12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目

SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司技改項(xiàng)目環(huán)?！叭瑫r(shí)”竣工驗(yàn)收材料第頁(yè)共296頁(yè)建設(shè)項(xiàng)目環(huán)?！叭瑫r(shí)”竣工驗(yàn)收監(jiān)測(cè)報(bào)告項(xiàng)目名稱：SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目建設(shè)單位：SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司無(wú)錫新區(qū)環(huán)境監(jiān)測(cè)中心上海華測(cè)品標(biāo)檢測(cè)技術(shù)有限公司編制日期：承擔(dān)單位：無(wú)錫新區(qū)環(huán)境監(jiān)測(cè)中心協(xié)助單位：上海華測(cè)品標(biāo)檢測(cè)技術(shù)有限公司編制:審核:簽發(fā):上海華測(cè)品標(biāo)檢測(cè)技術(shù)有限公司電話真編:201206地址:上海市浦東新區(qū)新金橋路1996號(hào)目錄一、前言 23二、驗(yàn)收監(jiān)測(cè)依據(jù) 24三、建設(shè)項(xiàng)目工程概況 253.1項(xiàng)目建設(shè)情況表 253.2驗(yàn)收項(xiàng)目建設(shè)內(nèi)容表 253.3主要原輔材料消耗一覽表 263.4主要生產(chǎn)設(shè)備情況一覽表 283.5固體廢物情況一覽表 29四、環(huán)評(píng)結(jié)論和批復(fù)意見(jiàn) 314.1技改項(xiàng)目環(huán)評(píng)結(jié)論 314.2建議與要求 344.3環(huán)保局批復(fù)意見(jiàn) 35五、生產(chǎn)工藝、污染物排放及防治措施 375.1生產(chǎn)工藝流程 375.2污染物排放及防治措施 48六、驗(yàn)收監(jiān)測(cè)評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn) 566.1廢水排放標(biāo)準(zhǔn) 566.2廢氣排放標(biāo)準(zhǔn) 586.3廠界噪聲排放標(biāo)準(zhǔn) 60七、驗(yàn)收監(jiān)測(cè)內(nèi)容 617.1廢水監(jiān)測(cè) 617.2廢氣監(jiān)測(cè) 617.3噪聲監(jiān)測(cè) 62八、監(jiān)測(cè)分析方法及質(zhì)量保證 63九、監(jiān)測(cè)期間工況及說(shuō)明 68十、監(jiān)測(cè)結(jié)果 6910.1水質(zhì)監(jiān)測(cè)結(jié)果 6910.2工業(yè)廢氣監(jiān)測(cè)結(jié)果 7610.3廠界噪聲監(jiān)測(cè)結(jié)果 9410.4廢氣復(fù)測(cè)結(jié)果 9510.5污染物排放總量核算 99十一、環(huán)境管理檢查 104十二、批復(fù)意見(jiàn)落實(shí)情況 105十三、驗(yàn)收監(jiān)測(cè)結(jié)論和建議 107一、前言SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司（原名海力士—意法半導(dǎo)體有限公司成立于2004年，后于2008年3月28日更名為海力士—恒憶半導(dǎo)體有限公司，于2010年更名為海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司，于2012年更名為SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司）。現(xiàn)位于江蘇省無(wú)錫高新區(qū)綜合保稅區(qū)K7地塊。為提高產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力，SK海力士半導(dǎo)體(中國(guó))有限公司擬進(jìn)行產(chǎn)品升級(jí)，產(chǎn)品線寬由20nm升級(jí)到10nm級(jí)，本項(xiàng)目建成后，全廠將形成總產(chǎn)量135K片/月（其中10nm級(jí)產(chǎn)品83K片/月，20nm級(jí)52K片/月）。SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目于2015年10月由江蘇省環(huán)科咨詢股份有限公司完成環(huán)境影響評(píng)價(jià)。無(wú)錫市環(huán)保局于2015年10月28日對(duì)環(huán)評(píng)報(bào)告書進(jìn)行審批。試生產(chǎn)期間本項(xiàng)目各類設(shè)施運(yùn)行穩(wěn)定，目前生產(chǎn)能力已達(dá)到75%，具備了“三同時(shí)”驗(yàn)收監(jiān)測(cè)條件。根據(jù)國(guó)家環(huán)?？偩值?3號(hào)令《建設(shè)項(xiàng)目竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收管理辦法》等有關(guān)文件的要求，受SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司的委托，上海華測(cè)品標(biāo)檢測(cè)技術(shù)有限公司于2016年06月13~17/21~22日、2016年07月11日~2016年07月14日、2016年08月09日~2016年08月10日對(duì)驗(yàn)收項(xiàng)目中的廢水、廢氣、噪聲等污染物排放現(xiàn)狀和各類環(huán)保設(shè)施的處理能力進(jìn)行了現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)測(cè)，根據(jù)監(jiān)測(cè)結(jié)果及現(xiàn)場(chǎng)管理檢查情況，編制了本項(xiàng)目竣工環(huán)保驗(yàn)收監(jiān)測(cè)報(bào)告，為本項(xiàng)目竣工環(huán)保驗(yàn)收及環(huán)境管理提供科學(xué)依據(jù)。二、驗(yàn)收監(jiān)測(cè)依據(jù)《建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境保護(hù)管理?xiàng)l例》（國(guó)務(wù)院令第253號(hào)）《建設(shè)項(xiàng)目竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收管理辦法》（國(guó)家環(huán)保總局第13號(hào)令2001年12月）《江蘇省排污口設(shè)置及規(guī)范化整治管理辦法》（江蘇省環(huán)保局，蘇環(huán)控[97]122號(hào)文）《江蘇省排放污染物總量控制暫行規(guī)定》（江蘇省政府[1993]第38號(hào)令）《江蘇省環(huán)境保護(hù)工程（設(shè)施）竣工驗(yàn)收辦法》（省環(huán)委會(huì)蘇環(huán)委[94]12號(hào))《SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目環(huán)境影響報(bào)告書》（江蘇省環(huán)科咨詢股份有限公司2015年10月）無(wú)錫市環(huán)保局對(duì)《SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目環(huán)境影響報(bào)告書》的審批意見(jiàn)（2015年10月28日）《SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目驗(yàn)收監(jiān)測(cè)方案》（上海華測(cè)品標(biāo)檢測(cè)技術(shù)有限公司，2016年05月23日）SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司提供的基礎(chǔ)數(shù)據(jù)三、建設(shè)項(xiàng)目工程概況本項(xiàng)目具體地理位置見(jiàn)附圖一，項(xiàng)目周圍環(huán)境概況圖見(jiàn)附圖二，平面布置圖見(jiàn)附圖三，工程建設(shè)情況見(jiàn)表3-1，建設(shè)內(nèi)容見(jiàn)表3-2，原輔材料用量見(jiàn)表3-3，主要生產(chǎn)設(shè)備情況見(jiàn)表3-4。3.1項(xiàng)目建設(shè)情況表表3-1項(xiàng)目建設(shè)情況表序號(hào)項(xiàng)目執(zhí)行情況1立項(xiàng)/2環(huán)評(píng)于2015年10月由江蘇省環(huán)科咨詢股份有限公司完成報(bào)告書3環(huán)評(píng)批復(fù)無(wú)錫市環(huán)保局于2015年10月28日對(duì)報(bào)告書予以批復(fù)4項(xiàng)目建設(shè)規(guī)模全廠總產(chǎn)量135K片/月（其中10nm級(jí)產(chǎn)品83K片/月，20nm級(jí)52K片/月）5項(xiàng)目開(kāi)工建設(shè)時(shí)間及竣工時(shí)間6試生產(chǎn)時(shí)間2016年5月7現(xiàn)場(chǎng)查看時(shí)項(xiàng)目實(shí)際建設(shè)情況生產(chǎn)能力已經(jīng)達(dá)到驗(yàn)收規(guī)模的75%以上，環(huán)保設(shè)施已建成，具備“三同時(shí)”驗(yàn)收監(jiān)測(cè)條件3.2驗(yàn)收項(xiàng)目建設(shè)內(nèi)容表表3-2驗(yàn)收項(xiàng)目建設(shè)內(nèi)容表序號(hào)類型項(xiàng)目環(huán)評(píng)/初級(jí)審批內(nèi)容實(shí)際建設(shè)1建設(shè)規(guī)模全廠總產(chǎn)量135K片/月（其中10nm級(jí)產(chǎn)品83K片/月，20nm級(jí)52K片/月）全廠總產(chǎn)量135K片/月（其中10nm級(jí)產(chǎn)品83K片/月，20nm級(jí)52K片/月）2產(chǎn)品類型集成電路制造C4053集成電路制造C40533職工人數(shù)本次技改不新增職工人數(shù)本次技改不新增職工人數(shù)4工作班次24小時(shí)運(yùn)作，年工作365天24小時(shí)運(yùn)作，年工作365天3.3主要原輔材料消耗一覽表本項(xiàng)目主要原輔料消耗表見(jiàn)表3-3。表3-3本項(xiàng)目主要原輔料消耗表序號(hào)原輔材料種類單位“環(huán)評(píng)”消耗量實(shí)際消耗量1硅片片162萬(wàn)138萬(wàn)2ACT-935（單乙醇胺(50～60%)；羥胺(10～20%)）t/a138.354114.8333BOELAL15（BOE緩沖蝕刻液）(300:1,SA-X,200KG/DR)NH4F氟化銨(16.7～17.3%)；HF氟化氫(0.06%)t/a6760.23765704BOELAL1400（BOE緩沖蝕刻液）(SAX200KG/DR)NH4F氟化銨(19.7～20.3%)；HF氟化氫(3.8～4.2%)t/a391.6943655H2O2過(guò)氧化氫t/a4238.46640156H2SO4硫酸t(yī)/a11454.22276657H3PO4磷酸t(yī)/a1423.01912418HF(49%)SA氟化氫t/a79.061609HF(49%)SAX氟化氫t/a430.85443810HNO3(硝酸)t/a1194.837959.9511IPA(異丙醇)t/a1099.605812.512NH4OH氫氧化銨t/a1049.234985.513OXIDESLURRY(SS-25)氧化研磨液SiO2（12.0±1.0%）二氧化硅、KOH(1.0±0.5%)氫氧化鉀t/a734.404587.5214研磨液t/a2503.583197115光刻膠去除劑t/a588.612512.0916硫酸銅t/a18.77114.6170.5%氧氣和氦氣的混合氣t/a0.4380.438181%磷化氫和氦氣的混合氣t/a0.2970.2971915%二硼烷與氫氣混合氣t/a276.012220.8120氨氣t/a110.572110.57221八氟環(huán)丁烷t/a9.9189.91822吡啶t/a55.55155.55123丙烯t/a23.86123.86124氮?dú)鈚/a0.3270.32725二氟甲烷t/a1.2971.29726二氯硅烷t/a11.07811.07827二氧化碳t/a14.22114.22128反式1，2-二氯乙烯t/a0.2150.21529氟化硫t/a20.92620.92630氟化硼t/a0.6960.69631氟甲烷t/a0.2390.23932氟氪氖混合氣t/a0.7620.76233硅烷t/a34.81834.81834氦氣t/a0.2680.26835氦氣和氮?dú)獾幕旌蠚鈚/a2.8232.82336己烯t/a1.9491.94937甲烷t/a0.1180.11838氪氖混合氣t/a0.1020.10239磷化氫t/a0.0480.04840六氟-1,3-丁二烯t/a6.3316.33141六氟化鎢t/a71.04371.04342六氟乙烷t/a0.8860.88643六氯乙硅烷t/a23.21223.21244氯氣t/a15.03515.03545氫氦混合氣t/a0.0210.02146氟化氫t/a2.2952.29547氫氣二氧化碳混合氣t/a0.0010.00148全氟丙烷t/a4.5684.56849三氟化氮t/a391.122391.12250三氟化氯t/a3.3063.30651三氟化硼t/a0.0290.02952三氟甲烷t/a16.98716.98753三甲基化鋁t/a0.3250.32554三氯化硼t/a6.0676.06755三氯化硼氮?dú)饣旌蠚鈚/a0.3710.37156三氧乙基硼t/a0.7030.70357三乙基氧化磷t/a1.9341.93458砷化氫t/a0.0720.07259四氟甲烷t/a33.76333.76360四氯化碳t/a17.56717.56761四氧乙基硅t/a138.481138.48162氙氣t/a3.9883.98863溴化氫t/a12.39712.39764氬氖混合氣t/a0.9970.99765氬氙氖混合氣t/a6.3466.34666氬氣t/a0.0280.02867氧硫化碳t/a0.7030.70368一氧化氮t/a88.31188.31169一氧化碳t/a0.3190.31970乙硅烷t/a0.0180.01871乙硼烷t/a1.4791.47972乙炔t/a6.9246.92473有機(jī)硅烷t/a5.3995.39974鍺烷氫混合氣t/a1.0331.03375四氟化鍺t/a0.0080.00876銅靶材99%Cut/a13.13913.13977THINNER六甲基二硅烷胺t/a6679.0845343.2778POLYMIDE聚酰亞胺t/a14.43814.43879P/R感光乳液t/a417.108417.10880DEVELOP（四甲基氫氧化胺20%)t/a1964.7361670.7881N2O（一氧化二氮）t/a92.098082TiCl（四氯化鈦）t/a6.466.4683銅環(huán)t/a0.530.533.4主要生產(chǎn)設(shè)備情況一覽表 本項(xiàng)目主要設(shè)備情況見(jiàn)表3-4。表3-4本項(xiàng)目主要生產(chǎn)設(shè)備情況一覽表序號(hào)名稱型號(hào)“環(huán)評(píng)”情況實(shí)際情況單位1掃描曝光機(jī)21KW4345臺(tái)2掩膜版儲(chǔ)存機(jī)76KW22臺(tái)3涂膠顯影機(jī)25KW9995臺(tái)4步進(jìn)式光刻機(jī)26KW1315臺(tái)5KLAOVERLAY套刻機(jī)26KW45臺(tái)6掩膜版交換機(jī)26KW11臺(tái)7掩膜版檢測(cè)機(jī)26KW11臺(tái)8光學(xué)刻錄機(jī)38KW2321臺(tái)9擴(kuò)散爐99KW344343臺(tái)10大束流離子注入機(jī)21KW5557臺(tái)11中束流離子注入機(jī)21KW1616臺(tái)12高能量離子注入21KW2323臺(tái)13SingleClean單片清洗機(jī)36KW4845臺(tái)14WetStation清洗站36KW2019臺(tái)15多晶硅刻蝕機(jī)16KW185179臺(tái)16氧化物刻蝕機(jī)96KW6063臺(tái)17金屬刻蝕機(jī)68KW3736臺(tái)18去膠機(jī)37KW6468臺(tái)19化學(xué)氣相沉積設(shè)備47KW167159臺(tái)20物理氣相沉積設(shè)備54KW1919臺(tái)21化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)18KW3736臺(tái)22電鍍機(jī)30KW33臺(tái)3.5固體廢物情況一覽表本項(xiàng)目固體廢物情況見(jiàn)表3-5。表3-5本項(xiàng)目固體廢物情況一覽表序號(hào)固體廢物的種類處置單位環(huán)評(píng)審批量（t/a）實(shí)際轉(zhuǎn)移量（t/a）1BOE無(wú)錫中天固廢處置有限公司11471.599893.672H2SO45435.876031.028（含再利用）3H3PO41723.391422.754HNO31724.251546.565硫酸銨3776.273150.626ACT-935521.57473.657THINNER5341.483533.38IPA573.18653.969SOG304.25202.2810廢油宜興市金科桶業(yè)有限公司2012.8411200L空桶江陰中鑫資源再生有限公司1401.23（95000個(gè)）800（52000個(gè)）12含銅廢液外售128.8488.7813廢銅靶材5.9395.93914廢銅盤無(wú)錫市工業(yè)廢物安全處置有限公司0.4240.42415油漆桶2013.616涂料廢物50（非定期產(chǎn)生）17沾染化學(xué)品雜物2003.8（非定期產(chǎn)生）18廢合成樹(shù)脂20068.2319廢溶劑空瓶239.36254.8520廢活性炭601821廢吸附劑無(wú)錫市固廢環(huán)保處置有限公司25053.3722含銅污泥120（未產(chǎn)生）23含砷廢物10（未產(chǎn)生）24汞燈宜興蘇南固廢處置有限公司8噸/年（30000支）10.01噸/年（30000支）非定期產(chǎn)生25鉛酸蓄電池如皋市天鵬冶金有限公司200431.6（非定期產(chǎn)生）26無(wú)塵服無(wú)錫添源環(huán)?？萍加邢薰?04.61(非定期產(chǎn)生)27無(wú)塵鞋/手套等2028污泥江蘇聚慧科技有限公司1000010323.0129生活垃圾無(wú)錫市科信城市建設(shè)技術(shù)有限公司25002050.39四、環(huán)評(píng)結(jié)論和批復(fù)意見(jiàn)4.1技改項(xiàng)目環(huán)評(píng)結(jié)論1、項(xiàng)目符合國(guó)家的產(chǎn)業(yè)政策本項(xiàng)目符合《外商投資產(chǎn)業(yè)指導(dǎo)目錄（2015年修訂）》的要求；《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄（2011年本）（修正）》的要求；符合《江蘇省工業(yè)和信息產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄（2012年本）》及《關(guān)于修改〈江蘇省工業(yè)和信息產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄（2012年本）〉部分條目的通知》的要求；符合《無(wú)錫市人民政府辦公室關(guān)于轉(zhuǎn)發(fā)市經(jīng)信委無(wú)錫市制造業(yè)轉(zhuǎn)型發(fā)展指導(dǎo)目錄（2012年本）的通知》的要求；符合《當(dāng)前優(yōu)先發(fā)展的高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化重點(diǎn)領(lǐng)域指南（2011年度）》的要求；符合《鼓勵(lì)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策》的要求。因此本項(xiàng)目的建設(shè)符合國(guó)家及地方產(chǎn)業(yè)政策的相關(guān)要求。2、項(xiàng)目選址相符性分析本項(xiàng)目符合《無(wú)錫市總體規(guī)劃(2002—2020)》的相關(guān)要求；符合《無(wú)錫新區(qū)總體發(fā)展規(guī)劃》的相關(guān)要求；符合《無(wú)錫國(guó)家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)發(fā)展規(guī)劃環(huán)境影響報(bào)告書》及其審查意見(jiàn)的相關(guān)要求；符合《江蘇省生態(tài)紅線區(qū)域保護(hù)規(guī)劃》的要求。3、項(xiàng)目生產(chǎn)符合清潔生產(chǎn)要求根據(jù)清潔生產(chǎn)分析，本項(xiàng)目的產(chǎn)品在國(guó)際國(guó)內(nèi)處于領(lǐng)先水平，項(xiàng)目污染物排放水平處于國(guó)際先進(jìn)水平。4、項(xiàng)目的各項(xiàng)環(huán)保措施能保證污染物的達(dá)標(biāo)排放項(xiàng)目實(shí)施后，對(duì)產(chǎn)生的廢氣、廢水、噪聲和固體廢物（液）均采取有效措施，做到達(dá)標(biāo)排放，且擬采取的各項(xiàng)防治措施技術(shù)經(jīng)濟(jì)可行，不會(huì)造成項(xiàng)目所在地環(huán)境功能下降。5、項(xiàng)目排污總量符合總量控制要求本項(xiàng)目落實(shí)各項(xiàng)環(huán)保措施后，酸性廢水和含氟廢水進(jìn)入新區(qū)再生水回用示范工程，實(shí)現(xiàn)再生水回用。全廠接管新城污水處理廠總水量、COD、SS、氨氮和總磷的接管量均不增加，污水經(jīng)污水處理廠處理后，排入外環(huán)境京杭大運(yùn)河，保持現(xiàn)有項(xiàng)目已批總量范圍內(nèi)。廢氣排放總量不新增，保持現(xiàn)有項(xiàng)目已批總量范圍內(nèi)；固體廢棄物可實(shí)現(xiàn)零排放。6、項(xiàng)目實(shí)施后未降低當(dāng)?shù)氐沫h(huán)境功能要求（1）環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀評(píng)價(jià)結(jié)論大氣環(huán)境現(xiàn)狀監(jiān)測(cè)結(jié)果表明：評(píng)價(jià)區(qū)域6個(gè)大氣測(cè)點(diǎn)中SO2、NO2、PM10、氟化物均能滿足《環(huán)境空氣質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3095—2012）二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)；氨、硫酸霧、氯化氫、氯氣均能滿足《工業(yè)企業(yè)設(shè)計(jì)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》（TJ36—79）中居住區(qū)大氣中有害物質(zhì)的最高容許濃度標(biāo)準(zhǔn)；非甲烷總烴滿足《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)詳解》的要求。水環(huán)境現(xiàn)狀監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)表明：本次評(píng)價(jià)的地表水監(jiān)測(cè)斷面除氨氮外，其余各項(xiàng)指標(biāo)均滿足《地表水環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》(GB3838—2002)Ⅳ類標(biāo)準(zhǔn)的要求，SS滿足水利部《地表水資源質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（SL63—94）四級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的要求。氨氮在W1、W2斷面均100%超標(biāo)，W3斷面的超標(biāo)率也達(dá)83.3%，最大超標(biāo)倍數(shù)為1.5。聲環(huán)境現(xiàn)狀監(jiān)測(cè)結(jié)果表明：各噪聲測(cè)點(diǎn)晝、夜間噪聲均符合《聲環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》(GB3096—2008)中對(duì)應(yīng)的3類和4a類標(biāo)準(zhǔn)要求。地下水監(jiān)測(cè)結(jié)果表明：點(diǎn)位D1中pH、揮發(fā)酚、硫酸鹽、氟化物、銅、六價(jià)格、砷能滿足《地下水質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB/T14848—93）中的Ⅰ類標(biāo)準(zhǔn)，高錳酸鹽指數(shù)滿足Ⅱ類標(biāo)準(zhǔn)，總硬度滿足Ⅲ類標(biāo)準(zhǔn)；點(diǎn)位D2中pH、高錳酸鹽指數(shù)、揮發(fā)酚、氟化物、銅、六價(jià)格、砷能滿足《地下水質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB/T14848—93）中的Ⅰ類標(biāo)準(zhǔn)，硫酸鹽、總硬度滿足Ⅲ類標(biāo)準(zhǔn)；點(diǎn)位D3中pH、高錳酸鹽指數(shù)、揮發(fā)酚、硫酸鹽、氟化物、銅、六價(jià)格、砷均滿足《地下水質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB/T14848—93）中的Ⅰ類標(biāo)準(zhǔn)，總硬度滿足Ⅱ類標(biāo)準(zhǔn)。土壤監(jiān)測(cè)結(jié)果表明：項(xiàng)目所在地土壤各項(xiàng)指標(biāo)的現(xiàn)狀值均能達(dá)到《土壤環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB15618—1995）二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的要求。底泥監(jiān)測(cè)結(jié)果表明：本次底泥各監(jiān)測(cè)因子中鎳能達(dá)到《土壤環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB15618—1995）三級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的要求；銅能達(dá)到二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的要求；砷、鉛、汞、鉻均能達(dá)到一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的要求。（2）環(huán)境影響預(yù)測(cè)結(jié)論1）大氣環(huán)境影響預(yù)測(cè)結(jié)果根據(jù)環(huán)境影響預(yù)測(cè)結(jié)果，全年逐時(shí)氣象條件下，環(huán)境空氣保護(hù)目標(biāo)和評(píng)價(jià)范圍內(nèi)NO2、非甲烷總烴、HCl、硫酸霧、氟化物、NH3、氯氣的最大地面小時(shí)濃度滿足相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的要求；全年逐日氣象條件下，環(huán)境空氣保護(hù)目標(biāo)和評(píng)價(jià)范圍內(nèi)NO2、非甲烷總烴、HCl、硫酸霧、氟化物、氯氣的最大地面日平均濃度均滿足相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的要求；長(zhǎng)期氣象條件下，環(huán)境空氣保護(hù)目標(biāo)和評(píng)價(jià)范圍內(nèi)NO2、非甲烷總烴、HCl、硫酸霧、氟化物、氯氣的最大地面年平均濃度均滿足相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的要求；在各關(guān)心點(diǎn)處NO2、非甲烷總烴、HCl、硫酸霧、氟化物、NH3、氯氣最大地面小時(shí)平均濃度疊加值和最大地面日均濃度疊加值均能達(dá)到相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)限值的要求；本項(xiàng)目執(zhí)行已批的衛(wèi)生防護(hù)距離：化學(xué)品倉(cāng)庫(kù)（四期的）設(shè)置300米衛(wèi)生防護(hù)距離、污水處理站設(shè)置100米衛(wèi)生防護(hù)距離。2）水環(huán)境影響分析結(jié)果本項(xiàng)目酸性廢水、含氟廢水?dāng)M通過(guò)公司自建的污水處理站預(yù)處理達(dá)無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程接管標(biāo)準(zhǔn)后，通過(guò)專門的管網(wǎng)排放進(jìn)入無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程，進(jìn)行深度處理，達(dá)到《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》（GB5749—2006）后經(jīng)專用管道回用于海力士公司及周邊單位，在新區(qū)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)再生水回用。由于含氟廢水、酸性廢水通過(guò)再生水廠進(jìn)行回用，不外排，對(duì)外環(huán)境產(chǎn)生影響很小。本項(xiàng)目除含氟廢水、酸性廢水外的其他工藝廢水、生活污水接入無(wú)錫市新城污水處理廠，是可行的。根據(jù)《無(wú)錫市新城污水處理廠環(huán)境影響報(bào)告書》水環(huán)境影響評(píng)價(jià)結(jié)論表明，擴(kuò)建工程尾水正常排放近期作為景觀用水，遠(yuǎn)期進(jìn)行再生水回用方式。本項(xiàng)目排放對(duì)京杭運(yùn)河的影響很小。3）噪聲預(yù)測(cè)結(jié)果本項(xiàng)目建成后，在正常運(yùn)行情況下，新增噪聲設(shè)施對(duì)廠界各測(cè)點(diǎn)的貢獻(xiàn)值在晝間、夜間均能達(dá)到《工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB12348—2008）的3類、4類標(biāo)準(zhǔn)要求。與本底疊加后，廠界聲環(huán)境仍滿足《工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)》3類、4類相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的要求。4）固體廢物環(huán)境影響評(píng)價(jià)結(jié)論本項(xiàng)目產(chǎn)生的大部分固體廢物均可通過(guò)各種途徑回收重復(fù)利用。少部分廢物均通過(guò)合理途徑進(jìn)行處理處置后不會(huì)影響周圍的環(huán)境質(zhì)量。5）地下水環(huán)境影響分析結(jié)論本項(xiàng)目對(duì)可能產(chǎn)生地下水影響的各項(xiàng)途徑均進(jìn)行了有效預(yù)防，在確保各項(xiàng)防滲措施得以落實(shí)，并加強(qiáng)維護(hù)和廠區(qū)環(huán)境管理的前提下，可有效控制廠區(qū)內(nèi)的污染物下滲現(xiàn)象，避免污染地下水，因此項(xiàng)目不會(huì)對(duì)廠區(qū)所在地的地下水環(huán)境產(chǎn)生明顯影響。7、公眾參與結(jié)論本項(xiàng)目得到了較多公眾的了解與支持，對(duì)本項(xiàng)目的建設(shè)，絕大多數(shù)人表示支持，無(wú)人表示反對(duì)。公眾要求建設(shè)單位重視環(huán)境保護(hù)，要嚴(yán)格執(zhí)行國(guó)家有關(guān)規(guī)定及標(biāo)準(zhǔn)，落實(shí)各項(xiàng)環(huán)保治理措施，加強(qiáng)環(huán)境管理，減輕本項(xiàng)目對(duì)周圍環(huán)境的影響。8、事故風(fēng)險(xiǎn)分析結(jié)論本項(xiàng)目主要風(fēng)險(xiǎn)物質(zhì)為氫氟酸、硫酸、氨和氯氣，主要風(fēng)險(xiǎn)類型為中毒、泄漏、火災(zāi)和爆炸，最大可信事故為氫氟酸、硫酸、氨、氯氣泄漏事故。本項(xiàng)目已經(jīng)設(shè)置圍堰、防火堤、事故池、消防水收集池等防范設(shè)置以及相應(yīng)的管理措施可極大的降低風(fēng)險(xiǎn)發(fā)生的概率，減輕泄漏事故造成直接損失和次生、伴生影響。本項(xiàng)目最大可信風(fēng)險(xiǎn)為1×10-5次/年，計(jì)算的建設(shè)項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)值R為3.01×10-10，行業(yè)可接受風(fēng)險(xiǎn)水平R取8.33×10-5，因此，本項(xiàng)目最大可信事故風(fēng)險(xiǎn)是可以接受的。綜上所述，本項(xiàng)目符合產(chǎn)業(yè)政策的要求；選址符合相關(guān)規(guī)劃要求；生產(chǎn)工藝及生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn)，所采取的各項(xiàng)防治措施技術(shù)經(jīng)濟(jì)可行，各項(xiàng)污染物均可作到穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放；在落實(shí)各項(xiàng)防治措施及總量控制要求的基礎(chǔ)上，本項(xiàng)目對(duì)周圍環(huán)境影響較小，因此，從環(huán)保角度論證，SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目在擬建地建設(shè)可行。4.2建議與要求⑴加強(qiáng)生產(chǎn)設(shè)施及防治措施的運(yùn)行管理，定期對(duì)設(shè)施設(shè)備進(jìn)行保養(yǎng)檢修，消除事故隱患。加強(qiáng)內(nèi)部管理，切實(shí)做好環(huán)境事故風(fēng)險(xiǎn)防范措施和應(yīng)急預(yù)案，杜絕非正常及事故情況發(fā)生。⑵建議SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司不斷改進(jìn)生產(chǎn)工藝，研發(fā)先進(jìn)生產(chǎn)工藝及產(chǎn)品，提高產(chǎn)能和降低原材料特別是含氮、含磷、含砷等的原輔材料的消耗，從而進(jìn)一步削減氮、磷、砷等污染物的排放量。⑶加強(qiáng)污染源治理和防治設(shè)施的正常維護(hù)，確保各項(xiàng)污染物達(dá)標(biāo)排放。⑷本項(xiàng)目執(zhí)行已批的衛(wèi)生防護(hù)距離：化學(xué)品倉(cāng)庫(kù)（四期的）設(shè)置300米衛(wèi)生防護(hù)距離、污水處理站設(shè)置100米衛(wèi)生防護(hù)距離。⑸嚴(yán)格按照國(guó)家關(guān)于清潔生產(chǎn)和節(jié)水的有關(guān)規(guī)定，進(jìn)一步提高全廠水循環(huán)使用率和提高水回用率。⑹加強(qiáng)監(jiān)測(cè)工作，按照相關(guān)要求安裝廢氣在線監(jiān)測(cè)儀，隨時(shí)對(duì)相應(yīng)廢氣污染源實(shí)施監(jiān)控，確保排放濃度穩(wěn)定達(dá)標(biāo)。⑺本項(xiàng)目含氟廢水和酸性廢水經(jīng)預(yù)處理達(dá)到無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程的接管標(biāo)準(zhǔn)后，通過(guò)專門的管網(wǎng)排至再生水廠進(jìn)行深度處理，因此本項(xiàng)目須待再生水回用示范工程完成擴(kuò)建工作并投入運(yùn)營(yíng)后方可開(kāi)工建設(shè)。4.3環(huán)保局批復(fù)意見(jiàn)一、根據(jù)報(bào)告書評(píng)價(jià)結(jié)論和技術(shù)評(píng)估意見(jiàn)，同意你公司12英寸集成電路生產(chǎn)線五期技術(shù)升級(jí)項(xiàng)目在江蘇省無(wú)錫高新區(qū)綜合保稅區(qū)K7地塊現(xiàn)有廠區(qū)內(nèi)建設(shè)，產(chǎn)品線寬由20nm升級(jí)到10nm級(jí)。本項(xiàng)目投產(chǎn)后，全廠將形成總產(chǎn)量135k片/月（其中10nm級(jí)產(chǎn)品83k片/月，20nm級(jí)52K片/月）。二、在項(xiàng)目工程設(shè)計(jì)、建設(shè)和環(huán)境管理中，你單位必須高度重視環(huán)保工作，全面落實(shí)報(bào)告書中提出的各項(xiàng)環(huán)保要求，嚴(yán)格執(zhí)行環(huán)保“三同時(shí)”制度，確保各項(xiàng)污染物達(dá)標(biāo)排放。并著重做好以下工作：1、按“清污分流、雨污分流、分類收集、分質(zhì)處理”的原則設(shè)計(jì)、完善廠區(qū)排水管網(wǎng)。含銅廢水執(zhí)行《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB21900-2008）表3標(biāo)準(zhǔn)，和含氟廢水、酸性廢水經(jīng)廠區(qū)內(nèi)污水處理站預(yù)處理達(dá)到接管要求后，經(jīng)專用管道排入無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程（無(wú)錫德寶水務(wù)投資有限公司）進(jìn)一步深度處理再生水全部回用（接入德寶公司水量新增7000噸/日，你單位回用再生水新增2000噸/日，富余再生水量回用于其他公司）；其他廢水經(jīng)預(yù)處理達(dá)到《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB8978-1996）表4中的三級(jí)標(biāo)準(zhǔn)和《務(wù)虛會(huì)排入城鎮(zhèn)下水道水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》（CJ343-2010）接管要求后，接入新城水處理廠集中處理。2、工程設(shè)計(jì)中，應(yīng)進(jìn)一步優(yōu)化廢氣處理方案，確保各類工藝廢氣的處理效率及排氣筒高度等達(dá)到《報(bào)告書》提出的要求。采取有效措施，并加強(qiáng)生產(chǎn)管理，嚴(yán)格控制和減少氨氣無(wú)組織排放。工藝廢氣排放執(zhí)行《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB16297-1996）表2中二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，及廠界無(wú)組織排放監(jiān)控濃度限值標(biāo)準(zhǔn)；氨氣等惡臭污染物排放執(zhí)行《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB14554-93）表1中新擴(kuò)改建二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)；硅烷等特殊廢氣排放參照?qǐng)?zhí)行《荷蘭排放導(dǎo)則》（NER）；銅制程工段硫酸霧執(zhí)行《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB21900-2008）表5、表6中標(biāo)準(zhǔn)。3.選用低噪聲設(shè)備，高噪聲設(shè)備須采取有效減振、隔聲、消音等降噪措施，確保廠界噪聲達(dá)到《工業(yè)企業(yè)廠界噪聲標(biāo)準(zhǔn)》（GB12348-2008）3類。4、按“減量化、資源化、無(wú)害化”的處置原則和環(huán)保管理要求，在本項(xiàng)目試生產(chǎn)前落實(shí)各類固廢的收集、處置和綜合利用措施，實(shí)現(xiàn)固體廢物零排放。做好固體廢物的臺(tái)賬記錄，并加強(qiáng)儲(chǔ)存及外運(yùn)過(guò)程中的環(huán)境管理，避免產(chǎn)生二次污染。5、加強(qiáng)廠區(qū)綠化，增加廠區(qū)的林木覆蓋率，綠化以喬木、灌木以及草坪相結(jié)合的方式進(jìn)行布置；廠界四周設(shè)置一定寬度的綠化隔離帶，以減輕廢氣和噪聲對(duì)周圍環(huán)境的影響。6、全廠化學(xué)品倉(cāng)庫(kù)（四期項(xiàng)目）周邊300米、污水處理站周邊100米范圍內(nèi)，不得新建居民住宅區(qū)、學(xué)校、醫(yī)院等環(huán)境保護(hù)敏感點(diǎn)。7、按《江蘇省排污口設(shè)置及規(guī)范化整治管理辦法》（蘇環(huán)控[1997]122號(hào)）的要求規(guī)范化設(shè)置各類排污口和標(biāo)識(shí)，廢水接管口須按照流量計(jì)；雨水口須設(shè)置采樣檢查井。8、建立健全環(huán)境監(jiān)控體系和跟蹤監(jiān)測(cè)制度，根據(jù)報(bào)告書中明確的監(jiān)測(cè)方案實(shí)施監(jiān)測(cè)，并將監(jiān)測(cè)結(jié)果定期報(bào)我局備案。9、建立環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)應(yīng)急管理體系與環(huán)境安全管理制度，嚴(yán)格落實(shí)報(bào)告書環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)篇章中的事故應(yīng)急防范、減緩措施，防止生產(chǎn)過(guò)程、物流貯運(yùn)過(guò)程以及污染治理設(shè)施事故發(fā)生；定期組織應(yīng)急演練，提升環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)防范和應(yīng)急處置能力。三、項(xiàng)目實(shí)施后，污染物年排放量初步核定為（全廠）：1、大氣污染物：氟化物≤6.01噸，氯化氫≤20.09噸，氯氣≤9.46噸，硫酸霧≤6.19噸，NOX≤3.59噸，氨≤8.83噸，異丙醇≤26.11噸，非甲烷總烴≤67.68噸，VOCs≤93.79噸。2、水污染物（接管考核量）：（新城廠）廢水排放量≤200.75萬(wàn)噸，COD≤394.27噸，SS≤237.32噸，氨氮≤32.403噸，氟化物≤17.52噸，總磷≤2.6噸，總砷≤0.015噸。（德寶水務(wù)）廢水排放量≤1219.1萬(wàn)噸，COD≤609.55噸，SS≤571.701噸，氨氮≤314.557噸，氟化物≤342.005噸，銅≤0.216噸。3、固體廢物：全部綜合利用或安全處置。四、嚴(yán)格執(zhí)行環(huán)境保護(hù)“三同時(shí)”制度。項(xiàng)目進(jìn)行試生產(chǎn)需報(bào)我局同意，試生產(chǎn)三個(gè)月內(nèi)需向我局申請(qǐng)環(huán)保驗(yàn)收，經(jīng)驗(yàn)收合格后方可正式投入生產(chǎn)。五、項(xiàng)目建設(shè)期和試生產(chǎn)期間的環(huán)境現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)督管理由新區(qū)監(jiān)察大隊(duì)負(fù)責(zé)。六、該審批意見(jiàn)從下達(dá)之日起五年內(nèi)有效。如有不實(shí)申報(bào)，本行政許可自動(dòng)失效；如項(xiàng)目的性質(zhì)、規(guī)模、地點(diǎn)、采樣的生產(chǎn)工藝或者污染、防止生態(tài)破壞的措施發(fā)生重大變動(dòng)的，本項(xiàng)目的環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件應(yīng)當(dāng)重新報(bào)批。五、生產(chǎn)工藝、污染物排放及防治措施5.1生產(chǎn)工藝流程近年來(lái)，半導(dǎo)體產(chǎn)品市場(chǎng)需求更新?lián)Q代的速度非?？欤顿Y者不斷增多，企業(yè)間競(jìng)爭(zhēng)日趨激烈，產(chǎn)品的利潤(rùn)空間不斷縮小。半導(dǎo)體企業(yè)要想生存和發(fā)展，必須革新工藝，提高產(chǎn)品的高附加值（即增加集成度），快速將新產(chǎn)品投放市場(chǎng)，保證市場(chǎng)的占有率；同時(shí)，在生產(chǎn)的過(guò)程中，必須降低物耗、能耗、水耗等，將清潔生產(chǎn)技術(shù)應(yīng)用于整個(gè)工藝生產(chǎn)全過(guò)程，也成為半導(dǎo)體企業(yè)成功的最關(guān)鍵因素。完整的集成電路生產(chǎn)包括掩膜設(shè)計(jì)、硅片制造、芯片加工（前工序）、芯片封裝（后工序）、檢測(cè)等工序。本項(xiàng)目與現(xiàn)有生產(chǎn)項(xiàng)目一樣，僅涉及芯片加工（前工序），即在硅片的表面制出MOS晶體等存儲(chǔ)單元，并在相互之間和上下層之間做成連線，形成一個(gè)獨(dú)立的集成電路單元，成為芯片。本項(xiàng)目技術(shù)來(lái)源為海力士公司自行開(kāi)發(fā)的12英寸晶圓生產(chǎn)技術(shù)，線寬DRAM20nm級(jí)以及10nm級(jí)。生產(chǎn)流程與現(xiàn)有工程完全一樣，主要的生產(chǎn)工藝不變，由于產(chǎn)品線寬變小，導(dǎo)致工藝重復(fù)次數(shù)增加，集成電路制造過(guò)程是掩膜、光刻、刻蝕、離子注入、清洗5個(gè)主要工序不斷循環(huán)又有順序變化的制造過(guò)程，10nm級(jí)生產(chǎn)工藝由20nm級(jí)的625步增加為748步。表5-1生產(chǎn)工藝步數(shù)情況示意工藝20nm級(jí)步數(shù)10nm級(jí)步數(shù)掩膜7379光刻8395刻蝕126156離子注入116142清洗227276合計(jì)625748集成電路的制造工藝和傳統(tǒng)產(chǎn)品的制造工藝有所不同，其生產(chǎn)工藝制造流程是網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，在生產(chǎn)過(guò)程中反復(fù)重復(fù)氧化、擴(kuò)散、離子注入、光刻、刻蝕等過(guò)程。各個(gè)過(guò)程需要不同的原輔材料和制造參數(shù)，一個(gè)典型工藝流程主要工序包括以下工藝過(guò)程：⑴清洗：集成電路芯片生產(chǎn)的清洗包括硅片的清洗和工具的清洗。清洗工序需要消耗大量的高純水，同時(shí)經(jīng)過(guò)特殊過(guò)濾和純化的半導(dǎo)體化學(xué)試劑、有機(jī)溶劑等也被廣泛使用。清洗的主要過(guò)程是：硅片先按照各自的工藝設(shè)計(jì)要求放入各種藥液槽進(jìn)行表面化學(xué)處理，然后送入清洗槽，將其表面粘附的藥液清洗干凈后進(jìn)入下一道工序。常用的清洗方式是將硅片沉浸在液體槽內(nèi)或使用液體噴霧清洗，為取得更好的清洗效果，通常采用超聲波激勵(lì)和擦片措施，即在有機(jī)溶劑清洗后立即采用無(wú)機(jī)酸將其氧化去除，最后用超純水進(jìn)行清洗。藥液槽藥液槽超純水藥液清洗槽工件工件工件超純水超純水圖5-2硅片清洗工藝示意圖由于半導(dǎo)體工藝精度高，對(duì)清洗用水水質(zhì)要求較高，水中任何雜質(zhì)（含離子態(tài)）的存在都會(huì)影響產(chǎn)品的良品率，因此必須使用超純水。在清洗過(guò)程中，若使用多級(jí)逆流漂洗，其過(guò)濾方式無(wú)法去除納米級(jí)的雜質(zhì)，則無(wú)法滿足本項(xiàng)目清洗水的水質(zhì)要求。且本項(xiàng)目在清洗過(guò)程中后道清洗水均回收至純水制備工藝中，重新制備純水。以此提高工業(yè)用水重復(fù)利用率。⑵熱氧化：熱氧化是在600～1250℃高溫的氧氣氣氛和惰性攜帶氣體（N2）下使硅片表面的硅氧化生成二氧化硅膜的過(guò)程，產(chǎn)生的二氧化硅用以作為擴(kuò)散、離子注入的調(diào)節(jié)層，或介質(zhì)隔離層。典型的熱氧化化學(xué)反應(yīng)為：Si＋O2→SiO2⑶擴(kuò)散：擴(kuò)散是在硅表面摻入純雜質(zhì)原子的過(guò)程。通常使用三氟化硼（BF3）作為N源，磷烷（PH3）作為P源。工藝生產(chǎn)過(guò)程中通常分為預(yù)擴(kuò)散和堆結(jié)，典型的化學(xué)反應(yīng)為；2PH3→2P+3H2摻雜區(qū)摻雜區(qū)P/N-Si片P/N-Si片阻擋層圖5-3擴(kuò)散工藝示意圖⑷離子注入：離子注入也是一種給硅片摻雜的過(guò)程。它的基本原理是把摻雜物質(zhì)（原子）離子化后，在數(shù)千到數(shù)百萬(wàn)伏特電壓的電場(chǎng)下得到加速，以較高的能量注入到硅片表面或其它薄膜中。⑸光刻：光刻包括預(yù)處理涂膠、曝光、顯影。涂膠是在硅片表面通過(guò)硅片高速旋轉(zhuǎn)均勻涂上光刻膠的過(guò)程；曝光是使用光刻機(jī)，并透過(guò)光掩膜版對(duì)涂膠的硅片進(jìn)行曝光，使部分光刻膠得到曝光，另外部分光刻膠得不到曝光，從而使得曝光過(guò)后的光刻膠產(chǎn)生光化學(xué)反應(yīng)；顯影是對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行去除，由于曝光后的光刻膠和未被曝光的光刻膠將分別溶于顯影液和不溶于顯影液，這樣就使光刻膠上形成了圖形?；磕z曝光顯影光刻膠預(yù)處理圖5-4光刻工藝示意圖⑹濕法腐蝕和等離子刻蝕：經(jīng)過(guò)光刻顯影后，已顯影開(kāi)窗口出來(lái)的Film選擇性地去除，使用的方法就是濕法腐蝕或干法刻蝕。濕法腐蝕或干法刻蝕后，要去除上面的保護(hù)光刻膠。濕法腐蝕是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)的方法對(duì)基材或其他材料腐蝕的過(guò)程，對(duì)不同的去除物質(zhì)使用不同的材料。對(duì)不同的對(duì)象，典型使用的腐蝕材料為：腐蝕硅（Si）——使用氫氟酸加硝酸（HF—HNO3）腐蝕二氧化硅（SiO2）——使用氫氟酸（HF）+緩沖劑腐蝕氮化硅（Si3N4）——使用熱磷酸（熱H3PO4）干法刻蝕是在高密度等離子氣氛中選擇性腐蝕基材或其他材料過(guò)程，刻蝕氣體通常含有F、Br、Cl等離子體或碳等離子體，因此刻蝕氣體通常使用CF4、SF6、NF3、C2F6、SiF4這一類的氣體。⑺化學(xué)氣相沉積（CVD）：CVD被用來(lái)在硅片上沉積氧化硅、氮化硅和多晶硅等半導(dǎo)體器件材料，是在300～900℃的溫度下通過(guò)化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生以上物質(zhì)的過(guò)程。典型化學(xué)反應(yīng)為：SiH4＋O2→SiO2＋2H2O生長(zhǎng)過(guò)程中摻磷時(shí)加磷烷的反應(yīng)是：4PH3＋5O2→2P2O5+6H2SiH2Cl2＋2N2O→SiO2+2N2+2HCl⑻金屬沉積：在硅基片上沉積金屬以作為電路的內(nèi)引線的方法有蒸發(fā)、Sputtering、CVD等，亞微米集成電路生產(chǎn)通常采用Sputtering的方法。⑼化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）：CMP是類似機(jī)械拋光的一種拋光方式，一般用于具有三層或更多層金屬的集成電路芯片制造生產(chǎn)。在已形成圖案的芯片上進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光，使之形成整體平面，以減輕多層結(jié)構(gòu)造成的嚴(yán)重不平的表面形態(tài)，滿足光刻時(shí)對(duì)焦深的要求，另外，主要的還有達(dá)到控制IC的垂直結(jié)構(gòu)的目的。⑽12英寸晶圓銅制程工藝主要集中在PVD和CMP工藝。銅制程工藝所用原料晶圓片已經(jīng)過(guò)氧化、擴(kuò)散、離子注入、光刻、刻蝕、化學(xué)氣相沉積（CVD）等工藝，并經(jīng)清洗后晶圓片送入銅制程工藝。①銅的物理氣相沉積（PVD）用高能粒子（由電場(chǎng)加速的正離子）沖擊固體靶的表面，靶原子與這些高能粒子交換能量后從表面飛出，沉積在硅片（陽(yáng)極）上的工藝過(guò)程叫做濺射，又稱為物理氣相沉積（PVD），目的是為形成金屬薄膜線條。之所以不完全采用PVD法沉淀銅，主要原因在于銅本身與鋁不同，不易與其它刻蝕氣體產(chǎn)生氣態(tài)的副產(chǎn)品，所以只能先用PVD法在晶圓上沉積一層很薄的銅，作為電鍍銅的金屬晶體生長(zhǎng)的晶核層。在真空室中充入氬氣，熱陰極通電發(fā)射電子，陽(yáng)極加一定正電壓，從而在陰極和陽(yáng)極之間放電，產(chǎn)生等離子體。外加磁場(chǎng)可使等離子體在中軸附近聚焦成柱行、形。在Cu－Si靶上加負(fù)高壓，等離子體中的正離子就會(huì)轟擊靶面，將金屬靶原子濺射出來(lái)，并沉積到對(duì)面的硅片上。PVD工藝設(shè)備構(gòu)造示意圖見(jiàn)圖5-5。該工序有廢銅靶材產(chǎn)生。等離子氣等離子氣體（Ar）銅靶材晶圓電磁體磁石圖5-5PVD工藝設(shè)備構(gòu)造示意圖②電鍍銅（EP）電化學(xué)沉積的制造工藝是用來(lái)在高級(jí)集成電路中生成銅質(zhì)主導(dǎo)線。在電化學(xué)沉積中，晶圓浸在銅電解槽里，以便填充晶圓絕緣層表面的刻蝕槽。銅導(dǎo)線這樣就在先前物理氣相沉積工序中制造出來(lái)的銅晶種層上“生長(zhǎng)”。電鍍工藝采用銅板為陽(yáng)極，晶圓為負(fù)極，硫酸和硫酸銅混合溶液作為電鍍液（電鍍液硫酸銅濃度為14～15%，硫酸濃度為0.8～1.4%）。鍍銅主要化學(xué)反應(yīng)式分別由以下陰板化學(xué)反應(yīng)式表示：CuSO4→Cu2++SO42-Cu2++2e→Cu晶圓鍍銅工藝設(shè)備構(gòu)造示意見(jiàn)圖5-6。

銅盤銅盤晶圓電場(chǎng)選擇性透過(guò)膜擴(kuò)散器、圖5-6電鍍銅（EP）工藝設(shè)備構(gòu)造示意圖該工序產(chǎn)生的主要污染物有含銅廢水、含銅廢液（硫酸銅濃度5%）、廢銅盤、硫酸霧。③化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）CMP工藝的基本原理是將待拋光的硅片在一定的下壓力及研磨液（Slurry，由超細(xì)二氧化硅顆粒、化學(xué)氧化劑和純水組成的混合液，與鋁制程的研磨液成分相同）的存在下相對(duì)于一個(gè)拋光墊作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，借助磨粒的機(jī)械磨削及化學(xué)氧化劑的腐蝕作用來(lái)完成對(duì)工件表面材料的去除，并獲得光潔表面。晶圓CMP工藝設(shè)備構(gòu)造示意見(jiàn)圖5-7。

拋光墊拋光墊研磨液晶圓圖5-7晶圓CMP工藝設(shè)備構(gòu)造示意圖該工序產(chǎn)生的主要污染物有含銅廢水。本項(xiàng)目所采用的各項(xiàng)設(shè)備，均采用了世界最新科技技術(shù)進(jìn)行精密控制，使其在品性控制與其穩(wěn)定性達(dá)到最完善的指標(biāo)。項(xiàng)目的生產(chǎn)技術(shù)都采用先進(jìn)設(shè)備，運(yùn)用高新技術(shù)從事生產(chǎn)，增加產(chǎn)能，⑾技改項(xiàng)目工藝變化說(shuō)明集成電路制造過(guò)程是上述所說(shuō)的掩膜、光刻、刻蝕、離子注入、清洗五個(gè)主要工序不斷循環(huán)的制造過(guò)程，清洗是伴隨其他生產(chǎn)工藝的，掩膜、光刻、刻蝕、離子注入是根據(jù)產(chǎn)品要求不斷變化順序的，如圖5-2的生產(chǎn)工藝，可以簡(jiǎn)單的概括為離子注入→光刻→離子注入→離子注入→刻蝕與海力士公司現(xiàn)有的線寬20nm級(jí)、54nm/44nm級(jí)工藝相比，10nm級(jí)工藝主要的變化在于主要工序的循環(huán)步數(shù)增加了：①10nm級(jí)工藝，晶元生產(chǎn)工藝步數(shù)748STEP；②20nm級(jí)工藝，晶元生產(chǎn)工藝步數(shù)625STEP。因此，從總體的生產(chǎn)工藝流程上看，技改項(xiàng)目與現(xiàn)有項(xiàng)目完全相同，只是由于產(chǎn)品線寬變小了，由20nm級(jí)、54nm/44nm升級(jí)到10nm級(jí)，產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝步驟比現(xiàn)有項(xiàng)目有所增加，具體的工藝流程見(jiàn)圖5-8、5-9。⑴產(chǎn)品生產(chǎn)工藝主要流程

激光打標(biāo)激光打標(biāo)柵控制膜生長(zhǎng)介質(zhì)膜生長(zhǎng)預(yù)對(duì)準(zhǔn)圖形成形離子注入薄氧化層浮柵薄膜生長(zhǎng)隧道氧化層生長(zhǎng)對(duì)準(zhǔn)圖形成形高壓區(qū)成形胞區(qū)隔離Vt注入三井成形（N型、P型井）低壓區(qū)成形平面化工藝周邊隔離源漏型區(qū)域成形柵選擇性氧化層生長(zhǎng)刻蝕接下一頁(yè)廢氣：酸性廢氣GHCl1、G硫酸霧1、G氮氧化物1；堿性廢氣：G氨1；含氟廢氣：GF1有機(jī)廢氣：G異丙醇1、G非甲烷總烴1廢水：含F(xiàn)廢水：WF1酸性廢水：W酸性1有機(jī)廢水：W有機(jī)廢水1TCA、N2、O2、H2、光刻膠、顯影液、純水等廢氣：特殊廢氣G硅烷1酸性廢氣GHCl2、G硫酸霧2、G氮氧化物2；堿性廢氣：G氨2；含氟廢氣：GF2有機(jī)廢氣：G異丙醇2、G非甲烷總烴2廢水：含F(xiàn)廢水：WF2酸性廢水：W酸性2有機(jī)廢水：W有機(jī)廢水2O2、SiH4、N2、WF6、TMB、TEOS、C2F2、光刻膠、顯影液、純水等固廢：金剛砂、SiO2廢水：含F(xiàn)廢水：WF3酸性廢水：W酸性3有機(jī)廢水：W有機(jī)廢水3Slurry（研磨液）等廢氣：特殊廢氣G硅烷2酸性廢氣GHCl3、G硫酸霧3、G氮氧化物3；堿性廢氣：G氨3；含氟廢氣：GF3有機(jī)廢氣：G異丙醇3、G非甲烷總烴3廢水：含F(xiàn)廢水：WF4酸性廢水：W酸性4有機(jī)廢水：W有機(jī)廢水4O2、SiH4、N2、TEOS、C2F2、光刻膠、顯影液、純水等圖5-812英寸工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié)⑴PH3、B、BF3、AsH3等放射線廢氣：特殊廢氣G砷烷1、G磷烷1數(shù)據(jù)線大馬數(shù)據(jù)線大馬士工藝內(nèi)聯(lián)層絕緣金屬互聯(lián)探針點(diǎn)開(kāi)窗內(nèi)聯(lián)層絕緣接觸連接源漏型區(qū)域連接平面化工藝內(nèi)聯(lián)層隔離漏氫摻雜成形柵隔斷固廢：金剛砂、SiO2、Si微細(xì)顆粒廢水：含F(xiàn)廢水：WF8酸性廢水：W酸性8鈍化膜生長(zhǎng)廢氣：特殊廢氣G硅烷3酸性廢氣GHCl4、G硫酸霧4、G氮氧化物4；堿性廢氣：G氨4；含氟廢氣：GF4有機(jī)廢氣：G異丙醇4、G非甲烷總烴4廢水：含F(xiàn)廢水：WF5酸性廢水：W酸性5有機(jī)廢水：W有機(jī)廢水5Ar、SiH4、N2、TEOS、C2F2、光刻膠、顯影液、純水等固廢：金剛砂、SiO2、Si微小顆粒廢水：含F(xiàn)廢水：WF6酸性廢水：W酸性6有機(jī)廢水：W有機(jī)廢水6Slurry（研磨液）等廢氣：特殊廢氣G硅烷4酸性廢氣GHCl5、G硫酸霧5、G氮氧化物5；堿性廢氣：G氨5；含氟廢氣：GF5有機(jī)廢氣：G異丙醇5、G非甲烷總烴5廢水：含F(xiàn)廢水：WF7酸性廢水：W酸性7有機(jī)廢水：W有機(jī)廢水7Ar、SiH4、N2、TEOS、C2F2、光刻膠、顯影液、純水等Slurry等廢氣：含氟廢氣：GF7廢水：W有機(jī)廢水9Ar、N2、ACT935等廢氣：含氟廢氣：GF8廢水：W有機(jī)廢水10N2、ACT935、純水等廢氣：特殊廢氣G硅烷5酸性廢氣GHCl6、G硫酸霧6、G氮氧化物6；堿性廢氣：G氨6；含氟廢氣：GF6有機(jī)廢氣：G異丙醇6、G非甲烷總烴6廢水：W有機(jī)廢水8SiH4、N2、ACT935等續(xù)圖5-812英寸工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié)⑵說(shuō)明：上述每一道工藝完成后，均需進(jìn)行清洗，產(chǎn)生清洗廢水，清洗廢水含酸、堿、有機(jī)物、銅、氟、高氮等，光刻后的清洗水為顯影廢水。

⑵銅制程工藝流程示意圖：物理氣相沉積物理氣相沉積電鍍Ar、銅靶材晶圓（來(lái)自化學(xué)氣相沉積工序）硫酸、硫酸銅、氯化銅、水、銅環(huán)固廢：廢銅靶材酸性廢氣：G硫酸霧2固廢：含銅廢液固廢：廢銅環(huán)水洗1純水廢水：W含銅廢水化學(xué)機(jī)械拋光研磨液、水廢水：W含銅廢水W有機(jī)廢水水洗2廢水：W含銅廢水晶圓（去內(nèi)聯(lián)層絕緣工序）純水IPA圖5-9銅制程生產(chǎn)工藝流程圖5.2污染物排放及防治措施5.2.1廢水排放及防治措施本項(xiàng)目產(chǎn)生的廢水主要包括酸性廢水、含氟廢水（包括含銅廢水）、有機(jī)廢水（生產(chǎn)工段產(chǎn)生的有機(jī)廢水、堿性廢水、顯影液廢水、高氮廢水）、生活污水等。生產(chǎn)廢水中含氟廢水（包括含銅廢水）和酸性廢水經(jīng)預(yù)處理達(dá)到無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程接管標(biāo)準(zhǔn)后，排入無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程處理，經(jīng)處理后，達(dá)到《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》（GB5749—2006）后經(jīng)專用管道回用于海力士公司及周邊企業(yè)；有機(jī)廢水（生產(chǎn)工段產(chǎn)生的有機(jī)廢水、堿性廢水、顯影液廢水、高氮廢水）經(jīng)分質(zhì)處理后,部分經(jīng)MBR（膜處理）工藝處理后回用，部分經(jīng)生化系統(tǒng)處理達(dá)新城污水處理廠的接管標(biāo)準(zhǔn)后，經(jīng)市政污水管網(wǎng)排入新城污水處理廠處理；生活污水包含食堂及沖廁用水等，食堂廢水經(jīng)隔油池處理后、沖廁廢水經(jīng)化糞池收集后排入新城污水處理廠處理。本項(xiàng)目廢水排放情況及防治措施見(jiàn)表5-10，技改后全廠水平衡圖見(jiàn)圖5-11。表5-10本項(xiàng)目廢水排放情況及防治措施污染源廢水名稱主要污染物處理方法防治措施氧化、刻蝕酸性廢水pH、COD、SS、氨氮、氟化物中和經(jīng)預(yù)處理達(dá)到無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程接管標(biāo)準(zhǔn)后，排入無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程處理，經(jīng)處理后，達(dá)到《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》（GB5749—2006）后經(jīng)專用管道回用于海力士公司及周邊企業(yè)腐蝕、BG/CMP含氟廢水（包括含銅廢水）COD、SS、氨氮、氟化物、銅化學(xué)沉淀CVD、清洗有機(jī)廢水（生產(chǎn)工段產(chǎn)生的有機(jī)廢水、堿性廢水、顯影液廢水、高氮廢水）COD、SS、氨氮、氟化物、總磷、砷中和、生化經(jīng)分質(zhì)處理后,部分經(jīng)MBR（膜處理）工藝處理后回用，部分經(jīng)生化系統(tǒng)處理達(dá)新城污水處理廠的接管標(biāo)準(zhǔn)后，經(jīng)市政污水管網(wǎng)排入新城污水處理廠處理冷凝蒸汽冷凝水COD、SS過(guò)濾回用員工辦公、生活生活污水COD、SS、氨氮、總磷食堂廢水經(jīng)隔油池處理后、沖廁廢水經(jīng)化糞池收集后排入新城污水處理廠處理注：①為蒸汽冷凝水圖5-11技改后全廠水平衡圖（m3/d）5.2.2廢氣排放及防治措施5.2.2.1有組織廢氣本項(xiàng)目廢氣按照生產(chǎn)工藝要求和廢氣處理的要求，分為含氟廢氣（PFC）、有機(jī)廢氣（VOC）、酸堿廢氣（硫酸等揮發(fā)的酸性廢氣，堿性廢氣為氨等）、特殊氣體幾類。本次技改主要為增加廢氣處理裝置及在含氟廢氣和特殊廢氣的治理中增加了一次水洗滌（電場(chǎng)+水洗滌），處理后的廢氣經(jīng)排氣筒排放，本次技改將原有1套特殊廢氣處理裝置及排氣筒改造為1套酸堿廢氣處理裝置及排氣筒，將原有1套含氟廢氣處理及排氣筒改造為1套特殊廢氣處理及排氣筒，同時(shí)新增1套檢修廢氣處理裝置及排氣筒。⑴含氟廢氣：每個(gè)產(chǎn)生含氟廢氣的設(shè)備均連接一個(gè)一級(jí)處理裝置（Plasma/焚燒/熱氧化+水洗滌），根據(jù)各股廢氣所含的廢氣種類不同，選擇不同的一級(jí)處理裝置，經(jīng)一級(jí)處理后的含氟廢氣根據(jù)設(shè)備處理效率選擇是否進(jìn)行二次水洗，若需進(jìn)行水洗，則由管道送至二次水洗設(shè)備（電場(chǎng)+水洗滌），經(jīng)二次水洗后的廢氣匯入含氟廢氣主管道，送至排氣筒前端的三次水洗設(shè)備，若不需水洗，則經(jīng)過(guò)一級(jí)處理后的含氟廢氣直接匯入含氟廢氣主管道，送至排氣筒前端的水洗設(shè)備（二次水洗滌），經(jīng)上述處理后的廢氣通過(guò)排氣筒達(dá)標(biāo)排放。⑵酸堿廢氣：酸堿廢氣經(jīng)廢氣收集管道收集后送至逆流式循環(huán)吸收凈化塔處理，經(jīng)處理后的酸堿廢氣通過(guò)排氣筒達(dá)標(biāo)排放。⑶有機(jī)廢氣：有機(jī)廢氣經(jīng)廢氣收集管道收集后送至RTO焚燒系統(tǒng)焚燒處理，經(jīng)處理后的有機(jī)廢氣通過(guò)排氣筒達(dá)標(biāo)排放。⑷特殊廢氣：①特殊廢氣主要有AsH3、PH3、SiH3，其中AsH3、PH3等經(jīng)管道收集后送至干式（吸附劑吸附）吸附裝置處理后，根據(jù)設(shè)備處理效率選擇是否進(jìn)行水洗，若需水洗，則由管道送至水洗滌（一次水洗滌（電場(chǎng)+水洗滌））處理，處理后的廢氣匯入主管道后送至下一級(jí)水洗滌（二次水洗滌）設(shè)備；若不需水洗，則匯入主管道后送至水洗滌設(shè)備（一級(jí)水洗滌），經(jīng)處理后的廢氣通過(guò)排氣筒達(dá)標(biāo)排放。②SiH3經(jīng)一級(jí)處理設(shè)備（焚燒+水洗）處理后，根據(jù)設(shè)備處理效率選擇是否進(jìn)行二次水洗，若需水洗，則送入下一級(jí)水洗設(shè)備（二次水洗滌（電場(chǎng)+水洗滌）），然后將處理廢氣匯入主管道后送至下一級(jí)水洗滌（三次水洗滌）設(shè)備；若不需水洗，則直接將一級(jí)處理后的廢氣匯入廢氣主管道后送至下一級(jí)水洗滌（二次水洗滌）設(shè)備，經(jīng)處理后的廢氣通過(guò)排氣筒達(dá)標(biāo)排放。有組織廢氣排放情況及防治措施見(jiàn)表5-12。全廠廢氣收集、處理、排放系統(tǒng)圖見(jiàn)圖5-13。表5-12有組織廢氣排放情況及防治措施污染源廢氣名稱主要污染物防治措施刻蝕、CVD含氟廢氣氟化物Plasma/焚燒/熱氧化+三次/二次水洗滌后經(jīng)排氣筒排放清洗、腐蝕、去膠酸性廢氣HCl、Cl2、硫酸霧、NOx、NH3進(jìn)入逆流式循環(huán)吸收凈化塔處理后經(jīng)排氣筒排放顯影堿性廢氣進(jìn)入逆流式循環(huán)吸收凈化塔處理后經(jīng)排氣筒排放清洗、顯影、漂洗有機(jī)廢氣異丙醇、非甲烷總烴、vocsRTO焚燒后經(jīng)排氣筒排放擴(kuò)散、CVD、離子注入、干蝕特殊廢氣磷烷、硅烷、砷烷焚燒+水洗后選擇性二次水洗/三次水洗后經(jīng)排氣筒排放圖5-13全廠廢氣收集、處理、排放系統(tǒng)圖5.2.2.2無(wú)組織廢氣在化學(xué)品輸送過(guò)程中，在管道接口處難免有微量泄漏，呈無(wú)組織排放。無(wú)組織廢氣排放情況及防治措施見(jiàn)表5-14。表5-14無(wú)組織廢氣排放情況及防治措施污染源廢氣名稱主要污染物防治措施微量泄漏廢氣無(wú)組織廢氣氟化物、氯氣、氨、硫酸霧、氯化氫無(wú)組織排放5.2.3固廢排放及防治措施本項(xiàng)目固廢排放及防治措施詳見(jiàn)表5-15。表5-15本項(xiàng)目固體廢物情況一覽表序號(hào)固體廢物的種類處置單位環(huán)評(píng)審批量（t/a）實(shí)際轉(zhuǎn)移量（t/a）1BOE無(wú)錫中天固廢處置有限公司11471.599893.672H2SO45435.876031.028（含再利用）3H3PO41723.391422.754HNO31724.251546.565硫酸銨3776.273150.626ACT-935521.57473.657THINNER5341.483533.38IPA573.18653.969SOG304.25202.2810廢油宜興市金科桶業(yè)有限公司2012.8411200L空桶江陰中鑫資源再生有限公司1401.23（95000個(gè)）800（52000個(gè)）12含銅廢液外售128.8488.7813廢銅靶材5.9395.93914廢銅盤無(wú)錫市工業(yè)廢物安全處置有限公司0.4240.42415油漆桶2013.616涂料廢物50（非定期產(chǎn)生）17沾染化學(xué)品雜物2003.8（非定期產(chǎn)生）18廢合成樹(shù)脂20068.2319廢溶劑空瓶239.36254.8520廢活性炭601821廢吸附劑無(wú)錫市固廢環(huán)保處置有限公司25053.3722含銅污泥120（未產(chǎn)生）23含砷廢物10（未產(chǎn)生）24汞燈宜興蘇南固廢處置有限公司8噸/年（30000支）10.01噸/年（30000支）非定期產(chǎn)生25鉛酸蓄電池如皋市天鵬冶金有限公司200431.6（非定期產(chǎn)生）26無(wú)塵服無(wú)錫添源環(huán)?？萍加邢薰?04.61(非定期產(chǎn)生)27無(wú)塵鞋/手套等2028污泥江蘇聚慧科技有限公司1000010323.0129生活垃圾無(wú)錫市科信城市建設(shè)技術(shù)有限公司25002050.395.2.4噪聲排放及防治措施本項(xiàng)目主要的噪聲來(lái)源于冷凍機(jī)、冷卻塔等產(chǎn)生的噪聲，通過(guò)建筑物隔聲、采取消音減振等降噪措施，并在廠區(qū)內(nèi)空余場(chǎng)地進(jìn)行集中綠化后，廠界噪聲達(dá)標(biāo)排放。噪聲產(chǎn)生和排放狀況見(jiàn)表5-16。表5-16噪聲產(chǎn)生和排放狀況序號(hào)噪聲源設(shè)備臺(tái)數(shù)聲源噪聲級(jí)（dB(A)）降噪措施1冷凍機(jī)2臺(tái)＜85室內(nèi)隔聲、消聲器、防振墊2冷卻塔1座＜70淋水緩沖墊六、驗(yàn)收監(jiān)測(cè)評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)6.1廢水排放標(biāo)準(zhǔn)建設(shè)項(xiàng)目銅制程過(guò)程產(chǎn)生的含銅廢水執(zhí)行《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB21900-2008）表3的標(biāo)準(zhǔn),具體指標(biāo)見(jiàn)表6-1。建設(shè)項(xiàng)目酸性廢水、含氟廢水污染物排放執(zhí)行無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程接管標(biāo)準(zhǔn),具體指標(biāo)見(jiàn)表6-2、表6-3，再生水處理達(dá)到《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》（GB5749-2006）水質(zhì)要求，具體指標(biāo)見(jiàn)附件污水處理及再生水供應(yīng)協(xié)議，回用至海力士公司及新區(qū)內(nèi)其他電子企業(yè)，尾水接管至梅村污水處理廠執(zhí)行其接管標(biāo)準(zhǔn)。其他廢水（有機(jī)廢水、生活污水等）排放執(zhí)行無(wú)錫新城污水處理廠接管標(biāo)準(zhǔn)，新城污水處理廠接管標(biāo)準(zhǔn)，氨氮、TP參照?qǐng)?zhí)行《污水排入城市下水道水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》（GB/T31962-2015），廢水中的一類污染物總砷在車間排口執(zhí)行《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB8978-1996)表1的標(biāo)準(zhǔn)，新城污水處理廠尾水排放執(zhí)行《城鎮(zhèn)污水處理廠污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB18918-2002）一級(jí)A標(biāo)準(zhǔn)，其中COD要求達(dá)到《地表水環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3838-2002）Ⅳ類標(biāo)準(zhǔn)，具體指標(biāo)見(jiàn)表6-4。表6-1銅制程廢水排放標(biāo)準(zhǔn)污染因子排放標(biāo)準(zhǔn)（mg/L）來(lái)源備注pH(無(wú)量綱)6～9《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB21900-2008）表3廢水總排口SS30CODCr50總銅0.3單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量要求250（多層鍍）排水量計(jì)量位置與污染物排放監(jiān)控位置一致表6-2無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程酸性廢水污染物接管標(biāo)準(zhǔn)污染物名稱再生水回用示范工程接管排放標(biāo)準(zhǔn)mg/lpH6～9COD≤50BOD5≤9SS≤30NH3-N≤15TP≤2TN≤20氟化物≤10表6-3無(wú)錫新區(qū)再生水回用示范工程含氟廢水污染物接管標(biāo)準(zhǔn)污染物名稱再生水回用示范工程接管排放標(biāo)準(zhǔn)mg/lpH6～9COD≤50BOD5≤20SS≤56NH3-N≤40TP≤1.0TN≤45氟化物≤40表6-4新城污水處理廠廢水污染物接管標(biāo)準(zhǔn)和尾水排放標(biāo)準(zhǔn)污染物名稱新城污水處理廠接管排放標(biāo)準(zhǔn)mg/L污水處理廠尾水排放標(biāo)準(zhǔn)mg/LpH6～96～9COD*≤500≤50BOD5≤300≤10SS≤400≤10總氮≤70≤15氨氮*≤45≤5（8）TP≤8≤0.5氟化物≤10/總砷*≤0.5≤0.1*注：1、括號(hào)外為水溫＞12℃時(shí)控制指標(biāo)，括號(hào)內(nèi)為水溫≤12℃時(shí)控制指標(biāo)。2、總砷要求車間處理設(shè)施排口達(dá)標(biāo)。表6-5再生水回用水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)污染物名稱再生水回用標(biāo)準(zhǔn)mg/L標(biāo)準(zhǔn)依據(jù)pH（無(wú)量綱）6.5-8.5《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》（GB5749-85）水質(zhì)要求總硬度450陰離子表面活性劑LAS0.3氟化物1.0硫酸鹽250溶解性總固體1000硝酸鹽氮20雨水管網(wǎng)排放的廢水pH、CODCr執(zhí)行《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB8978-1996）表4標(biāo)準(zhǔn)中的一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)限值要求，NH3-N、TP、TN執(zhí)行《太湖地區(qū)城鎮(zhèn)污水處理廠及重點(diǎn)工業(yè)行業(yè)主要水污染物排放限值》（DB32/1072-2007）表6-6中的標(biāo)準(zhǔn)。表6-6雨水排放標(biāo)準(zhǔn)單位：mg/L，pH為無(wú)量綱項(xiàng)目pHCODCrNH3-NTPTN排放濃度限值6~910050.5156.2廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)建設(shè)項(xiàng)目的工藝廢氣排放執(zhí)行《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB16297-1996）表2中的二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)及《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB14554-93），其中異丙醇執(zhí)行前蘇聯(lián)居住區(qū)大氣中有害物質(zhì)的最大允許濃度。對(duì)于本項(xiàng)目排放的特殊廢氣污染物，目前我國(guó)尚無(wú)排放標(biāo)準(zhǔn)的，通過(guò)調(diào)研，收集國(guó)外有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)參照?qǐng)?zhí)行。在生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的特殊廢氣污染物主要為磷烷、砷烷、硅烷。關(guān)于本項(xiàng)目有毒有害氣體排放的統(tǒng)一控制標(biāo)準(zhǔn)，參照?qǐng)?zhí)行《荷蘭排放導(dǎo)則》（NER）。關(guān)于該導(dǎo)則需要說(shuō)明的是：NER不是類同于中國(guó)排放標(biāo)準(zhǔn)的強(qiáng)制性規(guī)章，而是政府和行業(yè)用來(lái)為每個(gè)工廠設(shè)備設(shè)置環(huán)境許可所用的指導(dǎo)方針。有機(jī)廢氣排氣筒的vocs，本項(xiàng)目環(huán)評(píng)中未對(duì)排放濃度及速率有要求，只對(duì)總量有要求，而國(guó)標(biāo)中暫沒(méi)有vocs的執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)，建議vocs的排放濃度參照?qǐng)?zhí)行北京市地方標(biāo)準(zhǔn)《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB11/501-2007）表1中非甲烷總烴Ⅱ時(shí)段標(biāo)準(zhǔn),排放速率根據(jù)《制定地方大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)方法》GB/T13201-91制定。詳見(jiàn)表6-7~10。表6-7廢氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)另銅制程工段產(chǎn)生的硫酸霧的排放標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB21900-2008)表5、表6中的標(biāo)準(zhǔn)，具體見(jiàn)表6-8。表6-8銅制程工段大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)類別污染物名稱排放限值(mg/m3)基準(zhǔn)排氣量m3/m2排氣筒高度（m）排氣量計(jì)量位置工藝廢氣硫酸霧3037.3（鍍銅）37.8車間或生產(chǎn)設(shè)施排氣筒建設(shè)項(xiàng)目食堂飲食油煙執(zhí)行《飲食業(yè)油煙排放標(biāo)準(zhǔn)（試行）》（GB18483-2001）大型標(biāo)準(zhǔn)。表6-9飲食業(yè)油煙排放標(biāo)準(zhǔn)規(guī)模大型基準(zhǔn)灶頭數(shù)≥6對(duì)應(yīng)灶頭總功率≥10對(duì)應(yīng)排氣罩灶面總投影面積(平方米)≥6.6凈化設(shè)施最低去除效率(%)85項(xiàng)目主要異味物質(zhì)的嗅覺(jué)閾值見(jiàn)表6-10。表6-10主要異味物質(zhì)的嗅覺(jué)閾值表（mg/m3）異味物質(zhì)氨硫酸霧嗅閾值0.5～1.00.156.3廠界噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)廠界噪聲執(zhí)行《工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB12348-2008）中3類標(biāo)準(zhǔn)，晝間（06～22時(shí)）65dB(A)，夜間（22～06時(shí)）55dB(A)。東側(cè)廠區(qū)與新312國(guó)道相鄰區(qū)域，廠界噪聲執(zhí)行工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB12348-2008）中4類標(biāo)準(zhǔn)。表6-11廠界噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)限值廠界噪聲等效聲級(jí)（dB(A)）依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)晝間65《工業(yè)企業(yè)廠界噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)限值》（G12348-2008）中=3\*ROMANIII類標(biāo)準(zhǔn)夜間55晝間70《工業(yè)企業(yè)廠界噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)限值》（G12348-2008）中Ⅳ類標(biāo)準(zhǔn)夜間55七、驗(yàn)收監(jiān)測(cè)內(nèi)容根據(jù)本項(xiàng)目驗(yàn)收規(guī)模、工藝和現(xiàn)場(chǎng)了解，本次驗(yàn)收監(jiān)測(cè)確定對(duì)廢水、廢氣和噪聲進(jìn)行監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)頻次見(jiàn)下表。7.1廢水監(jiān)測(cè)廢水監(jiān)測(cè)點(diǎn)位、項(xiàng)目和頻次見(jiàn)表7-1。表7-1廢水監(jiān)測(cè)項(xiàng)目、點(diǎn)位、頻次監(jiān)測(cè)點(diǎn)位編號(hào)監(jiān)測(cè)項(xiàng)目監(jiān)測(cè)頻次含氟廢水（包括含銅廢水）排口S1pH、SS、COD、氟化物、總磷、氨氮、總氮、BOD5、Cu連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)4次（等時(shí)間間隔采樣）酸性廢水排口S2pH、SS、COD、氟化物、總磷、氨氮、總氮、BOD5連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)4次（等時(shí)間間隔采樣）中水廠回用到海力士公司排水口S3pH、總硬度、LAS、氟化物、硫酸鹽、溶解性總固體、硝酸鹽氮連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)4次（等時(shí)間間隔采樣）有機(jī)廢水（含砷）單獨(dú)排口S4pH、砷連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)4次（等時(shí)間間隔采樣）生化系統(tǒng)出口S5PH、COD、總磷、BOD5、氨氮、懸浮物連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)4次（等時(shí)間間隔采樣）廠區(qū)內(nèi)生產(chǎn)廢水排口S6pH、SS、COD、BOD5、氟化物、氨氮、總磷、總砷連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)4次（等時(shí)間間隔采樣）生活污水排口S7pH、SS、動(dòng)植物油、COD、BOD5、氨氮、總磷連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)4次（等時(shí)間間隔采樣）雨水排放口（8個(gè))S8pH、COD、TP、氨氮、TN連續(xù)2天，每天監(jiān)測(cè)1次注：企業(yè)的雨水排放口實(shí)際有8個(gè)。S1和S2排入德寶水務(wù)；S6和S7排入新城污水處理廠。7.2廢氣監(jiān)測(cè)廢氣監(jiān)測(cè)點(diǎn)位、項(xiàng)目和頻次見(jiàn)表7-2。表7-2廢氣監(jiān)測(cè)項(xiàng)目、點(diǎn)位、頻次編號(hào)監(jiān)測(cè)點(diǎn)位監(jiān)測(cè)項(xiàng)目監(jiān)測(cè)頻次1有機(jī)廢氣處理設(shè)施出口（Q1、Q2）異丙醇1個(gè)點(diǎn)位，每天監(jiān)測(cè)3次，連續(xù)2天（等時(shí)間間隔采樣）非甲烷總烴vocs2氟化物處理設(shè)施出口（Q3-Q9）氟化物1個(gè)點(diǎn)位，每天監(jiān)測(cè)3次，連續(xù)2天（等時(shí)間間隔采樣）3酸堿廢氣處理設(shè)施出口（Q10-Q21）HCl1個(gè)點(diǎn)位，每天監(jiān)測(cè)3次，連續(xù)2天（等時(shí)間間隔采樣）Cl2硫酸霧NOXNH34整個(gè)廠界無(wú)組織排放廢氣氟化物上風(fēng)向布1個(gè)點(diǎn)，下風(fēng)向布3個(gè)點(diǎn)，每天監(jiān)測(cè)1次，連續(xù)監(jiān)測(cè)2天氯氣氨硫酸霧氯化氫注：酸堿廢氣監(jiān)測(cè)點(diǎn)位根據(jù)設(shè)施實(shí)際運(yùn)行情況確定。廢氣處理設(shè)施進(jìn)口不具備監(jiān)測(cè)條件，本次未監(jiān)測(cè)。7.3噪聲監(jiān)測(cè)噪聲監(jiān)測(cè)點(diǎn)位、項(xiàng)目和頻次見(jiàn)表7-3。表7-3噪聲監(jiān)測(cè)項(xiàng)目、點(diǎn)位、頻次監(jiān)測(cè)點(diǎn)位監(jiān)測(cè)項(xiàng)目監(jiān)測(cè)頻次廠區(qū)四周布置8個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)等效（A）聲級(jí)晝、夜間各監(jiān)測(cè)1次，連續(xù)2天八、監(jiān)測(cè)分析方法及質(zhì)量保證8.1監(jiān)測(cè)分析按國(guó)家有關(guān)規(guī)定、監(jiān)測(cè)技術(shù)規(guī)范和實(shí)驗(yàn)室資質(zhì)認(rèn)定有關(guān)要求進(jìn)行。8.2驗(yàn)收期間，應(yīng)在工況穩(wěn)定、生產(chǎn)達(dá)到設(shè)計(jì)生產(chǎn)能力的負(fù)荷75%以上的情況下進(jìn)行監(jiān)測(cè)。8.3各項(xiàng)目分析方法見(jiàn)表8-1、8-2、8-3，項(xiàng)目監(jiān)測(cè)質(zhì)控信息表8-4，主要監(jiān)測(cè)設(shè)備見(jiàn)表8-5。表8-1水質(zhì)監(jiān)測(cè)分析方法監(jiān)測(cè)項(xiàng)目監(jiān)測(cè)分析方法方法來(lái)源pH玻璃電極法GB/T6920-1986SS重量法GB/T11901-1989TP鉬酸銨分光光度法GB/T11893-1989TN堿性過(guò)硫酸鉀消解紫外分光光度法HJ636-2012COD快速密閉催化消解法《水和廢水監(jiān)測(cè)分析方法》（第四版）國(guó)家環(huán)?？偩?002年氨氮納氏試劑分光光度法HJ535-2009總銅電感耦合等離子體發(fā)射光譜法《水和廢水監(jiān)測(cè)分析方法》（第四版）國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局2002年ICP-AES法3.4.10（8）BOD5水質(zhì)五日生化需氧量(BOD5)的測(cè)定稀釋與接種法HJ505-2009氟化物城市污水氟化物的測(cè)定離子選擇電極法CJ/T51-2004（13.2）總砷水質(zhì)汞、砷、硒、鉍和銻的測(cè)定原子熒光法HJ694-2014總硬度水質(zhì)鈣和鎂總量的測(cè)定EDTA滴定法GB/T7477-1987陰離子表面活性劑LAS水質(zhì)陰離子表面活性劑的測(cè)定亞甲藍(lán)分光光度法GB/T7494-1987硫酸鹽城市污水硫酸鹽的測(cè)定離子色譜法CJ/T51-2004溶解性總固體生活飲用水標(biāo)準(zhǔn)檢驗(yàn)方法感官性狀和物理指標(biāo)稱量法GB/T5750.4-2006（8.1）硝酸鹽氮城市污水硝酸鹽氮的測(cè)定紫外分光光度法CJ/T51-2004（27.1）動(dòng)植物油水質(zhì)石油類和動(dòng)植物油的測(cè)定紅外光度法HJ637-2012表8-2廢氣監(jiān)測(cè)分析方法監(jiān)測(cè)項(xiàng)目監(jiān)測(cè)分析方法方法來(lái)源有組織排放廢氣氟化物大氣固定污染源氟化物的測(cè)定離子選擇電極法HJ/T67-2001NOx固定污染源排氣中氮氧化物的測(cè)定鹽酸萘乙二胺分光光度法HJ/T43-1999HCL環(huán)境空氣和廢氣氯化氫的測(cè)定離子色譜法HJ549-2009CL2固定污染源排氣中氯氣的測(cè)定甲基橙分光光度法HJ/T30-1999非甲烷總烴固定污染源排氣中非甲烷總烴的測(cè)定氣相色譜法HJ/T38-1999硫酸霧固定污染源廢氣硫酸霧的測(cè)定離子色譜法HJ544-2009氨環(huán)境空氣和廢氣氨的測(cè)定納氏試劑分光光度法HJ533-2009異丙醇工作場(chǎng)所空氣有毒物質(zhì)測(cè)定醇類化合物GBZ/T160.48-2007無(wú)組織排放廢氣氟化物環(huán)境空氣氟化物的測(cè)定濾膜采樣氟離子選擇電極法HJ480-2009氯氣固定污染源排氣中氯氣的測(cè)定甲基橙分光光度法HJ/T30-1999氨環(huán)境空氣和廢氣氨的測(cè)定納氏試劑分光光度法HJ533-2009硫酸霧固定污染源廢氣硫酸霧的測(cè)定離子色譜法HJ544-2009硫化氫亞甲基藍(lán)分光光度法5.4.10（3）《空氣和廢氣監(jiān)測(cè)分析方法》(第四版)國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局2003年注：砷烷、磷烷、硅烷沒(méi)有找到檢測(cè)方法，本次驗(yàn)收不做要求。異丙醇參考工作場(chǎng)所的方法測(cè)工業(yè)廢氣，在CMA資質(zhì)外。表8-3噪聲監(jiān)測(cè)分析方法監(jiān)測(cè)項(xiàng)目監(jiān)測(cè)分析方法方法來(lái)源等效連續(xù)A聲級(jí)《工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)》GB12348-2008表8-4項(xiàng)目監(jiān)測(cè)質(zhì)控信息項(xiàng)目測(cè)量值mg/L標(biāo)準(zhǔn)值mg/L氨氮29.127.8±1.3氨氮28.327.8±1.3五日生化需氧量51.950.1±3.3硫酸鹽5.045.05±0.28氟化物0.8250.800±0.064硝酸鹽氮1.541.62±0.13動(dòng)植物油69.570.0±2.8總硬度1.37mmoL1.36±0.05mmoL總磷0.1170.113±0.006總氮3.043.02±0.14化學(xué)需氧量157160±9化學(xué)需氧量162160±9化學(xué)需氧量40.839.4±2.5化學(xué)需氧量39.439.4±2.5pH值7.33（無(wú)量綱）7.34±0.05（無(wú)量綱）pH值7.32（無(wú)量綱）7.34±0.05（無(wú)量綱）氯化氫1.471.50±0.07氯化氫1.441.50±0.07氯化氫1.491.50±0.07氯化氫1.521.50±0.07氨1.191.21±0.06氨1.241.21±0.06氨0.3920.385±0.017氨0.3720.385±0.017氨0.3970.385±0.017氟化物0.5950.625±0.034氟化物0.6450.625±0.034氟化物0.6410.625±0.034氮氧化物0.6140.631±0.019氮氧化物0.6300.631±0.019氮氧化物0.6240.631±0.019氮氧化物0.6400.631±0.019項(xiàng)目標(biāo)準(zhǔn)值（自配）實(shí)測(cè)值相對(duì)誤差%銅3.00mg/L3.01mg/L0.3砷10.0μg/L10.3μg/L3.0異丙醇392.55μg/mL382.3μg/mL-2.6非甲烷總烴總烴21.37mg/m320.6mg/m3-3.6甲烷5.30mg/m35.31mg/m30.2項(xiàng)目標(biāo)準(zhǔn)值（自配）實(shí)測(cè)值相對(duì)誤差%1,1-二氯乙烯600ng658ng9.7二氯甲烷600ng572ng-4.7反-1,2-二氯乙烯600ng591ng-1.41,1-二氯乙烷600ng538ng-10順-1,2-二氯乙烯600ng5