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1、DLAS技術(shù)原理培訓(xùn) 市場(chǎng)部-許鵬DLAS技術(shù)原理培訓(xùn) Copyright 2005 FPI inc, all right2產(chǎn)品基本情況 Copyright 2005 FPI inc, all right3吸收光譜技術(shù)吸收光譜技術(shù)半導(dǎo)體激光吸收光譜(DLAS)技術(shù) Copyright 2005 FPI inc, all right4吸收光譜技術(shù)E1E2光子能級(jí)躍遷能級(jí)的概念E2 - E1 = hn分子能量表現(xiàn)旋轉(zhuǎn)振動(dòng)電子躍遷 Copyright 2005 FPI inc, all right5分子光譜每?jī)蓚€(gè)能級(jí)對(duì)應(yīng)一根吸收譜線在低分辨率光譜上表現(xiàn)為譜帶 Copyright 2005 FPI i
2、nc, all right6濃度測(cè)量公式透過(guò)率曲線 測(cè)量基本公式吸收率absorbance關(guān)鍵因素F(Absorbance,T,P,L) Copyright 2005 FPI inc, all right7公式說(shuō)明在波長(zhǎng)一定的情況下,S線強(qiáng)由兩方面因素決定: 分子躍遷上,下能級(jí)的波函數(shù) 由分子結(jié)構(gòu)等性質(zhì)決定 分子的集居(Population) 與溫度相關(guān) Copyright 2005 FPI inc, all right8公式說(shuō)明線 型 函 數(shù) 產(chǎn)生原因:測(cè)不準(zhǔn)原理影響因素:溫度/壓力歸一性:面積不變 Copyright 2005 FPI inc, all right9DLAS技術(shù)DLASDi
3、ode Laser Absorption Spectroscopy 半導(dǎo)體激光吸收光譜與傳統(tǒng)吸收光譜相似,基于受激吸收效應(yīng)并遵循Beer Lambert公式采用半導(dǎo)體激光器為光源,并可采用調(diào)制吸收光譜技術(shù)(TDLAS)發(fā)展歷史: 上世紀(jì)六十年代,激光器發(fā)明 上世紀(jì)七、八十年代,激光吸收光譜技術(shù)逐步應(yīng)用于科學(xué)實(shí)驗(yàn)的精密測(cè)量 上世紀(jì)九十年代,半導(dǎo)體激光器和光纖元件大規(guī)模商用化 上世紀(jì)九十年代,歐美國(guó)家開始DLAS技術(shù)產(chǎn)業(yè)化研究 Copyright 2005 FPI inc, all right10DLAS技術(shù)使用半導(dǎo)體激光器作為光源單色性好,即光的波長(zhǎng)寬度窄。0.0001nm,傳統(tǒng)紅外光源一般在2
4、0-30nm左右可調(diào)制掃描絕大部分光屬于紅外區(qū)域,波長(zhǎng)范圍750-2000nm左右。激光波長(zhǎng)范圍 Copyright 2005 FPI inc, all right11小結(jié)基于吸收光譜技術(shù),直接測(cè)量的是吸收率濃度測(cè)量值和四個(gè)因素相關(guān):吸收率、溫度、壓力、光程光源是用半導(dǎo)體激光: 波段窄,可調(diào)制技術(shù)上的特點(diǎn)決定了安裝測(cè)量方式:原位測(cè)量 Copyright 2005 FPI inc, all right12原位分析L發(fā)射單元接收單元過(guò)程氣體中央分析儀器元半導(dǎo)體激光驅(qū)動(dòng)電路數(shù)據(jù)分析及控制數(shù)據(jù)采集 Copyright 2005 FPI inc, all right13原位分析 VS 采樣分析采樣分析獲
5、得樣本 預(yù)處理 分析眾多缺點(diǎn): 系統(tǒng)復(fù)雜、故障率高探頭腐蝕、堵塞長(zhǎng)時(shí)間滯后經(jīng)常性的標(biāo)定原位分析現(xiàn)場(chǎng)直接分析過(guò)程氣體針對(duì)測(cè)量工藝的定制化開發(fā) Copyright 2005 FPI inc, all right14原位測(cè)量必須解決三個(gè)問(wèn)題不受背景氣體交叉干擾 不受測(cè)量現(xiàn)場(chǎng)粉塵等顆粒物干擾不受氣體參數(shù)(溫度、壓力等)變化的影響 Copyright 2005 FPI inc, all right15“單線光譜”技術(shù)傳統(tǒng)光源波長(zhǎng)寬度激光器波長(zhǎng)寬度 單線光譜技術(shù)無(wú)交叉氣體干擾:激光譜寬非常窄(單色性好)激光頻率掃描范圍內(nèi)只有被測(cè)氣體吸收譜線 Copyright 2005 FPI inc, all righ
6、t16調(diào)制光譜技術(shù)半導(dǎo)體激光器調(diào)制特性 電流波長(zhǎng)調(diào)諧技術(shù) 抗粉塵測(cè)量相敏檢測(cè)技術(shù) 提高探測(cè)靈敏度 Copyright 2005 FPI inc, all right17環(huán)境因素修正測(cè)量氣體的溫度、壓力等環(huán)境參數(shù)影響氣體吸收譜線展寬通過(guò)展寬補(bǔ)償技術(shù)可進(jìn)行精確補(bǔ)償:?jiǎn)尉€光譜數(shù)據(jù)針對(duì)測(cè)量工藝的展寬補(bǔ)償 Copyright 2005 FPI inc, all right18 技術(shù)比較-傳統(tǒng)光譜技術(shù)指標(biāo)LGA-2000激光現(xiàn)場(chǎng)在線氣體分析儀傳統(tǒng)光譜在線氣體分析儀預(yù)處理系統(tǒng)不需要 必需測(cè)量方式現(xiàn)場(chǎng)、連續(xù)、實(shí)時(shí)測(cè)量采樣預(yù)處理后間斷測(cè)量氣體環(huán)境 高溫、高粉塵、高水分、高流速、強(qiáng)腐蝕等惡劣環(huán)境適應(yīng)能力強(qiáng) 只能測(cè)
7、量恒溫、恒壓、恒流、干燥及無(wú)粉塵的氣體 響應(yīng)速度快:僅取決于儀表響應(yīng)時(shí)間,20秒準(zhǔn)確性實(shí)地測(cè)量,氣體信息不失真;測(cè)量值為氣體線平均濃度;不受背景氣體、粉塵及氣體參數(shù)影響溶解吸附泄漏導(dǎo)致氣體信息失真;測(cè)量值為探頭位置局部濃度;背景氣體、粉塵及氣體參數(shù)影響測(cè)量的準(zhǔn)確性連續(xù)性連續(xù)測(cè)量間斷測(cè)量:反吹時(shí)無(wú)法測(cè)量可靠性無(wú)運(yùn)動(dòng)部件,可靠性高較多運(yùn)動(dòng)部件,可靠性低介質(zhì)干擾不受背景氣體交叉干擾;自動(dòng)修正粉塵及光學(xué)視窗污染干擾受背景氣體的交叉干擾,無(wú)法定量修正粉塵及光學(xué)視窗污染干擾尾氣排放無(wú),安全無(wú)污染有,危險(xiǎn)有污染標(biāo)定維護(hù)標(biāo)定:2次/年;維護(hù):(其他的電化學(xué)方法)氣相色譜:利用色譜柱進(jìn)行分離,進(jìn)行分析 Copyright 2005 FPI inc, all right20半導(dǎo)體激光器按激光器類型端面發(fā)射激光器(DFB, DBR)垂直腔表面發(fā)射激光器 (VCSEL)按激光的傳輸方式 光纖式非光纖式按測(cè)量氣體 測(cè)量O2 76X nm 波段(可見(jiàn)光) 測(cè)量CO,CO2 15XX nm 波段 測(cè)量HCL 17XXnm 波段
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