創(chuàng)元開耀fccl測試報告

CustomerName：用戶名稱：珠海創(chuàng)元開耀版權(quán)說明本文檔中提及的圖像處理系統(tǒng)及相關(guān)軟件的版權(quán)均屬美國

Wintriss檢測技術(shù)公司所有。本測試報告的版權(quán)也屬于美國Wintriss檢測技術(shù)公司所

有，本報告只用于用戶內(nèi)部交流，未獲美國Wintriss檢測技術(shù)公司許可情況下，不得復(fù)制、散發(fā)、提供給第三方或用于其他商業(yè)目的。用戶生產(chǎn)線數(shù)據(jù)1檢測需求信息檢測需求分析2光學(xué)配置方案設(shè)備選型光學(xué)配置3樣本測試結(jié)果拍攝的缺陷圖像4測試結(jié)論圖像分析Material(檢測材料)FCCLColor

&

Thickness（顏色及厚度）紫銅色Web

Width(幅面寬度)500

mm（max）Web

Speed(生產(chǎn)線速度)10 m/min

(max)檢測系統(tǒng)Wintriss

Web

Ranger檢測平臺Wintriss滑軌式測試平臺需檢測的最小缺陷尺寸CDMD檢測系統(tǒng)分辨率CDMD0.065

mm0.065mm0.065

mm0.065mm相機及參數(shù)型號行掃描頻率角度(相對材料)增益OPSIS7500600090°Or

45°2.5光源及參數(shù)類型電流強度角度(相對材料)光源到材料距離LED2A30°~45°10CM相機鏡頭焦距光圈數(shù)值50mm4光學(xué)配置方案一：正面反射Bilevel

（看在輥面）相機LED光源導(dǎo)輥結(jié)論：“扎點”在Bilevel光源下呈現(xiàn)為黑白結(jié)合的凹凸點，灰階差異明顯，容易檢出。結(jié)論：“臟污”在Bilevel光源下呈現(xiàn)為黑色，第一張缺陷，灰階差異較小，檢測有難度；后三張圖片灰階差異明顯，容易檢出。結(jié)論：“燒點”在Bilevel光源下呈現(xiàn)為黑色點狀，灰階差異明顯，容易檢出。

“水印”在Bilevel光源下基本沒有灰階差異，檢不出。

“白點”在Bilevel光源下基本沒有灰階差異，檢不出。結(jié)論：“燒點”在Bilevel光源下呈現(xiàn)為黑色點狀，灰階差異明顯，容易檢出。

“臟污”在Bilevel光源下基本沒有灰階差異，檢不出。結(jié)論：“異色”在Bilevel光源下基本沒有灰階差異，檢不出。結(jié)論：“輥印”在Bilevel光源下基本沒有灰階差異，檢不出。1、相機看在輥面、光源明暗交界處。2、樣品1的“扎點”、樣品2的“臟污”、樣品3和樣品4的“燒點”在此配置下，灰階差異明顯，容易檢出。3、樣品3的“水印”和“白點”、樣品4的“臟污”、樣品5的“異色”、樣品6的“輥印”在此配置下，基本沒有灰階差異，檢不出。光學(xué)配置方案二：正面反射出輥面處、光源暗區(qū)相機LED光源導(dǎo)輥45°30°結(jié)論：“扎點”在光源暗區(qū)基本沒有灰階差異，檢不出。結(jié)論：“臟污”在光源暗區(qū)呈現(xiàn)為黑色，四張缺陷均灰階差異明顯，容易檢出。結(jié)論：“燒點”在光源暗區(qū)呈現(xiàn)為黑色點狀，灰階差異明顯，容易檢出。

“水印”在光源暗區(qū)呈現(xiàn)為白色圓圈形，有灰階差異，可以檢出。

“白點”在光源暗區(qū)呈現(xiàn)為白色點狀，有灰階差異，可以檢出。結(jié)論：“燒點”在光源暗區(qū)呈現(xiàn)為黑色點狀，灰階差異明顯，容易檢出。

“臟污”在光源暗區(qū)呈現(xiàn)為大面積白色，有灰階差異，使用大filter、高靈敏度，可以檢出。結(jié)論：“異色”在光源暗區(qū)基本沒有灰階差異，檢不出。結(jié)論：“輥印”在光源暗區(qū)呈現(xiàn)為白色CD條狀，灰階差異不夠明顯，使用CD條形filter、高靈敏度，有機會檢出。1、相機看在材料出輥面處、光源暗區(qū)。2、樣品2的“臟污”、樣品3的“水印”和“白點”、樣品4的“臟污”、樣品3和樣品4的“燒點”在此配置下，灰階差異明顯，容易檢出。3、樣品5的“異色”在此配置下，基本沒有灰階差異，檢不出。4、樣品6的“輥印”在此配置下，灰階差異不夠明顯，使用CD條形

filter、高靈敏度，有機會檢出。序號材料、缺陷類型方案一方案二容易檢出可以檢出有難度檢不出容易檢出可以檢出有難度檢不出1扎點√×2臟污▲√3燒點√√水印×√白點×√4燒點√√臟污×√5異色××6輥印×◆注：容易檢出√、可以檢出▲、有難度◆、檢不出×。1、測試條件：使用兩種方案對比測試。方案一：相機看在輥面、光源明暗交界處。

方案二：相機看在材料出輥面處、光源暗區(qū)。2、方案一采用Bilevel光源技術(shù)，檢測立體缺陷效果較佳，如“扎點”缺陷建議配置此方案。3、方案二相機看在材料出輥面處、光源暗區(qū)，檢測平面缺陷效果較佳，如“臟污”、“燒點”、“水印”、“白點”和