標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 26533-2011 俄歇電子能譜分析方法通則》是中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)之一,主要規(guī)定了使用俄歇電子能譜進(jìn)行材料表面元素定性及定量分析的基本原則、實(shí)驗(yàn)條件選擇、樣品制備要求、數(shù)據(jù)分析與處理方法等內(nèi)容。該標(biāo)準(zhǔn)適用于研究材料表面成分分布、化學(xué)狀態(tài)變化以及微觀結(jié)構(gòu)特征等領(lǐng)域。
在實(shí)驗(yàn)條件的選擇上,《GB/T 26533-2011》強(qiáng)調(diào)了對(duì)儀器參數(shù)如加速電壓、束斑大小等的合理設(shè)置,以確保獲得高質(zhì)量的數(shù)據(jù)。同時(shí),對(duì)于不同類型的樣品,標(biāo)準(zhǔn)也給出了相應(yīng)的建議,比如金屬、半導(dǎo)體或絕緣體材料可能需要采取不同的預(yù)處理措施來優(yōu)化測(cè)試效果。
關(guān)于樣品制備,《GB/T 26533-2011》指出應(yīng)根據(jù)實(shí)際需求和樣品特性選擇合適的方法。例如,對(duì)于導(dǎo)電性較差的樣品,在不破壞其原有性質(zhì)的前提下,可通過鍍膜等方式提高其導(dǎo)電性能;而對(duì)于容易揮發(fā)或者受熱易變性的樣品,則需特別注意控制環(huán)境溫度等因素。
此外,《GB/T 26533-2011》還詳細(xì)介紹了如何利用軟件工具對(duì)采集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,包括背景扣除、峰值擬合等步驟,并提供了基于理論模型計(jì)算元素濃度的方法指導(dǎo)。通過這些技術(shù)手段,可以更準(zhǔn)確地解析出樣品表面各元素的存在形式及其相對(duì)含量信息。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2011-05-12 頒布
- 2011-12-01 實(shí)施




文檔簡(jiǎn)介
ICS3702017180
;
N33..
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T26533—2011
俄歇電子能譜分析方法通則
GeneralrulesforAugerelectronspectroscopicanalysis
2011-05-12發(fā)布2011-12-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T26533—2011
目次
前言…………………………
Ⅲ
范圍………………………
11
規(guī)范性引用文件…………………………
21
術(shù)語(yǔ)和定義………………
31
方法原理…………………
41
儀器………………………
52
儀器組成……………
5.12
儀器性能……………
5.23
樣品………………………
63
分析步驟…………………
74
能量標(biāo)尺校正………………………
7.14
定性分析及操作步驟…………
7.2AES6
俄歇電子能譜的定量分析…………
7.36
深度剖析……………
7.47
元素化學(xué)態(tài)分析……………………
7.57
分析結(jié)果的表述…………………………
87
俄歇全譜……………
8.17
窄譜…………………
8.27
線掃描譜……………
8.37
深度剖析譜…………………………
8.47
多點(diǎn)顯微對(duì)比分析…………………
8.58
樣品表面元素分布圖………………
8.6(Augermap)8
分析結(jié)果表述方式…………………
8.78
圖俄歇躍遷………………………
1KL1L32
圖俄歇電子能譜簡(jiǎn)圖……………………
22
圖和三個(gè)參考物質(zhì)的直接譜和微分譜相對(duì)能量分辨率………
3Cu、AuAl(0.3%)5
表參考物質(zhì)的俄歇電子動(dòng)能參考值……………………
14
Ⅰ
GB/T26533—2011
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口
(SAC/TC38)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位清華大學(xué)化學(xué)系
:。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人姚文清李展平曹立禮朱永法
:、、、。
Ⅲ
GB/T26533—2011
俄歇電子能譜分析方法通則
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了以電子束為激發(fā)源的俄歇電子能譜的一般表面
(AES,AugerElectronSpectroscopy)
分析方法
。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于俄歇電子能譜儀
。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
表面化學(xué)分析詞匯
GB/T22461—2008
表面化學(xué)分析深度分析濺射深度的測(cè)量
ISO/TR15969:2001(SurfaceChemicalAnalysis—
DepthProfiling—MeasurementofSputteredDepth)
表面化學(xué)分析表面分析樣品的制備和固定方法指南
ISO18116:2005(SurfaceChemicalAnal-
ysis—GuidelinesforPreparationandMountingofSpecimensforAnalysis)
表面化學(xué)分析和均勻材料定量分析所用的實(shí)驗(yàn)相對(duì)靈敏度因
ISO18118:2002(E)AESXPS
子使用指南
(SurfaceChemicalAnalysis—AESandXPS—GuidetouseofExperimentalRelativeSensi-
tivityFactorsfortheQuantitativeAnalysisofHomogeneousMaterials)
表面化學(xué)分析俄歇電子能譜化學(xué)信息來源
ISO/TR18394:2006(SurfaceChemical
Analysis—AugerElectronSpectrometers—DerivationofChemicalInformation)
表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和射線光電子譜分析者對(duì)于橫向分辨
ISO/TR19319:2003X
率分析范圍和樣品觀察范圍的測(cè)定
、(SurfaceChemicalAnalysis—AugerEletronSpectroscopyandX-
rayPhotoelectronSpectroscopy—DeterminationofLateralResolution,AnalysisArea,andSample
AreaViewedbytheAnalyser)
表面分析中制樣和裝樣的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTME1078—2002(StandsardGuideforSpecimenPrepa-
rationandMountinginSurfaceAnalysis)
表面分析前樣品處理標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTME1829—2002
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