熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響課件

熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響指導(dǎo)老師：莊承鑫學(xué)生:奈米四甲49714047李庚桓

奈米四甲49714074詹凱捷

奈米四甲49714088鄭育叡

奈米四甲49714089王俊傑熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響指導(dǎo)老師：莊承鑫摘要使用到加熱器來維持三種應(yīng)力，此三種應(yīng)力為負(fù)載力、熱應(yīng)力、超聲波震動(dòng)。在超聲波成型過程中，在加熱器發(fā)展具有熱解石墨或熱解氮化硼。奈米材料選擇的是聚碳酸酯在溫度150℃產(chǎn)生塑料玻璃轉(zhuǎn)移點(diǎn)。超聲波振動(dòng)的效果在尺寸越小的情況下，真的提升成型過程中的精度。摘要使用到加熱器來維持三種應(yīng)力，此三種應(yīng)力為負(fù)載力、熱應(yīng)力、引言奈米壓印技術(shù)由S.Y.Chou於1995年提出。本來超聲波振動(dòng)被用來紓緩在脫模的步驟（2004年前田和蘆田）。引言奈米壓印技術(shù)由S.Y.Chou於1995年提出。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)採(cǎi)用電腦控制所有操作。底部加壓層是一種熱塑性板可加熱到最高溫度200℃還能承受到了5kN的最大負(fù)荷力。兩顆伺服馬達(dá)一個(gè)再上部加壓層控制X軸和Z軸方向，另一顆則在底部加壓層控制Y軸方向移動(dòng)。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)採(cǎi)用電腦控制所有操作。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的照片和規(guī)格超聲波奈米壓印系統(tǒng)的照片和規(guī)格內(nèi)部結(jié)構(gòu)使用壓電式超聲波發(fā)生器擁有19千赫的頻率和大輸出功率1,200W。超聲波振動(dòng)的振幅有10個(gè)階段設(shè)置。內(nèi)部結(jié)構(gòu)使用壓電式超聲波發(fā)生器擁有19千赫的超聲波振動(dòng)的振幅上部加壓層中心距離的超聲波振動(dòng)的振幅的測(cè)量結(jié)果。超聲波振動(dòng)的振幅上部加壓層中心距離的超聲波振動(dòng)的振幅的測(cè)量結(jié)實(shí)驗(yàn)過程a.熱壓印光刻b.超聲波奈米壓印實(shí)驗(yàn)過程a.熱壓印光刻不使用超聲波振動(dòng)的初步實(shí)驗(yàn)做法:矽模

加熱溫度：150℃

加熱溫度：180℃接觸力：100牛頓

接觸時(shí)間：10秒不使用超聲波振動(dòng)的初步實(shí)驗(yàn)做法:加熱溫度為180℃時(shí)。壓印的最大高度為1.18微米，最高的寬高比為1.06的情況下，此時(shí)最高的寬高比已下降到其原始值的五分之一。加熱溫度為180℃時(shí)。壓印的最大高度為1.18微米，最超聲波振動(dòng)時(shí)間點(diǎn)與接觸力的關(guān)係超聲波振動(dòng)時(shí)間點(diǎn)與接觸力的關(guān)係高振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.8微米（high-modelevel5）高振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.8微米（high-modelev熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響課件低振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.25微米（low-modelevel5）低振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.25微米（low-modelev熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響課件低振幅的超聲振動(dòng)在750nm和1μm線寬的圖形並未證實(shí)任何實(shí)質(zhì)性的變化。低振幅的超聲振動(dòng)的線寬為500nm的壓印圖案的呈現(xiàn)上升。低振幅的超聲振動(dòng)在750nm和1μm線寬的圖形並未證實(shí)任何實(shí)結(jié)論開發(fā)出超聲波奈米壓印系統(tǒng)，可以應(yīng)用超聲波振動(dòng)、熱應(yīng)力和負(fù)載力到成型過程中。為了克服超聲波振動(dòng)，將熱解石墨/熱解氮化硼所有功能設(shè)計(jì)到加熱器裡面上裝載機(jī)械應(yīng)力系統(tǒng)。為了管理和操作超聲波振動(dòng)準(zhǔn)確壓印的時(shí)機(jī)，控制超聲波的振動(dòng)發(fā)電裝置的方案進(jìn)行了改進(jìn)。振幅超聲波振動(dòng)的開始時(shí)間和超聲振動(dòng)是很重要的成型條件。在超聲振動(dòng)的印象開始的情況下接觸到了矽模具上面負(fù)載之前，成型精度有所改善和壓印種類的增加。發(fā)現(xiàn)壓印線寬和超聲波奈米壓印技術(shù)的振幅之間有重要關(guān)係。因此，超聲波振動(dòng)援助的效果表現(xiàn)出對(duì)奈米領(lǐng)域的貢獻(xiàn)應(yīng)用。結(jié)論開發(fā)出超聲波奈米壓印系統(tǒng)，可以應(yīng)用超聲波振動(dòng)、熱應(yīng)力和負(fù)熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響指導(dǎo)老師：莊承鑫學(xué)生:奈米四甲49714047李庚桓

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奈米四甲49714089王俊傑熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響指導(dǎo)老師：莊承鑫摘要使用到加熱器來維持三種應(yīng)力，此三種應(yīng)力為負(fù)載力、熱應(yīng)力、超聲波震動(dòng)。在超聲波成型過程中，在加熱器發(fā)展具有熱解石墨或熱解氮化硼。奈米材料選擇的是聚碳酸酯在溫度150℃產(chǎn)生塑料玻璃轉(zhuǎn)移點(diǎn)。超聲波振動(dòng)的效果在尺寸越小的情況下，真的提升成型過程中的精度。摘要使用到加熱器來維持三種應(yīng)力，此三種應(yīng)力為負(fù)載力、熱應(yīng)力、引言奈米壓印技術(shù)由S.Y.Chou於1995年提出。本來超聲波振動(dòng)被用來紓緩在脫模的步驟（2004年前田和蘆田）。引言奈米壓印技術(shù)由S.Y.Chou於1995年提出。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)採(cǎi)用電腦控制所有操作。底部加壓層是一種熱塑性板可加熱到最高溫度200℃還能承受到了5kN的最大負(fù)荷力。兩顆伺服馬達(dá)一個(gè)再上部加壓層控制X軸和Z軸方向，另一顆則在底部加壓層控制Y軸方向移動(dòng)。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)採(cǎi)用電腦控制所有操作。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的照片和規(guī)格超聲波奈米壓印系統(tǒng)的照片和規(guī)格內(nèi)部結(jié)構(gòu)使用壓電式超聲波發(fā)生器擁有19千赫的頻率和大輸出功率1,200W。超聲波振動(dòng)的振幅有10個(gè)階段設(shè)置。內(nèi)部結(jié)構(gòu)使用壓電式超聲波發(fā)生器擁有19千赫的超聲波振動(dòng)的振幅上部加壓層中心距離的超聲波振動(dòng)的振幅的測(cè)量結(jié)果。超聲波振動(dòng)的振幅上部加壓層中心距離的超聲波振動(dòng)的振幅的測(cè)量結(jié)實(shí)驗(yàn)過程a.熱壓印光刻b.超聲波奈米壓印實(shí)驗(yàn)過程a.熱壓印光刻不使用超聲波振動(dòng)的初步實(shí)驗(yàn)做法:矽模

加熱溫度：150℃

加熱溫度：180℃接觸力：100牛頓

接觸時(shí)間：10秒不使用超聲波振動(dòng)的初步實(shí)驗(yàn)做法:加熱溫度為180℃時(shí)。壓印的最大高度為1.18微米，最高的寬高比為1.06的情況下，此時(shí)最高的寬高比已下降到其原始值的五分之一。加熱溫度為180℃時(shí)。壓印的最大高度為1.18微米，最超聲波振動(dòng)時(shí)間點(diǎn)與接觸力的關(guān)係超聲波振動(dòng)時(shí)間點(diǎn)與接觸力的關(guān)係高振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.8微米（high-modelevel5）高振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.8微米（high-modelev熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響課件低振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.25微米（low-modelevel5）低振幅超聲波振動(dòng)幅度為1.25微米（low-modelev熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動(dòng)影響課件低振幅的超聲振動(dòng)在750nm和1μm線寬的圖形並未證實(shí)任何實(shí)質(zhì)性的變化。低振幅的超聲振動(dòng)的線寬為500nm的壓印圖案的呈現(xiàn)上升。低振幅的超聲振動(dòng)在750nm和1μm線寬的圖形並未證實(shí)任何實(shí)結(jié)論開發(fā)出超聲波奈米壓印系統(tǒng)，可以應(yīng)用超聲波振動(dòng)、熱應(yīng)力和負(fù)載力到成型過程中。為了克服超聲波振動(dòng)，將熱解石墨/熱解氮化硼所有功能設(shè)計(jì)到加熱器裡面上裝載機(jī)械應(yīng)力系統(tǒng)。為了管理和操作超聲波振動(dòng)準(zhǔn)確壓印的時(shí)機(jī)，控制超聲波的振動(dòng)發(fā)電裝置的方案進(jìn)行了