厚度大于數(shù)厘米后,即可認為滿足這一條件。此時法拉第阻抗就等于半無限擴散控制濃差極
12、化阻抗Zw與電極反應(yīng)阻抗Zf串聯(lián),其阻抗,電極反應(yīng)完全受擴散步驟控制,外加交流信號只會引發(fā)表面反應(yīng)粒子濃度波動,且電極表面反應(yīng)粒子濃度波動相位角恰好比交流電流落后45度,阻抗圖為45度角傾斜直線,如圖10所表示。假如法拉第阻抗中有Warburg阻抗,則Rp無窮大,但在腐蝕電位下,因為總法拉第阻抗是陽極反應(yīng)阻抗與陰極反應(yīng)阻抗并聯(lián),普通僅有陰極反應(yīng)有Zw,故此時總Rp應(yīng)為陽極反應(yīng)Rp1值,Zf仍為有限值。當電極表面存在較厚且致密鈍化膜時,因為膜電阻很大,離子遷移過程受到極大抑制,所以在低頻部分其阻抗譜也表現(xiàn)為一條45度傾角斜線。 第28頁29第29頁30一些吸附型物質(zhì)在電極表面成膜后,這層吸附層覆蓋于緊密雙電層之上,且其本身就含有一定容性阻抗Cf,它與電極表面雙電層串聯(lián)在一起組成含有兩個時間常數(shù)阻抗譜,其阻抗圖如圖13所表示。第30頁31當電極反應(yīng)出現(xiàn)中間產(chǎn)物時,這種中間產(chǎn)物吸附與金屬電極表面產(chǎn)生表面吸附絡(luò)合物,該表面絡(luò)合物產(chǎn)生于電極反應(yīng)第一步,而消耗于第二步反應(yīng),而普通情況下,吸附過程弛豫時間常數(shù)要比電雙層電容Cdl與Rt組成充放電過程弛豫時間常數(shù)RtCdl大多,所以在阻抗圖低頻
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