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文檔簡介

共沉淀產(chǎn)生的原因1、形成固溶體

設(shè)溶液有MI+、MⅡ+兩種金屬離子，當(dāng)加入沉淀劑A時(shí)，若MIA達(dá)到飽和而MⅡA未達(dá)到飽和，則應(yīng)當(dāng)只有MIA沉淀，但當(dāng)兩者晶格相同，且MI+、MⅡ+的半徑相近時(shí)，則MⅡ+將進(jìn)入MIA晶格，與之共同析出。2、表面吸附

晶體表面的離子的受力狀態(tài)與內(nèi)部離子不同。內(nèi)部離子周圍都由異電性的離子所包圍，受力狀態(tài)是對(duì)稱的，而表面的離子則有未飽和的鍵力，能吸引其他的離子，即能進(jìn)行表面吸附，表面吸附量與吸附離子性質(zhì)有關(guān)，即：（1）表面優(yōu)先吸附與晶體中相同的離子，如CaS04晶體表面優(yōu)先吸附S042-和Ca2+。（2）外界離子的被吸附量隨該離子電荷數(shù)的增加成指數(shù)地增加。因此高價(jià)離子容易被吸附。（3）在電荷及濃度相同的情況下，離子與晶格中離子形成的化合物的溶度積愈小，則愈易被吸附。3、吸留和機(jī)械夾雜

在晶體長大速度很快的情況下，晶體長大過程中表面吸附的雜質(zhì)來不及離開晶體表面而被包入晶體內(nèi)，這種現(xiàn)象稱為“吸留”。機(jī)械夾雜指顆粒間夾雜的溶液中所帶進(jìn)的雜質(zhì)，這種雜質(zhì)可通過洗滌的方法除去，而吸留的雜質(zhì)是不能用洗滌的方法除去的。4、后沉淀

沉淀析出后，在溶液中放置的過程中，溶液中的某些雜質(zhì)可能慢慢沉積到沉淀物表面上，如向含Cu2＋、Zn2＋的酸性溶液中通H2S，則CuS沉淀，ZnS不沉淀，但CuS表面吸附S2-、使S2-濃度增加，導(dǎo)致表面S2-濃度與Zn2+

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