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PAGEPAGE7是非題(對(duì)著畫“○”錯(cuò)者畫“×”每題1.5分,共計(jì)30分)1.原子核的總質(zhì)量總是大于它的組成部分的質(zhì)量和。 (×)2.γ衰變是放射性衰變的主要模式之一。 (○)3.連續(xù)譜的最短波長(zhǎng)λmin,不但與靶的材料有關(guān),而且與外加管電壓有關(guān)。 (×)4.衰變常數(shù)λ反映了放射性物質(zhì)的固有特性,λ值越大說明該物質(zhì)越不穩(wěn)定,衰變得越快。 (○)5.對(duì)窄束單色X射線,衰減系數(shù)μ是一常量,而對(duì)多色寬束X射線,衰減系數(shù)μ是一變量。 (○)6.放射性活度大的源其輻射的γ射線強(qiáng)度也必然大。 (×)7.陽極罩的主要作用是吸收二次電子和部分散亂射線。 (○)8.對(duì)錐靶周向X射線管一般采用旋轉(zhuǎn)陽極自然冷卻方式。 (×)9.一般情況下,膠片感光速度越高,射線照相影像的顆粒性就越不明顯。 (×)10.定影液老化和水洗不徹底都會(huì)導(dǎo)致底片長(zhǎng)期保存后出現(xiàn)泛黃的現(xiàn)象。 (○)11.從非增感型膠片的特性曲線上可以看到曝光遲鈍區(qū)、曝光不足區(qū)、曝光正常區(qū),但無法看到曝光過度區(qū)。 (○)12.膠片的感光速度與鹵化銀的顆粒度和射線的強(qiáng)度有關(guān),與射線的能量無關(guān)。 (×)13.當(dāng)管電壓較高時(shí),增感系數(shù)隨增感屏金屬材料的原子序數(shù)的增大而減小。 (×)14.當(dāng)采用Ir192射線照像時(shí),可以在工件和膠片暗盒之間加厚度為0.1mm左右的濾板,這樣做的目的是過濾工件中產(chǎn)生的低能散射線。 (○)15.當(dāng)裂紋橫向尺寸大大小于焦點(diǎn)尺寸時(shí),裂紋截面的面積大小對(duì)其影像對(duì)比度有很大影響。 (○)16.當(dāng)使用X射線照相時(shí),射線底片上各點(diǎn)的Ug值是不相同的。 (○)17.幾何修正系數(shù)σ值越小,意味著幾何條件對(duì)底片上小缺陷影像對(duì)比度的影響越大。 (○)18.主因?qū)Ρ榷仍龃蟛⒉荒苁鼓z片梯噪比提高。 (○)19.顯影液的pH值不僅影響顯影的速度而且還影響影像的顆粒度。 (○)20.輻射防護(hù)中隨機(jī)性效應(yīng)是指發(fā)生幾率與劑量無關(guān)而嚴(yán)重程度與劑量有關(guān)的輻射效應(yīng)。 (×)二、選擇題(將唯一正確答案的序號(hào)填入括號(hào)內(nèi),每題2分,共計(jì)30分)1、X射線管的陽極特性是指(D)A、X射線管的管電流與燈絲電流的關(guān)系B、X射線管的管電壓與外接電壓的關(guān)系C、X射線管的管電壓與管電流的關(guān)系D、X射線管的管電流與燈絲溫度的關(guān)系2、下面是關(guān)于瑞利散射的敘述,正確的是(D)A、瑞利散射是康普頓散射在低能范圍的特殊表現(xiàn)形式B、瑞利散射不僅改變光子的能量,也改變光子的運(yùn)動(dòng)方向C、瑞利散射發(fā)生的幾率隨原子序數(shù)的增大而減小D、瑞利散射發(fā)生的幾率隨光子能量的減小而急劇減小3、下面是關(guān)于寬容度的敘述,錯(cuò)誤的是(D)C、寬容度的大小與膠片梯度有關(guān)D、寬容度的大小與底片信噪比有關(guān)4、膠片鹵化銀粒度一般不會(huì)影響(B)A、感光度B、對(duì)比度C、分辨率D、信噪比5、下面哪一條不是影響膠片對(duì)比度的重要因素?(C)A、膠片的種類B、底片的黑度C、增感方式D、顯影條件6、決定點(diǎn)狀小缺陷影像對(duì)比度的最主要因素是(C)A、小缺陷高度B、小缺陷截面積C、小缺陷體積D、以上都是A、清除膠片表面的塵埃防止顯影時(shí)劃傷底片B、使膠片表面潤(rùn)濕,避免膠片表面有氣泡造成顯影不均勻C、可以避免干燥后的底片出現(xiàn)水跡D、以上都是8、對(duì)大厚度比試件透照時(shí),采用的特殊技術(shù)措施一般包括(D)A、適當(dāng)提高管電壓技術(shù)B、雙膠片技術(shù)C、補(bǔ)償技術(shù)D、以上都是9、下面關(guān)于顆粒性的敘述,錯(cuò)誤的是(B)A、顆粒性隨感光速度的增大而增大B、顆粒性隨射線能量的增大而減小C、顆粒性隨曝光量的增大而減小D、顆粒性隨底片黑度的增大而減小10、下面關(guān)于數(shù)字平板照相技術(shù)特點(diǎn)的敘述,錯(cuò)誤的是(B)A、數(shù)字平板照相所需曝光時(shí)間比膠片照相短B、數(shù)字平板照相的圖象質(zhì)量比膠片照相好C、數(shù)字平板照相的成本比膠片照相高D、數(shù)字平板照相受溫度影響比膠片照相大11、A、為獲得最小Ug值,膠片的各個(gè)部位應(yīng)盡量與焊縫緊貼B、為增大透照厚度寬容度,可采用雙膠片照相技術(shù)C、可適當(dāng)提高管電壓,必要時(shí)從不同方向進(jìn)行透照D、以上都是12、影響高能射線照相清晰度的主要因素是()A、幾何不清晰度B、固有不清晰度C、散射比D、以上都是13、某組織受到X射線的照射,如在30s內(nèi)當(dāng)量劑量的增量為0.8mSv,該組織的當(dāng)量劑量率是(C)A、2.7mSv·s-1B、0.27mSv·s-1C、0.027mSv·s-1D、0.0027mSv·s-114、W′與以下哪一因素?zé)o關(guān)?(C)A、缺陷到膠片距離L2B、焦點(diǎn)到缺陷距離L1C、缺陷寬度wD、焦點(diǎn)尺寸df15、為確保射線檢測(cè)新技術(shù)、新工藝的可靠性,應(yīng)采取的主要措施是()A、必須采用高類別的膠片B、必須采用最佳的透照布置C、必須通過必要的工藝評(píng)定和鑒定D、以上都是三、問答題(每題5分,共計(jì)25分)1、什么叫連續(xù)X射線的有效能量?為什么連續(xù)X射線穿透物質(zhì)后有效能量會(huì)增加?答:(1)如果某一單能射線的吸收系數(shù)與連續(xù)X射線在特定厚度范圍內(nèi)平均吸收系數(shù)相等,便可用此單能射線的能量來表示連續(xù)X射線的平均能量,稱作有效能量。(2)連續(xù)X射線包含有能量不同的光子,在穿透物質(zhì)過程中,能量較低的光子較容易被物質(zhì)吸收,因此,在射線透過物質(zhì)后,不同能量射線所占有的強(qiáng)度比率發(fā)生變化,低能射線所占比率減少,從而使透過射線的平均能量或有效能量增大2、簡(jiǎn)述透照厚度對(duì)裂紋檢出率的影響?答:(1)對(duì)比度方面:為透照厚度大的工件,就要選擇更高能量的射線,同時(shí)散射比隨工件厚度增加而增加,而射線能量越高,散射比越大,射線照相的對(duì)比度越低。(2)清晰度方面:幾何不清晰度與工件厚度成正比,固有不清晰度隨能量的增大而增大。(3)顆粒度方面:射線能量增大,顆粒度也要增大。(4)工件幾何條件方面:工件越厚,工件-膠片距離L2越大,而源-工件的表面距離L1收到限制,不可能很大,這就使W′值增大,而W′值增大后,可檢出的裂紋的寬度W也增大。綜上所述工件的厚度越大,裂紋的檢出率越低
3、就像質(zhì)計(jì)金屬絲的底片對(duì)比度公式討論提高對(duì)比度的主要途徑,并說明通過這些途徑提高對(duì)比度可能會(huì)給檢測(cè)工作帶來什么不利影響?答:像質(zhì)計(jì)金屬絲的底片對(duì)比度公式;ΔD=-0.434μGσ·d/(1+n)提高對(duì)比度可能會(huì)帶來的缺點(diǎn)(1)增大μ值;在保證射線能穿透工件的前提下,盡量采用較低的射線能量,但是這樣會(huì)增加曝光時(shí)間。(2)提高G值;可選用G值高的細(xì)顆粒膠片,由于非增感型膠片的G值與黑度成正比,也可以通過提高黑度來增加G值,但高G值的細(xì)顆粒膠片感光速度較慢,也會(huì)增加曝光時(shí)間。提高黑度也要增加曝光時(shí)間,此外,黑度的提高會(huì)增大最小可見對(duì)比度ΔDmin,對(duì)靈敏度產(chǎn)生不利的影響。(3)提高σ值;可選用小焦點(diǎn)的射線源,或增大焦距,這樣也會(huì)使曝光時(shí)間延長(zhǎng)。(4)減小n值;要減少散射線,就要使用鉛窗口與鉛屏蔽,這樣也會(huì)降低工作效率,使曝光時(shí)間延長(zhǎng)。4、射線照相選擇透照方式時(shí),應(yīng)考慮的主要因素有哪些?答:主要有;(1)透照靈敏度;(2)缺陷的檢出特點(diǎn);(3)透照厚度差和橫向裂紋檢出角;(4)一次透照長(zhǎng)度;(5)操作的方便性;(6)試件及探傷設(shè)備具體情況。
5、申請(qǐng)開展射線裝置工作的單位必須具備哪些基本條件?答:(1)具有與所從事的放射工作相適應(yīng)的場(chǎng)所、設(shè)施和裝備,并提供相應(yīng)的資料。(2)從事放射工作的人員必須具備相應(yīng)的專業(yè)及防護(hù)知識(shí)和健康條件、并提高相應(yīng)的證明材料。(3)有專職、兼職放射防護(hù)管理機(jī)構(gòu)或者人員以及必要的防護(hù)用品和監(jiān)測(cè)儀器,并提交人員名單和設(shè)備清單。(4)提交嚴(yán)格的有關(guān)安全防護(hù)管理規(guī)章制度的文件四、計(jì)算題(共計(jì)15分)3.63.9lgE2.53.63.9lgE2.51.5D解:(1)黑度變化時(shí)曝光量的變化由圖可知lgE1.5=3.6lgE2.5=3.9lgE2.5-lgE1.5=3.9-3.6=0.3所以E2.5/E1.5=100.3=2(2)焦距變化時(shí)曝光量的變化根據(jù)平方反比定律E700/E2.5=(F2/F1)2=(700/600)21.36(3)總曝光量的變化E700/E1.5=(E2.5/E1.5)×(E700/E2.5)=E1.5×2×1.36=2.72(4)曝光時(shí)間t700=(E700/E1.5)t=2.72×3min=8.16min
2、測(cè)得距源14米處的照射率為108μSv/h,欲使照射率減少至25μSv/h,問離源的距離應(yīng)為多少?若采用鉛板進(jìn)行屏蔽,則鉛板厚度應(yīng)為多少?(已知該能量射線的鉛半價(jià)層T1/2=0.5cm)(5分)解:(1)由公式D1R12=D2R22得R2=(D1R12/D2)1/2=(108×142/25)1/2=29.1(米)(2)D1/D2=108/25=4.32令2n=4.32nlg2=lg4.32=0.635n=0.635/lg2=2.11則d=n·T1/2=2.11×0.5=1.05(cm)3、假設(shè)X射線機(jī)、管電壓、管電流、透照布置、膠片型號(hào)、增感方式、顯影條件及試件厚度均不變,將像質(zhì)計(jì)放在試件上用t1分的曝光時(shí)間透照時(shí),直徑d1的金屬絲在底片上的像質(zhì)計(jì)對(duì)比度為ΔD1
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