標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 12085.12-2010 光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法 第12部分:污染》相比于其前身《GB/T 12085.12-1989 光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法 污染》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新與調(diào)整:
-
標(biāo)準(zhǔn)的適用范圍:2010版標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)適用的產(chǎn)品類型或試驗(yàn)條件進(jìn)行了更明確或擴(kuò)展的定義,以適應(yīng)近年來(lái)光學(xué)和光學(xué)儀器技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用需求變化。
-
污染測(cè)試方法的完善:新標(biāo)準(zhǔn)可能引入了更先進(jìn)的污染模擬技術(shù)和評(píng)價(jià)指標(biāo),對(duì)污染物的種類、濃度及試驗(yàn)時(shí)間等方面給出了更具體、科學(xué)的指導(dǎo),旨在提高測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。
-
環(huán)境因素的考慮:隨著對(duì)環(huán)境因素影響認(rèn)識(shí)的深入,2010版標(biāo)準(zhǔn)可能加入了更多關(guān)于溫度、濕度等環(huán)境條件對(duì)光學(xué)元件污染影響的評(píng)估內(nèi)容,以及如何控制這些變量以確保試驗(yàn)的有效性。
-
安全和環(huán)保要求:考慮到環(huán)境保護(hù)和操作人員安全的重要性日益增加,新標(biāo)準(zhǔn)可能新增了相關(guān)安全操作規(guī)程和環(huán)保要求,指導(dǎo)試驗(yàn)過程中有害物質(zhì)的處理和廢棄物的處置。
-
術(shù)語(yǔ)和定義的更新:為了與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)接軌并反映技術(shù)進(jìn)步,2010版標(biāo)準(zhǔn)對(duì)一些關(guān)鍵術(shù)語(yǔ)和定義進(jìn)行了修訂或新增,以提供更清晰、統(tǒng)一的溝通基礎(chǔ)。
-
數(shù)據(jù)處理和報(bào)告格式:新標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)測(cè)試數(shù)據(jù)的收集、分析方法及試驗(yàn)報(bào)告的編制格式提出了更詳細(xì)的要求,有助于提升報(bào)告的規(guī)范性和信息的可比性。
-
引用標(biāo)準(zhǔn)的更新:鑒于基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)規(guī)范的不斷演進(jìn),2010版標(biāo)準(zhǔn)可能引用了最新版本的相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),確保試驗(yàn)方法的先進(jìn)性和兼容性。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 12085.12-2022
- 2011-01-14 頒布
- 2011-05-01 實(shí)施



下載本文檔
GB/T 12085.12-2010光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法第12部分:污染-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
ICS37020
N30.
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T1208512—2010
代替.
GB/T12085.12—1989
光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法
第12部分污染
:
Opticsandopticalinstruments—Environmentaltestmethods—
Part12Contamination
:
(ISO9022-12:1994,MOD)
2011-01-14發(fā)布2011-05-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T1208512—2010
.
前言
光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法分為以下個(gè)部分
GB/T12085《》16:
第部分術(shù)語(yǔ)試驗(yàn)范圍
———1:、;
第部分低溫高溫濕熱
———2:、、;
第部分機(jī)械作用力
———3:;
第部分鹽霧
———4:;
第部分低溫低氣壓綜合試驗(yàn)
———5:、;
第部分砂塵
———6:;
第部分滴水淋雨
———7:、;
第部分高壓低壓浸沒
———8:、、;
第部分太陽(yáng)輻射
———9:;
第部分振動(dòng)正弦與高溫低溫綜合試驗(yàn)
———10:()、;
第部分長(zhǎng)霉
———11:;
第部分污染
———12:;
第部分沖擊碰撞或自由跌落與高溫低溫綜合試驗(yàn)
———13:、、;
第部分露霜冰
———14:、、;
第部分寬帶隨機(jī)振動(dòng)數(shù)字控制與高溫低溫綜合試驗(yàn)
———15:()、;
第部分彈跳或恒加速度與高溫低溫綜合試驗(yàn)
———16:、。
本部分為的第部分
GB/T1208512。
本部分修改采用光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法第部分污染
ISO9022-12:1994《12:》。
本部分與的主要差異如下
ISO9022-12:1994:
刪除國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的序言和前言
———;
根據(jù)第章及我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)用語(yǔ)習(xí)慣作了重新編寫
———ISO9022-121;
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)本部分一詞改為本部分
———“”“”。
本部分代替光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法污染與
GB/T12085.12—1989《》,GB/T12085.12—
的主要差異為
1989:
合并了范圍與試驗(yàn)?zāi)康?/p>
———;
增加了試驗(yàn)程序的總則規(guī)定了相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的依據(jù)
———,;
增加了環(huán)境試驗(yàn)的標(biāo)記名稱修改了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)的編寫
———,;
調(diào)整了附錄的標(biāo)準(zhǔn)編寫結(jié)構(gòu)
———A。
本部分的附錄為規(guī)范性附錄
A。
本部分由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出
。
本部分由全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口
(SAC/TC103)。
本部分起草單位上海理工大學(xué)寧波永新光學(xué)股份有限公司
:、。
本部分主要起草人章慧賢馮瓊輝曾麗珠葉慧
:、、、。
本部分所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為
:
———GB/T12085.12—1989。
Ⅰ
GB/T1208512—2010
.
光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法
第12部分污染
:
1范圍
本部分規(guī)定了污染試驗(yàn)條件條件試驗(yàn)試驗(yàn)程序及環(huán)境試驗(yàn)標(biāo)記
、、。
本部分中所指的污染的含義是腐蝕性化學(xué)物質(zhì)1)以下稱試劑同光學(xué)儀器的接觸
“”()。
本部分適用于光學(xué)儀器裝有光學(xué)零部件的儀器和光學(xué)零部件
、。
本部分不適用于作為正常的生產(chǎn)控制
。
本試驗(yàn)?zāi)康氖茄芯績(jī)x器尤其是儀器的表面涂層或合成材料短時(shí)間內(nèi)暴露在試劑中的抵抗能力
,、。
試驗(yàn)通常只用于在使用期有可能遭受污染的儀器選擇材料或元件時(shí)參考
。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過的本部分的引用而成為本部分的條款凡是注日期的引用文
GB/T12085。
件其隨后所有的修改單不包括勘誤的內(nèi)容或修訂版均不適用于本部分然而鼓勵(lì)根據(jù)本部分達(dá)成
,(),,
協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本凡是不注日期的引用文件其最新版本適用于本
。,
部分
。
光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法第部分術(shù)語(yǔ)試驗(yàn)范圍―
GB/T12085.11:、(GB/T12085.1
2010,ISO9022-1:1994,MOD)
3試驗(yàn)條件
31總則
.
試驗(yàn)應(yīng)在規(guī)定的大氣環(huán)境條件下進(jìn)行
GB/T12085.1。
在第章條件試驗(yàn)中列出的試劑表示了不同的化學(xué)試劑種類
4。
32試樣
.
除有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)要求整臺(tái)儀器或部件試驗(yàn)外試驗(yàn)應(yīng)采用代表性樣品作試樣
,。
非金屬涂層試驗(yàn)的基片用至少厚的代表性材料按圖中所示尺寸制作
1mm1。
注有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)也可以規(guī)定試片的長(zhǎng)度為或
:140mm±2mm280mm±2mm。
待試涂層的結(jié)構(gòu)應(yīng)與儀器或儀器的部件所用涂層結(jié)構(gòu)相同
。
試樣施加涂層前的表面應(yīng)與所代表的儀器或部件的表面用同樣的方法制備涂層應(yīng)完全地覆蓋住
,
試樣的表面以至于能夠覆蓋特殊的邊角和孔的邊緣涂層的厚度應(yīng)與儀器或部件的涂層的厚度相同
,、。
偏差不超過試樣的標(biāo)記數(shù)字等應(yīng)在施加涂層前制作好制備好的試樣必須防止污染直到試
(5μm),、。
溫馨提示
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