




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文檔簡(jiǎn)介
湖南科技大學(xué)模擬電路場(chǎng)效應(yīng)管放大電路第1頁(yè)/共67頁(yè)2P溝道耗盡型P溝道P溝道N溝道增強(qiáng)型N溝道N溝道(耗盡型)FET場(chǎng)效應(yīng)管JFET結(jié)型MOSFET絕緣柵型(IGFET)耗盡型:場(chǎng)效應(yīng)管沒(méi)有加偏置電壓時(shí),就有導(dǎo)電溝道存在增強(qiáng)型:場(chǎng)效應(yīng)管沒(méi)有加偏置電壓時(shí),沒(méi)有導(dǎo)電溝道場(chǎng)效應(yīng)管的分類(lèi):第2頁(yè)/共67頁(yè)35.1金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)場(chǎng)效應(yīng)管5.1.1N溝道增強(qiáng)型MOSFET5.1.5MOSFET的主要參數(shù)5.1.2N溝道耗盡型MOSFET5.1.3P溝道MOSFET5.1.4溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)第3頁(yè)/共67頁(yè)45.1.1N溝道增強(qiáng)型MOSFET1.結(jié)構(gòu)(N溝道)L:溝道長(zhǎng)度W:溝道寬度tox
:絕緣層厚度通常W>L第4頁(yè)/共67頁(yè)55.1.1N溝道增強(qiáng)型MOSFET剖面圖1.結(jié)構(gòu)(N溝道)符號(hào)第5頁(yè)/共67頁(yè)65.1.1N溝道增強(qiáng)型MOSFET2.工作原理(1)vGS對(duì)溝道的控制作用當(dāng)vGS≤0時(shí)
無(wú)導(dǎo)電溝道,d、s間加電壓時(shí),也無(wú)電流產(chǎn)生。當(dāng)0<vGS<VT時(shí)
產(chǎn)生電場(chǎng),但未形成導(dǎo)電溝道(感生溝道),d、s間加電壓后,沒(méi)有電流產(chǎn)生。當(dāng)vGS>VT時(shí)
在電場(chǎng)作用下產(chǎn)生導(dǎo)電溝道,d、s間加電壓后,將有電流產(chǎn)生。
vGS越大,導(dǎo)電溝道越厚VT稱(chēng)為開(kāi)啟電壓第6頁(yè)/共67頁(yè)72.工作原理(2)vDS對(duì)溝道的控制作用靠近漏極d處的電位升高電場(chǎng)強(qiáng)度減小溝道變薄當(dāng)vGS一定(vGS>VT)時(shí),vDSID溝道電位梯度整個(gè)溝道呈楔形分布第7頁(yè)/共67頁(yè)8當(dāng)vGS一定(vGS>VT)時(shí),vDSID溝道電位梯度
當(dāng)vDS增加到使vGD=VT時(shí),在緊靠漏極處出現(xiàn)預(yù)夾斷。2.工作原理(2)vDS對(duì)溝道的控制作用在預(yù)夾斷處:vGD=vGS-vDS=VT第8頁(yè)/共67頁(yè)9預(yù)夾斷后,vDS夾斷區(qū)延長(zhǎng)溝道電阻ID基本不變2.工作原理(2)vDS對(duì)溝道的控制作用第9頁(yè)/共67頁(yè)102.工作原理(3)vDS和vGS同時(shí)作用時(shí)
vDS一定,vGS變化時(shí)
給定一個(gè)vGS,就有一條不同的iD–
vDS曲線(xiàn)。第10頁(yè)/共67頁(yè)第11頁(yè)/共67頁(yè)123.
V-I特性曲線(xiàn)及大信號(hào)特性方程(1)輸出特性及大信號(hào)特性方程①截止區(qū)當(dāng)vGS<VT時(shí),導(dǎo)電溝道尚未形成,iD=0,為截止工作狀態(tài)。第12頁(yè)/共67頁(yè)133.
V-I特性曲線(xiàn)及大信號(hào)特性方程(1)輸出特性及大信號(hào)特性方程②可變電阻區(qū)
vDS≤(vGS-VT)由于vDS較小,可近似為rdso是一個(gè)受vGS控制的可變電阻第13頁(yè)/共67頁(yè)143.
V-I特性曲線(xiàn)及大信號(hào)特性方程(1)輸出特性及大信號(hào)特性方程②可變電阻區(qū)
n:反型層中電子遷移率Cox:柵極(與襯底間)氧化層單位面積電容本征電導(dǎo)因子其中Kn為電導(dǎo)常數(shù),單位:mA/V2第14頁(yè)/共67頁(yè)153.
V-I特性曲線(xiàn)及大信號(hào)特性方程(1)輸出特性及大信號(hào)特性方程③飽和區(qū)(恒流區(qū)又稱(chēng)放大區(qū))vGS>VT
,且vDS≥(vGS-VT)是vGS=2VT時(shí)的iDV-I特性:第15頁(yè)/共67頁(yè)163.
V-I特性曲線(xiàn)及大信號(hào)特性方程(2)轉(zhuǎn)移特性第16頁(yè)/共67頁(yè)17(二)工作原理(1)增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效管上一頁(yè)下一頁(yè)返回下一節(jié)上一節(jié)
導(dǎo)電溝道的形成17第17頁(yè)/共67頁(yè)185.1.2N溝道耗盡型MOSFET1.結(jié)構(gòu)和工作原理(N溝道)二氧化硅絕緣層中摻有大量的正離子可以在正或負(fù)的柵源電壓下工作,而且基本上無(wú)柵流第18頁(yè)/共67頁(yè)第19頁(yè)/共67頁(yè)205.1.2N溝道耗盡型MOSFET2.V-I特性曲線(xiàn)及大信號(hào)特性方程
(N溝道增強(qiáng)型)第20頁(yè)/共67頁(yè)215.1.3P溝道MOSFET第21頁(yè)/共67頁(yè)22(2)耗盡型MOS場(chǎng)效管上一頁(yè)下一頁(yè)返回下一節(jié)上一節(jié)22第22頁(yè)/共67頁(yè)23(三)特性曲線(xiàn)上一頁(yè)下一頁(yè)返回下一節(jié)上一節(jié)23第23頁(yè)/共67頁(yè)24(四)四種MOS場(chǎng)效管的簡(jiǎn)介上一頁(yè)下一頁(yè)返回下一節(jié)上一節(jié)24第24頁(yè)/共67頁(yè)255.1.4溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)實(shí)際上飽和區(qū)的曲線(xiàn)并不是平坦的L的單位為m當(dāng)不考慮溝道調(diào)制效應(yīng)時(shí),=0,曲線(xiàn)是平坦的。
修正后第25頁(yè)/共67頁(yè)265.1.5MOSFET的主要參數(shù)一、直流參數(shù)NMOS增強(qiáng)型1.開(kāi)啟電壓VT
(增強(qiáng)型參數(shù))2.夾斷電壓VP
(耗盡型參數(shù))3.飽和漏電流IDSS
(耗盡型參數(shù))4.直流輸入電阻RGS
(109Ω~1015Ω
)二、交流參數(shù)1.輸出電阻rds
當(dāng)不考慮溝道調(diào)制效應(yīng)時(shí),=0,rds→∞
第26頁(yè)/共67頁(yè)275.1.5MOSFET的主要參數(shù)2.低頻互導(dǎo)gm
二、交流參數(shù)考慮到則其中第27頁(yè)/共67頁(yè)285.1.5MOSFET的主要參數(shù)三、極限參數(shù)1.最大漏極電流IDM
2.最大耗散功率PDM
3.最大漏源電壓V(BR)DS
4.最大柵源電壓V(BR)GS
PDM:管子正常工作時(shí)漏極電流允許的最大值PDM
:管子的耗散功率不能大于該值V(BR)DS
:指發(fā)生雪崩擊穿,iD開(kāi)始急劇上升的VDS
V(BR)GS
:柵源間反向電流急劇增加時(shí)的VGS
第28頁(yè)/共67頁(yè)第29頁(yè)/共67頁(yè)305.2MOSFET放大電路5.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算2.圖解分析3.小信號(hào)模型分析第30頁(yè)/共67頁(yè)第31頁(yè)/共67頁(yè)325.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算(1)簡(jiǎn)單的共源極放大電路(N溝道)直流通路共源極放大電路第32頁(yè)/共67頁(yè)335.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算(1)簡(jiǎn)單的共源極放大電路(N溝道)假設(shè)工作在飽和區(qū),即驗(yàn)證是否滿(mǎn)足如果不滿(mǎn)足,則說(shuō)明假設(shè)錯(cuò)誤須滿(mǎn)足VGS>VT
,否則工作在截止區(qū)再假設(shè)工作在可變電阻區(qū)即第33頁(yè)/共67頁(yè)34假設(shè)工作在飽和區(qū)滿(mǎn)足假設(shè)成立,結(jié)果即為所求。解:例:設(shè)Rg1=60k,Rg2=40k,Rd=15k,試計(jì)算電路的靜態(tài)漏極電流IDQ和漏源電壓VDSQ。VDD=5V,VT=1V,第34頁(yè)/共67頁(yè)355.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算(2)帶源極電阻的NMOS共源極放大電路飽和區(qū)需要驗(yàn)證是否滿(mǎn)足第35頁(yè)/共67頁(yè)365.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算靜態(tài)時(shí),vI=0,VG=0,ID=I電流源偏置VS=VG-VGS(飽和區(qū))第36頁(yè)/共67頁(yè)375.2.1MOSFET放大電路2.圖解分析由于負(fù)載開(kāi)路,交流負(fù)載線(xiàn)與直流負(fù)載線(xiàn)相同第37頁(yè)/共67頁(yè)385.2.1MOSFET放大電路3.小信號(hào)模型分析(1)模型靜態(tài)值(直流)動(dòng)態(tài)值(交流)非線(xiàn)性失真項(xiàng)當(dāng),vgs<<2(VGSQ-VT)時(shí),第38頁(yè)/共67頁(yè)395.2.1MOSFET放大電路3.小信號(hào)模型分析(1)模型0時(shí)高頻小信號(hào)模型第39頁(yè)/共67頁(yè)第40頁(yè)/共67頁(yè)413.小信號(hào)模型分析(2)放大電路分析(例5.2.5)假設(shè)工作在飽和區(qū)滿(mǎn)足解:第41頁(yè)/共67頁(yè)423.小信號(hào)模型分析(2)放大電路分析(例5.2.5)s第42頁(yè)/共67頁(yè)433.小信號(hào)模型分析(2)放大電路分析(例5.2.6)共漏第43頁(yè)/共67頁(yè)443.小信號(hào)模型分析(2)放大電路分析end第44頁(yè)/共67頁(yè)第45頁(yè)/共67頁(yè)465.3結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管5.3.1JFET的結(jié)構(gòu)和工作原理5.3.2JFET的特性曲線(xiàn)及參數(shù)5.3.3JFET放大電路的小信號(hào)模型分析法第46頁(yè)/共67頁(yè)475.3.1JFET的結(jié)構(gòu)和工作原理1.結(jié)構(gòu)#
符號(hào)中的箭頭方向表示什么?第47頁(yè)/共67頁(yè)482.工作原理①vGS對(duì)溝道的控制作用當(dāng)vGS<0時(shí)(以N溝道JFET為例)
當(dāng)溝道夾斷時(shí),對(duì)應(yīng)的柵源電壓vGS稱(chēng)為夾斷電壓VP
(或VGS(off))。對(duì)于N溝道的JFET,VP<0。PN結(jié)反偏耗盡層加厚溝道變窄。
vGS繼續(xù)減小,溝道繼續(xù)變窄。第48頁(yè)/共67頁(yè)492.工作原理(以N溝道JFET為例)②vDS對(duì)溝道的控制作用當(dāng)vGS=0時(shí),vDSIDG、D間PN結(jié)的反向電壓增加,使靠近漏極處的耗盡層加寬,溝道變窄,從上至下呈楔形分布。
當(dāng)vDS增加到使vGD=VP時(shí),在緊靠漏極處出現(xiàn)預(yù)夾斷。此時(shí)vDS夾斷區(qū)延長(zhǎng)溝道電阻ID基本不變第49頁(yè)/共67頁(yè)502.工作原理(以N溝道JFET為例)③
vGS和vDS同時(shí)作用時(shí)當(dāng)VP<vGS<0時(shí),導(dǎo)電溝道更容易夾斷,對(duì)于同樣的vDS,
ID的值比vGS=0時(shí)的值要小。在預(yù)夾斷處vGD=vGS-vDS=VP第50頁(yè)/共67頁(yè)51綜上分析可知
溝道中只有一種類(lèi)型的多數(shù)載流子參與導(dǎo)電,
所以場(chǎng)效應(yīng)管也稱(chēng)為單極型三極管。JFET是電壓控制電流器件,iD受vGS控制。預(yù)夾斷前iD與vDS呈近似線(xiàn)性關(guān)系;預(yù)夾斷后,iD趨于飽和。#
為什么JFET的輸入電阻比BJT高得多?JFET柵極與溝道間的PN結(jié)是反向偏置的,因
此iG0,輸入電阻很高。第51頁(yè)/共67頁(yè)525.3.2JFET的特性曲線(xiàn)及參數(shù)2.轉(zhuǎn)移特性1.輸出特性第52頁(yè)/共67頁(yè)53與MOSFET類(lèi)似3.主要參數(shù)5.3.2JFET的特性曲線(xiàn)及參數(shù)第53頁(yè)/共67頁(yè)545.3.2FET放大電路的小信號(hào)模型分析法1.FET小信號(hào)模型(1)低頻模型第54頁(yè)/共67頁(yè)55(2)高頻模型第55頁(yè)/共67頁(yè)562.動(dòng)態(tài)指標(biāo)分析(1)中頻小信號(hào)模型第56頁(yè)/共67頁(yè)572.動(dòng)態(tài)指標(biāo)分析(2)中頻電壓增益(3)輸入電阻(4)輸出電阻忽略rds,由輸入輸出回路得則通常則end第57頁(yè)/共67頁(yè)58場(chǎng)效應(yīng)管放大電路分析(1)偏置電路及靜態(tài)分析第58頁(yè)/共67頁(yè)59分壓式自偏壓電路直流通道VG=VDDRg2/(Rg1+Rg2)VGS=VG-VS=VG-IDRI
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