機(jī)器人輔助無(wú)框架定位顱內(nèi)電極埋植后長(zhǎng)程視頻腦電圖監(jiān)測(cè)

機(jī)器人輔助無(wú)框架定位顱內(nèi)電極埋植后長(zhǎng)程視頻腦電圖監(jiān)測(cè)

2007年10月至2008年12月，在機(jī)器人支持下，選擇19例患有難溶性癲癇的患者，并進(jìn)行了顱內(nèi)深部電極的可視化，并配合生長(zhǎng)視頻腦電（vego）的監(jiān)測(cè)，以明確癲癇源的位置，為治療性手術(shù)提供準(zhǔn)確的指導(dǎo)，并取得了滿意的效果?？偨Y(jié)并報(bào)告如下。1對(duì)象和方法1.1不同年齡、病情男10例,女9例;年齡1.8~59歲,平均27.5歲。發(fā)病年齡0.5~30歲,平均11歲。病程1.3~29年,平均12年。發(fā)作形式:均為部分性發(fā)作繼發(fā)全身性發(fā)作?？赡懿∫?產(chǎn)傷及頭部外傷3例,高熱及腦炎2例,腦缺氧及發(fā)育不良3例,原因不明11例。1.2腦軟化灶與間性放電術(shù)前均行MRI、多導(dǎo)VEEG加偶極子分析,同時(shí)行PET-CT檢查2例。頭顱MRI檢查(包括海馬區(qū)冠狀薄層水抑制相)顯示:局限性腦軟化灶3例,腦白質(zhì)發(fā)育不良3例,正常13例。VEEG加偶極子分析顯示:無(wú)法定位15例,其中雙側(cè)異常放電8例,單側(cè)廣泛性放電2例,另5例疒間性放電雖然局限于單個(gè)腦葉,但與MRI、PET及臨床癥狀不符;疒間性放電局限于單側(cè)顳葉4例。PET-CT檢查未發(fā)現(xiàn)異常1例,另1例提示單側(cè)顳葉代謝降低,但與病人癥狀及偶極子分析結(jié)果不符。1.3手術(shù)方法1.3.1機(jī)器人輔助無(wú)框架定位病人額區(qū)頭部粘貼標(biāo)志物4枚,行T1.3.2雙重式雙融合式不動(dòng)產(chǎn)葉和雙重式干酵母葉僅有20例,僅有20例,加對(duì)側(cè)蝌蚪葉即葉或加對(duì)側(cè)哌葉即葉雙顳葉內(nèi)側(cè)及雙額葉內(nèi)側(cè)3例,雙顳葉內(nèi)側(cè)8例,單側(cè)顳葉內(nèi)側(cè)4例,雙顳葉內(nèi)側(cè)加雙枕葉內(nèi)側(cè)1例,一側(cè)額葉內(nèi)側(cè)加對(duì)側(cè)顳葉內(nèi)側(cè)1例,同側(cè)顳極及顳葉內(nèi)側(cè)1例,單側(cè)額葉深部1例。1.4癲間起源灶部位的確定VEEG監(jiān)測(cè)時(shí)間為6h~7d,每例均要求監(jiān)測(cè)到2~3次癲疒間發(fā)作,以確定癲疒間起源灶部位(圖2)。對(duì)5例無(wú)自然癲疒間發(fā)作者行貝美格誘發(fā)試驗(yàn):將150mg貝美格溶于60ml注射用水中,緩慢靜脈注射,當(dāng)病人出現(xiàn)發(fā)作先兆時(shí)立即停止注射,發(fā)作時(shí)立即注射苯巴比妥100mg。2結(jié)果2.1開(kāi)顱間灶前檢查15例術(shù)前無(wú)法定位者經(jīng)深部電極監(jiān)測(cè)顯示:癲疒間起源灶位于單側(cè)額葉4例,單側(cè)顳葉9例,雙側(cè)顳葉1例,單側(cè)枕葉1例。4例術(shù)前檢查提示疒間性放電局限于單側(cè)顳葉者證實(shí)起源灶位于同側(cè)顳葉。對(duì)4例單側(cè)額葉起源灶者,行胼胝體前部切開(kāi)加致疒間灶處多軟膜下橫切術(shù)2例,立體定向額葉深部毀損術(shù)2例;1例枕葉癲疒間起源灶者行開(kāi)顱致疒間灶切除術(shù);1例雙側(cè)顳葉起源灶者在深部電極引導(dǎo)下行立體定向雙側(cè)致疒間灶毀損術(shù);對(duì)13例單側(cè)顳葉癲疒間起源灶者,行深部電極引導(dǎo)立體定向致疒間灶毀損術(shù)7例,伽瑪?shù)吨委?例。2.2開(kāi)顱手術(shù)者enge分級(jí)本組均經(jīng)臨床隨訪6~18個(gè)月;術(shù)后療效按Engel分級(jí):Ⅰ、Ⅱ級(jí)7例,Ⅲ級(jí)6例,Ⅳ級(jí)5例,Ⅴ級(jí)1例。其中3例開(kāi)顱手術(shù)者中,EngelⅠ、Ⅲ、Ⅳ級(jí)各1例;10例深部電極引導(dǎo)立體定向致疒間灶毀損術(shù)者中,EngelⅡ級(jí)5例,Ⅲ級(jí)3例,Ⅳ、Ⅴ級(jí)各1例;6例伽瑪?shù)吨委熣咧?Ⅰ級(jí)1例,Ⅲ級(jí)2例,Ⅳ級(jí)3例。3討論3.1埋植深部電極目前,顱內(nèi)電極埋植多采用開(kāi)顱手術(shù),埋植條片狀或刪狀皮質(zhì)電極,可同時(shí)配合立體定向手術(shù)框架定位埋植深部電極。其優(yōu)點(diǎn)是,如果埋植的電極覆蓋了癲疒間起源灶,即可精確定位;其缺點(diǎn)是創(chuàng)傷大,感染機(jī)會(huì)多,影響2次開(kāi)顱手術(shù)切除致疒間灶3.2中私家車葉內(nèi)電極的植入顱內(nèi)電極埋植部位一般根據(jù)術(shù)前EEG檢查發(fā)現(xiàn)的棘波、尖波部位來(lái)決定,本組對(duì)以額顳為主者采用經(jīng)額植入電極,分別以額葉內(nèi)側(cè)(扣帶回)和顳葉內(nèi)側(cè)(海馬杏仁復(fù)合體)為靶點(diǎn),其中顳葉內(nèi)側(cè)電極要求前端第1點(diǎn)放置到顱中窩底;顳枕或廣泛疒間性放電者以額顳葉內(nèi)側(cè)和頂枕葉內(nèi)側(cè)(視皮質(zhì))為靶點(diǎn);對(duì)MRI顯示有器質(zhì)性病變者需在病變處埋植電極;對(duì)臨床高度懷疑顳葉癲疒間者亦可經(jīng)頂后順顳葉長(zhǎng)軸植入電極(圖3)。本組均從腦葉內(nèi)側(cè)植入電極,其原因?yàn)槟X葉內(nèi)側(cè)的疒間性放電較大腦凸面者更不易由頭皮EEG檢出。經(jīng)雙額顳葉內(nèi)側(cè)和經(jīng)雙頂枕葉內(nèi)側(cè)植入4根電極后,基本可確定癲疒間起源灶所在腦葉,適用于頭皮EEG檢查無(wú)法定位的病例(圖4)。該方法的不足之處在于不能象刪狀電極那樣確定致疒間灶的具體形態(tài)。3.3開(kāi)顱或立體定向損傷手術(shù)本組顳葉起源灶者14例,除4例經(jīng)頭皮EEG已確定為顳葉起源灶擬行伽瑪?shù)吨委熗?頭皮EEG不能明確定位病人中顳葉起源者為10例(其中1例為雙顳葉起源灶),超過(guò)2/3,由此可見(jiàn),顳葉內(nèi)側(cè)是深部電極探測(cè)必不可少的靶區(qū)。Spencer等本組根據(jù)監(jiān)測(cè)結(jié)果選擇開(kāi)顱手術(shù)3例,立體定向腦深部致疒間灶毀損10例,伽瑪?shù)吨委?例?？傆行蕿?4.7%(18例),癲疒間發(fā)作基本消失7例(36.8%)。另外,本組行伽瑪?shù)吨委?例,其療效仍有待進(jìn)一步觀察。值得提出的是,行開(kāi)顱或立體定向毀損手術(shù)的13例病人,如果不行深部電極檢測(cè),是無(wú)法實(shí)施手術(shù)的,而手術(shù)后,癲疒間發(fā)作消失6例(46.2%),說(shuō)明該方法行疒間灶定位切實(shí)有效。綜上所述,機(jī)器人輔助無(wú)框架定位顱內(nèi)電極埋植后行長(zhǎng)程VEE