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新型網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)Sip/Al復(fù)合材料的
制備及組織性能研究
文獻(xiàn)總結(jié)
主要內(nèi)容:
英文文獻(xiàn)翻譯EffectofSicontentonmicrostructureandpropertiesofSi/Alcomposites(Si含量對(duì)Si/Al復(fù)合材料組織和性能的影響)
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Si/Al電子封裝材料粉末冶金制備工藝研究
Sip/Al復(fù)合材料中的界面和硅相形貌的演變
界面及Si元素含量對(duì)Si-Al復(fù)合材料導(dǎo)熱性能的影響論文簡(jiǎn)述EffectofSicontentonmicrostructureandpropertiesofSi/Alcomposites(Si含量對(duì)Si/Al復(fù)合材料組織和性能的影響):
利用放電等離子體燒結(jié)技術(shù)制備Si/Al復(fù)合材料,研究不同Si含量對(duì)復(fù)合材料各性能的影響。Si-Al電子封裝材料粉末冶金制備工藝研究:
楊培勇等人利用粉末冶金液相燒結(jié)技術(shù)制備所需復(fù)合材料,研究了壓制壓力、燒結(jié)工藝對(duì)材料微觀組織及性能的影響論文簡(jiǎn)述Sip/Al復(fù)合材料中的界面和硅相形貌的演變
王小峰等人利用擠壓鑄造法制備Sip/Al復(fù)合材料,研究不同高溫真空熱處理工藝條件下,高體積分?jǐn)?shù)Sip/Al復(fù)合材料(φ(Si)=65%)中硅鋁界面特征與硅相形貌的演變過程。界面及Si元素含量對(duì)Si-Al復(fù)合材料導(dǎo)熱性能的影響
修子揚(yáng)等人采用壓力浸滲專利技術(shù)制備了,體積分?jǐn)?shù)為65%的高體積分?jǐn)?shù)環(huán)保型Sip/Al復(fù)合材料.研究了基體與增強(qiáng)體中Si含量對(duì)材料導(dǎo)熱性能的影響。
作為電子封裝材料,Si/Al復(fù)合材料主要考慮的性能有:
密度較低的密度熱導(dǎo)性較高的導(dǎo)熱系數(shù)熱膨脹系數(shù)較小的熱膨脹系數(shù),與芯片匹配彎曲強(qiáng)度一定的彎曲強(qiáng)度起到支撐保護(hù)的作用影響因素復(fù)合材料中Si的含量制備工藝參數(shù)后續(xù)熱處理工藝
密度的影響情況①楊培勇等人利用粉末冶金液相燒結(jié)技術(shù)制備Si/Al復(fù)合材料,130μmSi粉與13μm的Al粉按質(zhì)量1:1混合
壓制壓力對(duì)燒結(jié)體密度的影響密度的影響情況
700℃低溫?zé)Y(jié)壓制壓力增加,燒結(jié)體密度呈上升趨勢(shì)1000℃高溫?zé)Y(jié)壓制壓力增加,燒結(jié)體密度較大,但變化不明顯壓坯壓制壓力增加,密度呈上升趨勢(shì)密度的影響情況結(jié)果分析:700℃低溫?zé)Y(jié):Al液粘度較大,與Si的潤(rùn)濕性差,液相的流動(dòng)對(duì)孔隙的填充作用有限,材料空隙率較大。1000℃高溫?zé)Y(jié):Al流動(dòng)性較好,與Si的潤(rùn)濕性好,材料內(nèi)部氣孔減少,材料密度較大,且隨壓制壓力變化不大。壓坯:本身孔隙率較大。
密度的影響情況②放電等離子體燒結(jié),
10μm的Al粉和44μm的Si粉混合制備Si的體積分?jǐn)?shù)分別是50%,55%,60%,65%,70%的Si/Al復(fù)合材料。
Si含量對(duì)復(fù)合材料密度的影響隨著Si含量的增加,復(fù)合材料氣孔率增加(毛細(xì)作用影響),導(dǎo)致密度下降Si含量↑密度↓密度的影響情況影響密度的主要因素為材料內(nèi)部的大小氣孔率熱導(dǎo)率的影響情況①粉末冶金液相燒結(jié)制備過程中壓制壓力對(duì)材料熱導(dǎo)率的影響720MPa附近出現(xiàn)峰值熱導(dǎo)率的影響情況結(jié)果分析:700℃低溫?zé)Y(jié):
材料內(nèi)部空隙率隨著壓制壓力的增大而降低,增強(qiáng)了熱導(dǎo)率。1000℃高溫?zé)Y(jié):
孔隙率變化不大,但Si-Al界面結(jié)合狀態(tài)改善,大的壓制壓力下形成適當(dāng)?shù)囊苯鸾Y(jié)合形態(tài)。
壓制壓力超過720MPa,脆性相Si內(nèi)部出現(xiàn)微裂紋,缺陷甚至顆粒已經(jīng)發(fā)生解理、破碎。1000℃高溫?zé)Y(jié)缺陷也無法完全恢復(fù)。新的解理面對(duì)聲子和自由電子的散射相當(dāng)嚴(yán)重,導(dǎo)致界面熱阻增加。熱導(dǎo)率的影響情況②粉末冶金液相燒結(jié)制備過程中燒結(jié)溫度和時(shí)間對(duì)熱導(dǎo)率的影響1)提高燒結(jié)溫度可以促進(jìn)氧化鋁膜的破裂,改善體系的潤(rùn)濕性。促進(jìn)液態(tài)Al的流動(dòng)和Si顆粒的重排過程的進(jìn)行,減少材料內(nèi)部大量存在的孔洞。
2)提高燒結(jié)溫度和延長(zhǎng)燒結(jié)時(shí)間有利于溶解-析出過程的充分進(jìn)行
,細(xì)小Si顆粒大部分消失,顆粒形狀發(fā)生鈍化。材料內(nèi)部的界面總數(shù)大大減少,界面對(duì)自由電子和聲子的散射降低,
導(dǎo)致材料的熱導(dǎo)率升高
3)通過提高燒結(jié)溫度和適當(dāng)延長(zhǎng)燒結(jié)時(shí)間改善體系的潤(rùn)濕性和促進(jìn)溶解析出過程的進(jìn)行有利于材料內(nèi)部高熱導(dǎo)Al基體形成連通網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。這對(duì)于材料內(nèi)部熱量有效地傳遞。4)1000℃x2h時(shí),材料的熱導(dǎo)率最高若繼續(xù)升高燒結(jié)溫度或延長(zhǎng)燒結(jié)時(shí)間Si顆粒發(fā)生比較嚴(yán)重的團(tuán)聚和偏析,阻斷Al的連通網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。熱導(dǎo)率的影響情況③修子揚(yáng)等人采用壓力浸滲專利技術(shù)制備了體積分?jǐn)?shù)為65%Sip/Al復(fù)合材料.平均粒徑10
μm高純Si顆粒,以LG5,LD11,Al-Si20為基體。Si含量對(duì)復(fù)合材料導(dǎo)熱性能的影響隨著Si含量的增加熱導(dǎo)率逐漸下降,主要是由于Si的熱導(dǎo)率比Al要低的多。單晶Si的導(dǎo)熱系數(shù)為148W/(m·K),而Al的導(dǎo)熱系數(shù)為237W/(m·K)
不管是基體還是增強(qiáng)體,增加Si的含量,都是添加了附加相,都會(huì)引入Si-Al界面,降低熱導(dǎo)。熱導(dǎo)率的影響情況熱處理對(duì)導(dǎo)熱性能的影響
復(fù)合材料經(jīng)擠壓鑄造法制備,制備過程中由于Si和Al的熱膨脹系數(shù)不匹配,在冷卻過程中會(huì)在Si一Al界面處引入大量的熱錯(cuò)配應(yīng)力。這種熱應(yīng)力會(huì)使得基體合金的晶格發(fā)生畸變,從而導(dǎo)致品格產(chǎn)生非諧振,降低熱傳導(dǎo)性能。
退火的主要目的就是使這種熱錯(cuò)配應(yīng)力降低。因此,復(fù)合材料經(jīng)過退火處理后熱導(dǎo)率會(huì)上升。熱導(dǎo)率的影響情況
影響熱導(dǎo)率的主要因素所含相自身的導(dǎo)熱性(Si含量)氣孔夾雜位錯(cuò)、界面的熱阻效應(yīng)熱膨脹系數(shù)的影響情況放電等離子體燒結(jié)制備復(fù)合材料Si含量對(duì)熱膨脹系數(shù)的影響Si的熱膨脹系數(shù)(4.1x10-6K-1)比Al的熱膨脹系數(shù)(23.6x10-6K-1)小很多。實(shí)驗(yàn)值最低可達(dá)到9.2x10-6K-1
Si含量為60%時(shí)復(fù)合材料熱膨脹系數(shù)為9.8x10-6K-1
與半導(dǎo)體熱膨脹系數(shù)相似熱膨脹系數(shù)的影響情況影響熱膨脹系數(shù)的因素所含相自身的熱膨脹系數(shù)彎曲強(qiáng)度的影響情況放電等離子體燒結(jié)技術(shù)制備Si/Al復(fù)合材料Si含量對(duì)彎曲強(qiáng)度的影響Si相為脆性相Si/Al復(fù)合材料的斷裂方式主要
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