薄膜光學(xué)9-1課件

薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介APS1104德國(guó)Leybold中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介APS1104真空室內(nèi)情況中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介鏡片懸掛機(jī)構(gòu)中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介改進(jìn)蒸發(fā)工藝、改善膜層的微觀結(jié)構(gòu)基本的思路：附加一定的能量到被鍍的表面上去，利用這些能量移開弱束縛的粒子，使達(dá)到基板的材料粒子有高的遷移率。由于附加了能量，膜料粒子可以穿透比較遠(yuǎn)的距離，去找到一個(gè)有比較強(qiáng)束縛的位置。從而使膜層的結(jié)構(gòu)得到改善。具體實(shí)施辦法：在膜層沉積的同時(shí)，利用電子、光子、離子將能量附加到基底上去，這不僅有利于清潔被鍍表面，也增加了膜層的致密度。

近十幾年的趨勢(shì)是利用荷能的離子完成基片清潔和改善膜層結(jié)構(gòu)的任務(wù)近20年來圍繞電子束蒸發(fā)出現(xiàn)的三種先進(jìn)蒸發(fā)工藝離子輔助反應(yīng)離子鍍等離子體增強(qiáng)離子輔助薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所離子輔助IADIAD技術(shù)是在電子束蒸發(fā)的同時(shí)用離子束轟擊，離子由離子源產(chǎn)生，離子束由柵極引出，電子槍和離子源各自獨(dú)立工作。膜層在離子的轟擊作用下獲得能量，使結(jié)構(gòu)得到改善。薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所離子體增強(qiáng)的離子輔助技術(shù)等離子源采用熱陰極、筒狀陽極及軸向發(fā)散形磁場(chǎng)，在輔助沉積過程中，放電氣體(Ar氣)進(jìn)入APS源，放電產(chǎn)生的等離子體在交叉電磁場(chǎng)的作用下被拔出APS，并在電磁場(chǎng)作用下漂向基板，放電氣體形成的等離子體形成一個(gè)園維體充滿基板下的空間。這時(shí)充入反應(yīng)氣體(O2等)，等離子體電離并激活反應(yīng)氣體及從電子槍蒸發(fā)出的材料分子，并在基板上得到符合化學(xué)計(jì)量比的電介質(zhì)薄膜。薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介控制系統(tǒng)時(shí)間顏色光學(xué)控制石英晶體震蕩控制中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介光學(xué)膜厚監(jiān)控系統(tǒng)中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所薄膜光學(xué)——蒸發(fā)工藝簡(jiǎn)介輔助系統(tǒng)加溫溫度測(cè)量與控制充氣真空度測(cè)量與壓強(qiáng)控制工件架公、自轉(zhuǎn)，均勻性調(diào)整離子轟擊直流與射頻比較片架透射、反射、內(nèi)反射中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所薄膜光