口腔修復(fù)學(xué)8-1全口義齒取無牙牙合印模課件

1、全口義齒取無牙牙合印模全口義齒取無牙牙合印模目的和要求掌握取無牙牙合印模的常用方法熟悉無牙牙合的解剖標志目的和要求掌握取無牙牙合印模的常用方法印模分類次數(shù):一次，二次張閉口：開口印模一般進行肌功能整 塑，臨床常用肌功能整塑：功能式和解剖式對粘膜壓力：壓力式非壓力式選擇性壓力式印模分類次數(shù):一次，二次取模前準備椅位調(diào)整：張口下頜平面與水平面平行，高度與工作者肘關(guān)節(jié)平行取模前準備椅位調(diào)整：張口下頜平面與水平面平行，高度與工作者肘取模前準備口腔檢查： 牙槽嵴豐滿度粘膜厚度系帶附麗解剖標志取模前準備口腔檢查：解剖標志牙槽嵴解剖標志牙槽嵴解剖標志口腔前庭：唇頰系帶，顴突，上頜結(jié)節(jié)，頰側(cè)翼緣區(qū)，遠中頰角區(qū)

2、解剖標志口腔前庭：唇頰系帶，顴突，上頜結(jié)節(jié)，頰側(cè)翼緣區(qū)，遠中唇系帶唇系帶唇系帶唇系帶頰系帶頰系帶頰系帶頰系帶顴突顴突上頜結(jié)節(jié)上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)翼緣區(qū)頰側(cè)翼緣區(qū)遠中頰角區(qū)遠中頰角區(qū)解剖標志口腔本部：切牙乳突，腭皺，上頜硬區(qū)，腭小凹，顫動線，腭穹隆，翼上頜切跡，舌系帶，下頜隆突，下頜舌骨嵴，舌側(cè)翼緣區(qū)，磨牙后墊解剖標志口腔本部：切牙乳突，腭皺，上頜硬區(qū)，腭小凹，顫動線，切牙乳突切牙乳突腭皺腭皺上頜硬區(qū)上頜硬區(qū)腭小凹腭小凹顫動線顫動線腭穹隆腭穹隆翼上頜切跡翼上頜切跡舌系帶舌系帶下頜隆突下頜隆突舌側(cè)翼緣區(qū)舌側(cè)翼緣區(qū)磨牙后墊磨牙后墊無牙牙合分區(qū)主承托區(qū)：副承托區(qū)：邊緣封閉區(qū)：軟組織部分，包括粘膜皺襞，系帶，上

3、頜后堤，下頜磨牙后墊緩沖區(qū)：上頜隆突，顴突，上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)，切牙乳突，下頜隆突，下頜舌骨嵴，骨突，骨棱無牙牙合分區(qū)主承托區(qū)：無牙牙合分區(qū)無牙牙合分區(qū)取模前準備托盤選擇： 寬度比牙槽嵴寬23，邊緣離開粘膜約2，系帶處有印跡上頜蓋過翼上頜切跡及顫動線下頜蓋過磨牙后墊取模前準備托盤選擇：取印模一次印模法二次印模法：個別托盤和終印模個別托盤： 直接法，組織面均勻刮除一 層，去除倒凹 間接法，自凝塑料，托盤邊緣比預(yù)先功能邊緣短12，托盤23厚 取印模一次印模法二次印模法取初印模肌功能整塑試托盤，取模二次印模法取初印模肌功能整塑試托盤，取模二次印模法初印模二次印模法初印模二次印模法灌制初印模二次印模法灌制初

4、印模二次印模法在初模型上畫標志線在粘膜轉(zhuǎn)折處畫虛線距虛線5畫實線二次印模法在初模型上畫標志線在粘膜轉(zhuǎn)折處畫虛線距虛線5畫實在初模型上畫標志線畫出中線，切牙乳突，上頜硬區(qū)，上頜結(jié)節(jié)，下頜同在初模型上畫標志線畫出中線，切牙乳突，上頜硬區(qū)，上頜結(jié)節(jié)，下二次印模法在模型組織面涂分離劑二次印模法在模型組織面涂分離劑二次印模法在已標識緩沖區(qū)貼蠟片緩沖二次印模法在已標識緩沖區(qū)貼蠟片緩沖二次印模法用蠟充填模型倒凹二次印模法用蠟充填模型倒凹二次印模法用自凝樹膠制作個別托盤二次印模法用自凝樹膠制作個別托盤二次印模法修整個別托盤，使邊緣位于實線處二次印模法修整個別托盤，使邊緣位于實線處二次印模法用整塑蠟粘于個別托盤邊緣，完成個別托盤制作二次印模法用整塑蠟粘于個別托盤邊緣，完成個別托盤制作二次印模法取終印模檢查個別托盤是否準確，逐段烤軟托盤邊緣紅蠟，放入口中逐段進行肌功能整塑二次印模法取終印模檢查個別托盤是否準確，逐段烤軟托盤邊緣紅蠟取終印模取終印模灌模與脫模與部分失牙印模的灌注和脫模同灌模與脫模與部分失牙印模的灌注和脫模同灌模與脫模灌模與脫模灌模與脫模后堤區(qū)處理：取終印模時后堤區(qū)加壓模型上刮除石膏形成：在顫動線處切一深度11.5的切跡，沿此切跡向前約5范圍內(nèi)，將石膏模型刮去一層，愈向前刮除愈少，使與上腭黏膜面移行灌模與脫模后堤區(qū)處理后堤區(qū)處理注意事項托盤選擇盡可能合適托盤進入口內(nèi)：