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文檔簡介
困材料科考基礎(chǔ)
k遇.班彼:金屬材料00(&
主將蕤師:g學(xué)感
2002-2003孽年第一孽期
房荒
1課程性質(zhì):技術(shù)基礎(chǔ)課。
2學(xué)習(xí)材料科學(xué)的重要性
(1)材料科學(xué)
研究材料的成分、組織結(jié)構(gòu)、加工工藝與性能之間關(guān)系的科學(xué)。(四要素關(guān)系如
2)材料科學(xué)在社會與社會發(fā)展中的地位
①社會需求是材料發(fā)展的巨大動力
信息與材料:信息獲?。▊鞲衅鳎夯衔铮┮恍畔鬟f(光纖:無機、有機材料)
一信息貯存(金屬與合金)一信息顯示(用于液晶顯示的非晶硅、有機液晶材料)
一信息處理(處理器芯片硅一錯)。
②能源與材料:貯氫材料(鈦鎰及稀土類合金)、太陽能電池材料(硅、合
金、化合物)、核能用材料(錯合金等)。
③航空航天材料:發(fā)動機(高溫合金,金屬基復(fù)合材料,陶瓷與陶瓷
基復(fù)合材料)、汽輪機部件(纖維增強金屬基復(fù)合材料、陶瓷基復(fù)合材料)、火
箭噴嘴(難熔金屬)等。
④人與材料:金屬、無機、高分子及其復(fù)合材料。
(3)材料的四大家族
①金屬材料:綜合性能等。
②陶瓷材料:高溫、穩(wěn)定性能等。
③高分子材料;耐腐蝕等特殊性能。
④復(fù)合材料:1+1大于2。
3內(nèi)容安排
(1)內(nèi)容核心:材料的化學(xué)成分、組織結(jié)構(gòu)、加工工藝與性能之間的關(guān)
系及其在各種條件下的變化規(guī)律。
(2)內(nèi)容結(jié)構(gòu)
材料學(xué)原理(1一8章)一相變原理(9章)一工程與功能材料學(xué)章)
(3)學(xué)時安排
總孽附:114(周一3,4;周三1,2;周五1,2)
安提:12
4學(xué)習(xí)方法
提銅啄旗、力的筆力、及時困.勾。
5教材與參考書
熬材
到智思.材料科孽基砒.⑥北工業(yè)大孽出版社.2000年8?第一版
參濤/
石德梅.材料科孽瘞磁.機械IQ出版社.1999年5£第一版
趙名.材料襠孽壅砒兼程.哈冬濱工Q大孽出版社.2002年三月第二版
解昱華.功能材料極率.哈3濱工業(yè)麥孽出版社.1999年8月第一版
孩習(xí)名詞:金屬鍵、晶體、空南立窿、晶體儲構(gòu)、晶胞
畫第一章材料中的原子排列
第一節(jié)原子的結(jié)合方式
1原子結(jié)構(gòu)
2原子結(jié)合鍵
(1)離子鍵與離子晶體
原子結(jié)合:電子轉(zhuǎn)移,結(jié)合力大,無方向性和飽和性;
離子晶體;硬度高,脆性大,熔點高、導(dǎo)電性差。如氧化物陶瓷。
(2)共價鍵與原子晶體
原子結(jié)合:電子共用,結(jié)合力大,有方向性和飽和性;
原子晶體:強度高、硬度高(金剛石)、熔點高、脆性大、導(dǎo)電性差。如高
分子材料。
(3)金屬鍵與金屬晶體
原子結(jié)合:電子逸出共有,結(jié)合力較大,無方向性和飽和性;
金屬晶體:導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性、延展性好,熔點較高。如金屬。
金屬鍵:依靠正離子與構(gòu)成電子氣的自由電子之間的靜電引力而使諸原子
結(jié)合到一起的方式。
(3)分子鍵與分子晶體
原子結(jié)合:電子云偏移,結(jié)合力很小,無方向性和飽和性。
分子晶體:熔點低,硬度低。如高分子材料。
氫鍵:(離子結(jié)合)X-H—Y(氫鍵結(jié)合),有方向性,如0-H—O
(4)混合鍵。如復(fù)合材料。
3結(jié)合鍵分類
(1)一次鍵(化學(xué)鍵):金屬鍵、共價鍵、離子鍵。
(2)二次鍵(物理鍵):分子鍵和氫鍵。
4原子的排列方式
(1)晶體:原子在三維空間內(nèi)的周期性規(guī)則排列。長程有序,各向異性。
(2)非晶體:---------------------不規(guī)則排列。長程無序,各向同性。
第二節(jié)原子的規(guī)則排列
-晶體學(xué)基礎(chǔ)
1空間點陣與晶體結(jié)構(gòu)
(1)空間點陣:由幾何點做周期性的規(guī)則排列所形成的三維陣列圖1-5
特征:a原子的理想排列;b有14種。
其中:
空間點陣中的點一陣點。它是純粹的幾何點,各點周圍環(huán)境相同。
描述晶體中原子排列規(guī)律的空間格架稱之為晶格。
空間點陣中最小的幾何單元稱之為晶胞
(2)晶體結(jié)構(gòu):原子、離子或原子團按照空間點陣的實際,到
特征:a可能存在局部缺陷;b可有無限多種。
2晶胞圖1一6
(1)------:構(gòu)成空間點陣的最基本單元。
(2)選取原則:
a能夠充分反映空間點陣的對稱性;
b相等的棱和角的數(shù)目最多;
c具有盡可能多的直角;
d體積最小。
(3)形狀和大小
有三個棱邊的長度a,b,c及其夾角a,B,丫表示。
(4)晶胞中點的位置表示(坐標(biāo)法)。
3布拉菲點陣圖1一7
14種點陣分屬7個晶系。
4晶向指數(shù)與晶面指數(shù)
晶向:空間點陣中各陣點列的方向。
晶面:通過空間點陣中任意一組陣點的平面。
國際上通用米勒指數(shù)標(biāo)定晶向和晶面。
(1)晶向指數(shù)的標(biāo)定
a建立坐標(biāo)系。確定原點(陣點)、坐標(biāo)軸和度量單位(棱邊)。
b求坐標(biāo)。u^v^w'o
c化整數(shù)。u,v,w.
d加[]o[uvw]o
說明:
a指數(shù)意義:代表相互平行、方向一致的所有晶向。
b負值:標(biāo)于數(shù)字上方,表示同一晶向的相反方向。
c晶向族:晶體中原子排列情況相同但空間位向不同的一組晶向。用
<uvw>表示,數(shù)字相同,但排列順序不同或正負號不同的晶向?qū)儆谕痪?/p>
族。
(2)晶面指數(shù)的標(biāo)定
a建立坐標(biāo)系:確定原點(非陣點)、坐標(biāo)軸和度量單位。
b量截距:x,y,Zo
c取倒數(shù):h,k,r。
d化整數(shù):h,k,ko
e加圓括號:(hkl)。
說明:
a指數(shù)意義:代表一組平行的晶面;
bO的意義:面與對應(yīng)的軸平行;
C平行晶面:指數(shù)相同,或數(shù)字相同但正負號相反;
d晶面族:晶體中具有相同條件(原子排列和晶面間距完全相同),空
間位向不同的各組晶面。用{hkl}表示。
e若晶面與晶向同面,則hu+kv+lw=O;
f若晶面與晶向垂直,則u=h,k=v,w=l。
(3)六方系晶向指數(shù)和晶面指數(shù)
a六方系指數(shù)標(biāo)定的特殊性:四軸坐標(biāo)系(等價晶面不具有等價指數(shù))。
b晶面指數(shù)的標(biāo)定
標(biāo)法與立方系相同(四個截距);用四個數(shù)字(hkil)表示;i=-(h+k)。
c晶向指數(shù)的標(biāo)定
標(biāo)法與立方系相同(四個坐標(biāo));用四個數(shù)字(uvtw)表示;t=-(u+w)。
依次平移法:適合于已知指數(shù)畫晶向(末點)。
坐標(biāo)換算法:[UVW]~[uvtw]
u=(2U-V)/3,v=(2V-U)/3,t=-(U+V)/3,w=W0
(4)晶帶
a一一:平行于某一晶向直線所有晶面的組合。
;I
晶帶軸晶帶面
b性質(zhì):晶帶用晶帶軸的晶向指數(shù)表示;晶帶面〃晶帶軸;
hu+kv+lw=O
C晶帶定律
凡滿足上式的晶面都屬于以[UVW]為晶帶軸的晶帶。推論:
(a)由兩晶面(hikJD(h2k2I2)求其晶帶軸[uvw]:
u=k|12-k.21i;v=lih2-bh|;w=h|k2-h2k|0
(b)由兩晶向[uiV]Wi][u2V2W2]求其決定的晶面(hkl)。
H=V|W1-V2W2;k=W|U2-W2Uj;1=U|V2-U2V1。
(5)晶面間距
a一一:一組平行晶面中,相鄰兩個平行晶面之間的距離。
b計算公式(簡單立方):
d=a/(h2+k2+l2)l/2
注意:只適用于簡單晶胞;對于面心立方hkl不全為偶、奇數(shù)、體心
立方h+k+仁奇數(shù)時,d(hkl)=d/2o
二典型晶體結(jié)構(gòu)及其幾何特征
1三種常見晶體結(jié)構(gòu)
面心立方(A1,FCC)體心立方(Al,BCC)密排六方(A3,HCP)
晶胞原子數(shù)426
點陣常數(shù)a=2/2ra=4/3/3ra=2r
配位數(shù)128(8+6)12
致密度0.740.680.74
堆垛方式ABCABC..ABABAB..ABABAB..
結(jié)構(gòu)間隙正四面體正八面體四面體扁八面體四面體正八面體
(個數(shù))84126126
(rB/rA)0.2250.4140.290.150.2250.414
配位數(shù)(CN):晶體結(jié)構(gòu)中任一原子周圍最近且等距離的原子數(shù)。
致密度(K):晶體結(jié)構(gòu)中原子體積占總體積的百分數(shù)。K=nv/Vo
間隙半徑(電):間隙中所能容納的最大圓球半徑。
2離子晶體的結(jié)構(gòu)
(1)鮑林第一規(guī)則(負離子配位多面體規(guī)則):在離子晶體中,正離子周圍
形成一個負離子配位多面體,正負離子間的平衡距離取決于正負離子半徑之和,
正離子的配位數(shù)取決于正負離子的半徑比。
(2)鮑林第二規(guī)則(電價規(guī)則含義):一個負離子必定同時被一定數(shù)量的負
離子配位多面體所共有。
(3)鮑林第三規(guī)則(棱與面規(guī)則):在配位結(jié)構(gòu)中,共用棱特別是共用面的
存在,會降低這個結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。
3共價鍵晶體的結(jié)構(gòu)
(1)飽和性:一個原子的共價鍵數(shù)為8-N。
(2)方向性:各鍵之間有確定的方位
(配位數(shù)小,結(jié)構(gòu)穩(wěn)定)
三多晶型性
元素的晶體結(jié)構(gòu)隨外界條件的變化而發(fā)生轉(zhuǎn)變的性質(zhì)。
四影響原子半徑的因素
(1)溫度與應(yīng)力
(2)結(jié)合鍵的影響
(3)配位數(shù)的影響(高配位結(jié)構(gòu)向低配位結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變時,體積膨脹,原子半
徑減小減緩體積變化。
(4)核外電子分布的影響(一周期內(nèi),隨核外電子數(shù)增加至填滿,原子半
徑減小至一最小值。
第三節(jié)原子的不規(guī)則排列
原子的不規(guī)則排列產(chǎn)生晶體缺陷。晶體缺陷在材料組織控制(如擴散、相變)
和性能控制(如材料強化)中具有重要作用。
晶體缺陷:實際晶體中與理想點陣結(jié)構(gòu)發(fā)生偏差的區(qū)域。
(晶體缺陷可分為以下三類。)
點缺陷:在三維空間各方向上尺寸都很小的缺陷。如空位、間隙原子、異類
原子等。
線缺陷:在兩個方向上尺寸很小,而另一個方向上尺寸較大的缺陷。主要是
位錯。
面缺陷:在一個方向上尺寸很小,在另外兩個方向上尺寸較大的缺陷。如晶
界、相界、表面等。
一點缺陷
1點缺陷的類型圖1—31
(1)空位:
肖脫基空位一離位原子進入其它空位或遷移至晶界或表面。
弗蘭克爾空位一離位原子進入晶體間隙。
(2)間隙原子:位于晶體點陣間隙的原子。
(3)置換原子:位于晶體點陣位置的異類原子。
2點缺陷的平衡濃度
(1)點缺陷是熱力學(xué)平衡的缺陷一在一定溫度下,晶體中總是存在著一定
數(shù)量的點缺陷(空位),這時體系的能量最低一具有平衡點缺陷的晶體比理想晶
體在熱力學(xué)上更為穩(wěn)定。(原因:晶體中形成點缺陷時,體系內(nèi)能的增加將使自由能升高,
但體系熠值也增加了,這一因素又使自由能降低。其結(jié)果是在G-n曲線上出現(xiàn)了最低值,對應(yīng)
的n值即為平衡空位數(shù)。)
(2)點缺陷的平衡濃度
C=Aexp(-AEv/kT)
3點缺陷的產(chǎn)生及其運動
(1)點缺陷的產(chǎn)生
平衡點缺陷:熱振動中的能力起伏。
過飽和點缺陷:外來作用,如高溫淬火、輻照、冷加工等。
(2)點缺陷的運動
(遷移、復(fù)合一濃度降低;聚集一濃度升高一塌陷)
4點缺陷與材料行為
(1)結(jié)構(gòu)變化:晶格畸變(如空位引起晶格收縮,間隙原子引起晶格膨脹,
置換原子可引起收縮或膨脹。)
(2)性能變化:物理性能(如電阻率增大,密度減小。)
力學(xué)性能(屈服強度提高。)
二線缺陷(位錯)
位錯:晶體中某處一列或若干列原子有規(guī)律的錯排。
意義:(對材料的力學(xué)行為如塑性變形、強度、斷裂等起著決定性的作用,
對材料的擴散、相變過程有較大影響。)
位錯的提出:1926年,弗蘭克爾發(fā)現(xiàn)理論晶體模型剛性切變強度與與實測
臨界切應(yīng)力的巨大差異(2?4個數(shù)量級)。
1934年,泰勒、波朗依、奧羅萬幾乎同時提出位錯的概念。
1939年,柏格斯提出用柏氏矢量表征位錯。
1947年,柯垂耳提出溶質(zhì)原子與位錯的交互作用。
1950年,弗蘭克和瑞德同時提出位錯增殖機制。
之后,用TEM直接觀察到了晶體中的位錯。
1位錯的基本類型
(1)刃型位錯
模型:滑移面/半原子面/位錯線(位錯線-晶體滑移方向,位錯線,
位錯運動方向,晶體滑移方向〃位錯運動方向。)
分類:正刃型位錯(■*");負刃型位錯(丁)。
(2)螺型位錯
模型:滑移面/位錯線。(位錯線〃晶體滑移方向,位錯線■*■位錯運動
方向,晶體滑移方向立錯運動方向。)
分類:左螺型位錯;右螺型位錯。
(3)混合位錯
模型:滑移面/位錯線。
2位錯的性質(zhì)
(1)形狀:不一定是直線,位錯及其畸變區(qū)是一條管道。
(2)是已滑移區(qū)和未滑移區(qū)的邊界。
(3)不能中斷于晶體內(nèi)部。可在表面露頭,或終止于晶界和相界,或與其
它位錯相交,或自行封閉成環(huán)。
3柏氏矢量
(1)確定方法(避開嚴(yán)重畸變區(qū))
a在位錯周圍沿著點陣結(jié)點形成封閉回路。
b在理想晶體中按同樣順序作同樣大小的回路。
c在理想晶體中從終點到起點的矢量即為一一。
(2)柏氏矢量的物理意義
a代表位錯,并表示其特征(強度、畸變量)。
b表示晶體滑移的方向和大小。
c柏氏矢量的守恒性(唯一性):一條位錯線具有唯一的柏氏矢量。
d判斷位錯的類型。
(3)柏氏矢量的表示方法
a表示:ZFa/n[uvw](可以用矢量加法進行運算)。
2221/2
b求模:/b/=a/n[u+v+w]o
4位錯密度
(1)表示方法:P=K/V
P=n/A
(2)晶體強度與位錯密度的關(guān)系(T-P圖)。
位錯觀察:浸蝕法、電境法。
5位錯的運動
(1)位錯的易動性。
(2)位錯運動的方式
a滑移:位錯沿著滑移面的移動。
刃型位錯的滑移:具有唯一一的滑移面
螺型位錯的滑移:具有多個滑移面。
位錯環(huán)的滑移:■■■■■io
b攀移:刃型位錯在垂直于滑移面方向上的運動。
機制:原子面下端原子的擴散一一位錯隨半原子面的上下移動而上
下運動。
分類:正攀移(原子面上移、空位加入)/負攀移(原子面下移、原
子加入)。
應(yīng)力的作用:(半原子面?zhèn)龋簯?yīng)力有利于正攀移,拉應(yīng)力有利于負攀
移。
(3)作用在位錯上的力(單位距離上)
滑移:f=Tb;
攀移:f=obo
6位錯的應(yīng)變能與線張力
(1)單位長度位錯的應(yīng)變能:W=aGb2o
(a=0.5~1.0,螺位錯取下限,刃位錯取上限。)
(2)位錯是不平衡的缺陷。
(商增不能抵銷應(yīng)變能的增加。)
(3)位錯的線張力:T=aGb2。
(4)保持位錯彎曲所需的切應(yīng)力:T=Gb/2r。
7位錯的應(yīng)力場及其與其它缺陷的作用
(1)應(yīng)力場
螺位錯:1=Gb/2nr。(只有切應(yīng)力分量。)
刃位錯:表達式(式1—9)
晶體中:滑移面以上受壓應(yīng)力,滑移面以下受拉應(yīng)力。
滑移面:只有切應(yīng)力。
(2)位錯與位錯的交互作用
/=rb,f=—ob(刃位錯)。
同號相互排斥,異號相互吸引。(達到能量最低狀態(tài)。)
(3)位錯與溶質(zhì)原子的相互作用
間隙原子聚集于位錯中心,使體系處于低能態(tài)。
柯氏氣團:溶質(zhì)原子在位錯線附近偏聚的現(xiàn)象。
(4)位錯與空位的交互作用
導(dǎo)致位錯攀移。
8位錯的增殖、塞積與交割
位錯的增殖:F-R源。
(1)位錯的塞積
分布:逐步分散。
位錯受力:切應(yīng)力作用在位錯上的力、位錯間的排斥力、障礙物的阻
力。
(2)位錯的交割
位錯交割后結(jié)果:按照對方位錯柏氏矢量(變化方向和大?。?/p>
害!I階:位錯交割后的臺階不位于它原來的滑移面上。
扭折:---------------位于-----------------O
對性能影響:增加位錯長度,產(chǎn)生固定割階。
9位錯反應(yīng)
(1)位錯反應(yīng):位錯的分解與合并。
(2)反應(yīng)條件
幾何條件:£b/Eb后;反應(yīng)前后位錯的柏氏矢量之和相等。
22
能量條件:Sbffi>Ebg;反應(yīng)后位錯的總能量小于反應(yīng)前位錯的總能
量。
10實際晶體中的位錯
(1)全位錯:通常把柏氏矢量等于點陣矢量的位錯稱為全位錯或單位位錯。
(實際晶體中的典型全位錯如表1—7所示)
(2)不全位錯:柏氏矢量小于點陣矢量的位錯。
(實際晶體中的典型不全位錯如表1—7所示)
(3)肖克萊和弗蘭克不全位錯。
肖克萊不全位錯的形成:原子運動導(dǎo)致局部錯排,錯排區(qū)與完整晶格
區(qū)的邊界線即為肖克萊不全位錯。(結(jié)合位錯反應(yīng)理解??蔀槿行?、螺型或
混合型位錯。)
弗蘭克不全位錯的形成:在完整晶體中局部抽出或插入一層原子所形
成。(只能攀移,不能滑移。)
(4)堆垛層錯與擴展位錯
堆垛層錯:晶體中原子堆垛次序中出現(xiàn)的層狀錯排。
擴展位錯:一對不全位錯及中間夾的層錯稱之。
三面缺陷
面缺修主要包括晶界、相界和表面,它們對材料的力學(xué)和物理化學(xué)性能具有
重要影響。
1晶界
(1)晶界:兩個空間位向不同的相鄰晶粒之間的界面。
(2)分類
大角度晶界:晶粒位向差大于10度的晶界。其結(jié)構(gòu)為幾個原子范圍
內(nèi)的原子的混亂排列,可視為一個過渡區(qū)。
小角度晶界:晶粒位向差小于10度的晶界。其結(jié)構(gòu)為位錯列,又分
為對稱傾側(cè)晶界和扭轉(zhuǎn)晶界。
亞晶界:位向差小于1度的亞晶粒之間的邊界。為位錯結(jié)構(gòu)。
李晶界:兩塊相鄰李晶的共晶面。分為共格李晶界和非共格李晶界。
2相界
(1)相界:相鄰兩個相之間的界面。
(2)分類:共格、半共格和非共格相界。
3表面
(1)表面吸附:外來原子或氣體分子在表面上富集的現(xiàn)象。
(2)分類
物理吸附:由分子鍵力引起,無選擇性,吸附熱小,結(jié)合力小。
化學(xué)吸附:由化學(xué)鍵力引起,有選擇性,吸附熱大,結(jié)合力大。
4界面特性
(1)界面能會引起界面吸附。
(2)界面上原子擴散速度較快。
(3)對位錯運動有阻礙作用。
(4)易被氧化和腐蝕。
(5)原子的混亂排列利于固態(tài)相變的形核。
習(xí)第二章固體中的相結(jié)構(gòu)
合金與相
1合金
(1)合金:兩種或兩種以上的金屬,或金屬與非金屬經(jīng)一定方法合成的具
有金屬特性的物質(zhì)。
(2)組元:組成合金最基本的物質(zhì)。(如一元、二元、三元合金)
(3)合金系:給定合金以不同的比例而合成的一系列不同成分合金的總稱。
2相
(1)相:材料中結(jié)構(gòu)相同、成分和性能均一的組成部分。(如單相、兩相、
多相合金。)
(2)相的分類
固溶體:晶體結(jié)構(gòu)與其某一組元相同的相。含溶劑和溶質(zhì)。
中間相(金屬化合物):組成原子有固定比例,其結(jié)構(gòu)與組成組元均不
相同的相。
第一節(jié)固溶體
按溶質(zhì)原子位置不同,可分為置換固溶體和間隙固溶體。
按固溶度不同,可分為有限固溶體和無限固溶體。
按溶質(zhì)原子分布不同,可分為無序固溶體和有序固溶體。
1置換固溶體
置換固溶體:溶質(zhì)原子位于晶格點陣位置的固溶體。
(1)影響置換固溶體溶解度的因素
a原子尺寸因素
原子尺寸差越小,越易形成置換固溶體,且溶解度越大。
△r=(rA-rB)/rA
當(dāng)△r<15%時,有利于大量互溶。
b晶體結(jié)構(gòu)因素
結(jié)構(gòu)相同,溶解度大,有可能形成無限固溶體。
c電負性因素
電負性差越小,越易形成固溶體,溶解度越大。
d電子濃度因素
電子濃度e/a越大,溶解度越小。e/a有一極限值,與溶劑晶體結(jié)構(gòu)有
關(guān)。一價面心立方金屬為1.36,一價體心立方金屬為1.48。
(上述四個因素并非相互獨立,其統(tǒng)一的理論的是金屬與合金的電子理
論。)
2間隙固溶體
(1)影響因素:原子半徑和溶劑結(jié)構(gòu)。
(2)溶解度:一般都很小,只能形成有限固溶體。
3固溶體的結(jié)構(gòu)
(1)晶格畸變。
(2)偏聚與有序:完全無序、偏聚、部分有序、完全有序。
4固溶體的性能
固溶體的強度和硬度高于純組元,塑性則較低。
(1)固溶強化:由于溶質(zhì)原子的溶入而引起的強化效應(yīng)。
(2)柯氏氣團
(3)有序強化
第二節(jié)金屬間化合物
中間相是由金屬與金屬,或金屬與類金屬元素之間形成的化合物,也稱為金
屬間化合物。
I正常價化合物
(1)形成:電負性差起主要作用,符合原子價規(guī)則。
(2)鍵型:隨電負性差的減小,分別形成離子鍵、共價鍵、金屬鍵。
(3)組成:AB或AB?。
2電子化合物(電子相)
(1)形成:電子濃度起主要作用,不符合原子價規(guī)則。
(2)鍵型:金屬鍵(金屬一金屬)。
(3)組成:電子濃度對應(yīng)晶體結(jié)構(gòu),可用化學(xué)式表示,可形成以化合物為
基的固溶體。
3間隙化合物
(1)形成:尺寸因素起主要作用。
(2)結(jié)構(gòu)
簡單間隙化合物(間隙相):金屬原子呈現(xiàn)新結(jié)構(gòu),非金屬原子位于其
間隙,結(jié)構(gòu)簡單。
復(fù)雜間隙化合物:主要是鐵、鉆、鋁、錦的化合物,結(jié)構(gòu)復(fù)雜。
(3)組成:可用化學(xué)式表示,可形成固溶體,復(fù)雜間隙化合物的金屬元素
可被置換。
4拓撲密堆相
(1)形成:由大小原子的適當(dāng)配合而形成的高密排結(jié)構(gòu)。
(2)組成:AB2O
5金屬化合物的特性
(1)力學(xué)性能:高硬度、高硬度、低塑性。
(2)物化性能:具有電學(xué)、磁學(xué)、聲學(xué)性質(zhì)等,可用于半導(dǎo)體材料、形狀
記憶材料、儲氫材料等。
第三節(jié)陶瓷晶體相
1陶瓷材料簡介
(1)分類:結(jié)構(gòu)陶瓷(利用其力學(xué)性能):強度(葉片、活塞)、韌性(切
削刀具)、硬度(研磨材料)。
功能陶瓷(利用其物理性能)
精細功能陶瓷:導(dǎo)電、氣敏、濕敏、生物、超導(dǎo)陶瓷等。
功能轉(zhuǎn)換陶瓷:壓電、光電、熱電、磁光、聲光陶瓷等。
結(jié)合鍵:離子鍵、共價鍵。
硅酸鹽陶瓷:主要是離子鍵結(jié)合,含一定比例的共價鍵??捎梅肿邮奖硎?/p>
其組成。
2硅酸鹽陶瓷的結(jié)構(gòu)特點與分類
(1)結(jié)構(gòu)特點
a結(jié)合鍵與結(jié)構(gòu):主要是離子鍵結(jié)合,含一定比例的共價鍵。硅位于
氧四面體的間隙。
b每個氧最多被兩個多面體共有。氧在兩個四面體之間充當(dāng)橋梁作用,
稱為氧橋。
(2)結(jié)構(gòu)分類
a含有限Si-0團的硅酸鹽,包括含孤立Si-0團和含成對或環(huán)狀Si-0
團兩類。
b鏈狀硅酸鹽:Si-O團共頂連接成一維結(jié)構(gòu),又含單鏈和雙鏈兩類。
c層狀硅酸鹽:Si-0團底面共頂連接成二維結(jié)構(gòu)。
d骨架狀硅酸鹽:Si-0團共頂連接成三維結(jié)構(gòu)。
第四節(jié)分子相
1基本概念
(1)高分子化合物:由一種或多種化合物聚合而成的相對分子質(zhì)量很大的
化合物。又稱聚合物或高聚物。
(2)分類
按相對分子質(zhì)量:分為低分子聚合物(<5000)和高分子聚合物
(>5000)o
按組成物質(zhì):分為有機聚合物和無機聚合物。
2化學(xué)組成
(以氯乙烯聚合成聚氯乙烯為例)
(1)單體:組成高分子化合物的低分子化合物。
(2)鏈節(jié):組成大分子的結(jié)構(gòu)單元。
(3)聚合度n:大分子鏈中鏈節(jié)的重復(fù)次數(shù)。
3高分子化合物的合成
(1)加聚反應(yīng)
a概念:由一種或多種單體相互加成而連接成聚合物的反應(yīng)。(其產(chǎn)物
為聚合物)
b組成:與單體相同。反應(yīng)過程中沒有副產(chǎn)物。
c分類
均聚反應(yīng):由一種單體參與的加聚反應(yīng)。
共聚反應(yīng):由兩種或兩種以上單體參與的加聚反應(yīng)。
(2)縮聚反應(yīng)
a概念:由一種或多種單體相互混合而連接成聚合物,同時析出某種
低分子化合物的反應(yīng)。
b分類
均縮聚反應(yīng):由一種單體參加的縮聚反應(yīng)。
共縮聚反應(yīng):由兩種或兩種以上單體參加的縮聚反應(yīng)。
4高分子化合物的分類
(1)按性能與用途:塑料、橡膠、纖維、膠黏劑、涂料等。
(2)按生成反應(yīng)類型:加聚物、縮聚物。
(3)按物質(zhì)的熱行為:熱塑性塑料和熱固性塑料。
5高分子化合物的結(jié)構(gòu)
(1)高分子鏈結(jié)構(gòu)(鏈內(nèi)結(jié)構(gòu),分子內(nèi)結(jié)構(gòu))
a化學(xué)組成
b單體的連接方式
均聚物中單體的連接方式:頭一尾連接、頭一頭或尾一尾相連、無
軌連接。
共聚物中單體的連接方式:
無軌共聚:ABBABBABA
交替共聚:ABABABAB
嵌段共聚:AAAABBAAAABB
接枝共聚:AAAAAAAAAAA
BB
BB
BB
c高分子鏈的構(gòu)型(按取代基的位置與排列規(guī)律)
全同立構(gòu):取代基R全部處于主鏈一側(cè)。
間同立構(gòu):取代基R相間分布在主鏈兩側(cè)。
無軌立構(gòu);取代基R在主鏈兩側(cè)不規(guī)則分布。
d高分子鏈的幾何形狀:線型、支化型、體型。
(2)高分子的聚集態(tài)結(jié)構(gòu)(鏈間結(jié)構(gòu)、分子間結(jié)構(gòu))
無定形結(jié)構(gòu)、部分結(jié)晶結(jié)構(gòu)、結(jié)晶型結(jié)構(gòu)(示意圖)
6高分子材料的結(jié)構(gòu)與性能特點
(1)易呈非晶態(tài)。
(2)彈性模量和強度低。
(3)容易老化。
(4)密度小。
(5)化學(xué)穩(wěn)定性好。
第五節(jié)玻璃相
1結(jié)構(gòu):長程無序、短程有序
(1)連續(xù)無軌網(wǎng)絡(luò)模型。
(2)無規(guī)密堆模型。
(3)無軌則線團模型。
2性能
(1)各向同性。
(2)無固定熔點。
(3)高強度、高耐蝕性、高導(dǎo)磁率(金屬)。
$第三章凝固與結(jié)晶
凝固:物質(zhì)從液態(tài)到固態(tài)的轉(zhuǎn)變過程。若凝固后的物質(zhì)為晶體,則稱之為結(jié)
晶。
凝固過程影響后續(xù)工藝性能、使用性能和壽命。
凝固是相變過程,可為其它相變的研究提供基礎(chǔ)。
第一節(jié)材料結(jié)晶的基本規(guī)律
1液態(tài)材料的結(jié)構(gòu)
結(jié)構(gòu):長程有序而短程有序。
特點(與固態(tài)相比):原子間距較大、原子配位數(shù)較小、原子排列較混亂。
2過冷現(xiàn)象
(1)過冷:液態(tài)材料在理論結(jié)晶溫度以下仍保持液態(tài)的現(xiàn)象。(見熱分析實
驗圖)
(2)過冷度:液體材料的理論結(jié)晶溫度(Tm)與其實際溫度之差。
△T=Tm-T(見冷卻曲線)
注:過冷是凝固的必要條件(凝固過程總是在一定的過冷度下進行)。
3結(jié)晶過程
(1)結(jié)晶的基本過程:形核一長大。(見示意圖)
(2)描述結(jié)晶進程的兩個參數(shù)
形核率:單位時間、單位體積液體中形成的晶核數(shù)量。用N表示。
長大速度:晶核生長過程中,液固界面在垂直界面方向上單位時間內(nèi)
遷移的距離。用G表示。
第二節(jié)材料結(jié)晶的基本條件
1熱力學(xué)條件
(1)G-T曲線(圖3—4)
a是下降曲線:由G-T函數(shù)的一次導(dǎo)數(shù)(負)確定。
dG/dT=-S
b是上凸曲線:由二次導(dǎo)數(shù)(負)確定。
#G/#T=-C/T
c液相曲線斜率大于固相:由一次導(dǎo)數(shù)大小確定。
二曲線相交于一點,即材料的熔點。
(2)熱力學(xué)條件
△Gv=—LmAT/Tm
aAT>0,△Gv<0—過冷是結(jié)晶的必要條件(之一)。
bAT越大,AGv越小一過冷度越大,越有利于結(jié)晶。
cAGv的絕對值為凝固過程的驅(qū)動力。
2結(jié)構(gòu)條件
結(jié)構(gòu)起伏(相起伏):液態(tài)材料中出現(xiàn)的短程有序原子集團的時隱時現(xiàn)現(xiàn)象。
是結(jié)晶的必要條件(之二)。
第三節(jié)晶核的形成
均勻形核:新相晶核在遍及母相的整個體積內(nèi)無軌則均勻形成。
非均勻形核:新相晶核依附于其它物質(zhì)擇優(yōu)形成。
1均勻形核
(1)晶胚形成時的能量變化
△G=VAGv+oS
=(4/3)nr3AGv+4nr2o(圖3—8)
(2)臨界晶核
dAG/dr=0
灰=-2o/AGv
臨界晶核:半徑為灰的晶胚。
(3)臨界過冷度
改=-2oTm/LmAT
臨界過冷度:形成臨界晶核時的過冷度?!鱐k.
△T24Tk是結(jié)晶的必要條件。
(4)形核功與能量起伏
△Gk=Sk。/3
臨界形核功:形成臨界晶核時需額外對形核所做的功。
能量起伏:系統(tǒng)中微小區(qū)域的能量偏離平均能量水平而高低不一的現(xiàn)
象。(是結(jié)晶的必要條件之三)。
(5)形核率與過冷度的關(guān)系
N=N|.N2(圖3—11,12)
由于N受N1.N2兩個因素控制,形核率與過冷度之間是呈拋物線的關(guān)系。
2非均勻形核
(1)模型:外來物質(zhì)為一平面,固相晶胚為一球冠。
(2)自由能變化:表達式與均勻形核相同。
(3)臨界形核功
計算時利用球冠體積、表面積表達式,結(jié)合平衡關(guān)系。lw=。sw+oS1cos
0計算能量變化和臨界形核功。
3
△Gk:H:/AGk=(2-3cos0+cos0)/4
a。=0時,AGk非=0,雜質(zhì)本身即為晶核;
b180>0>0時,△Gk*<AGk,雜質(zhì)促進形核;
c0=180時,△Gk『=aGk,雜質(zhì)不起作用。
(4)影響非均勻形核的因素
a過冷度:(N-ZXT曲線有一下降過程)。(圖3—16)
b外來物質(zhì)表面結(jié)構(gòu):。越小越有利。點陣匹配原理:結(jié)構(gòu)相似,點
陣常數(shù)相近。
C外來物質(zhì)表面形貌:表面下凹有利。(圖3—17)
第四節(jié)晶核的長大
1晶核長大的條件
(1)動態(tài)過冷
動態(tài)過冷度:晶核長大所需的界面過冷度。(是材料凝固的必要條件)
(2)足夠的溫度
(3)合適的晶核表面結(jié)構(gòu)。
2液固界面微結(jié)構(gòu)與晶體長大機制
粗糙界面(微觀粗糙、宏觀平整一金屬或合金從來可的界面):垂直長大。
光滑界面(微觀光滑、宏觀粗糙一無機化合物或亞金屬材料的界面):二維
晶核長大、依靠缺陷長大。
3液體中溫度梯度與晶體的長大形態(tài)
(1)正溫度梯度(液體中距液固界面越遠,溫度越高)
粗糙界面:平面狀。
光滑界面:臺階狀。
(2)負溫度梯度(液體中距液固界面越遠,溫度越低)
粗糙界面:樹枝狀。
光滑界面:樹枝狀一臺階狀。
第五節(jié)凝固理論的應(yīng)用
1材料鑄態(tài)晶粒度的控制
ZV=0.9(N/G)3/4
(1)提高過冷度。降低澆鑄溫度,提高散熱導(dǎo)熱能力,適用于小件。
(2)化學(xué)變質(zhì)處理。促進異質(zhì)形核,阻礙晶粒長大。
(3)振動和攪拌。輸入能力,破碎枝晶。
2單晶體到額制備
(1)基本原理:保證一個晶核形成并長大。
(2)制備方法:尖端形核法和垂直提拉法。
3定向凝固技術(shù)
(1)原理:單一方向散熱獲得柱狀晶。
(2)制備方法。
4急冷凝固技術(shù)
(1)非晶金屬與合金
(2)微晶合金。
(3)準(zhǔn)晶合金。
由第四章二元相圖
相:(概念回顧)
相圖:描述系統(tǒng)的狀態(tài)、溫度、壓力及成分之間關(guān)系的圖解。
二元相圖:
第一節(jié)相圖的基本知識
1相律
(1)相律:熱力學(xué)平衡條件下,系統(tǒng)的組元數(shù)、相數(shù)和自由度數(shù)之間的關(guān)
系。
(2)表達式:f=c-p+2;壓力一定時,f=c-p+lo
(3)應(yīng)用
可確定系統(tǒng)中可能存在的最多平衡相數(shù)。如單元系2個,二元系3個。
可以解釋純金屬與二元合金的結(jié)晶差別。純金屬結(jié)晶恒溫進行,二元
合金變溫進行。
2相圖的表示與建立
(1)狀態(tài)與成分表示法
狀態(tài)表示:溫度一成分坐標(biāo)系。坐標(biāo)系中的點一表象點。
成分表示:質(zhì)量分數(shù)或摩爾分數(shù)。
(2)相圖的建立
方法:實驗法和計算法。
過程:配制合金一測冷卻曲線一確定轉(zhuǎn)變溫度一填入坐標(biāo)一繪出曲線。
相圖結(jié)構(gòu):兩點、兩線、三區(qū)。
3杠桿定律
(1)平衡相成分的確定(根據(jù)相率,若溫度一定,則自由度為0,平衡相
成分隨之確定。)
(2)數(shù)值確定:直接測量計算或投影到成分軸測量計算。
(3)注意:只適用于兩相區(qū);三點(支點和端點)要選準(zhǔn)。
第二節(jié)二元勺晶相圖
1勻晶相同及其分析
(1)勻晶轉(zhuǎn)變:由液相直接結(jié)晶出單相固溶體的轉(zhuǎn)變。
(2)勻晶相圖:具有勻晶轉(zhuǎn)變特征的相圖。
(3)相圖分析(以Cu-Ni相圖為例)
兩點:純組元的熔點;
兩線:L,S相線;
三區(qū):L,a,L+a。
2固溶體合金的平衡結(jié)晶
(1)平衡結(jié)晶:每個時刻都能達到平衡的結(jié)晶過程。
(2)平衡結(jié)晶過程分析
①冷卻曲線:溫度一時間曲線;
②相(組織)與相變(各溫區(qū)相的類型、相變反應(yīng)式,杠桿定律應(yīng)用。);
③組織示意圖;
④成分均勻化:每時刻結(jié)晶出的固溶體的成分不同。
(3)與純金屬結(jié)晶的比較
①相同點:基本過程:形核一長大;
熱力學(xué)條件:/T>0;
能量條件:能量起伏;
結(jié)構(gòu)條件:結(jié)構(gòu)起伏。
②不同點:合金在一個溫度范圍內(nèi)結(jié)晶(可能性:相率分析,必要性:成分均勻化Q
合金結(jié)晶是選分結(jié)晶:需成分起伏。
3固溶體的不平衡結(jié)晶
(1)原因:冷速快(假設(shè)液相成分均勻、固相成分不均勻)。
(2)結(jié)晶過程特點:固相成分按平均成分線變化(但每一時刻符合相圖);
結(jié)晶的溫度范圍增大;
組織多為樹枝狀。
(3)成分偏析:扇內(nèi)偏析:一個晶粒內(nèi)部化學(xué)成分不均勻現(xiàn)象
枝晶偏析:樹枝晶的枝干和枝間化學(xué)成分不均勻的現(xiàn)象
(消除:擴散退火,在低于固相線溫度長時間保溫。)
4穩(wěn)態(tài)凝固時的溶質(zhì)分布
(1)穩(wěn)態(tài)凝固:從液固界面輸出溶質(zhì)速度等于溶質(zhì)從邊界層擴散出去速度
的凝固過程。
(2)平衡分配系數(shù):在一定溫度下,固、液兩平衡相中溶質(zhì)濃度的比值。
ko=Cs/Ci
(3)溶質(zhì)分布:液、固相內(nèi)溶質(zhì)完全混合(平衡凝固)一a;
固相不混合、液相完全混合一出
固相不混合、液相完全不混合一c;
固相不混合、液相部分混合一七
(4)區(qū)域熔煉(上述溶質(zhì)分布規(guī)律的應(yīng)用)
5成分過冷及其對晶體生長形態(tài)的影響
(1)成分過冷:由成分變化與實際溫度分布共同決定的過冷。
(2)形成:界面溶質(zhì)濃度從高到低一液相線溫度從低到高。
(圖示:溶質(zhì)分布曲線一勻晶相圖一液相線溫度分布曲線一實
際溫度分布曲線一成分過冷區(qū)。)
(3)成分過冷形成的條件和影響因素
條件:G/R<mCo(l-k())/Dk()
合金固有參數(shù):m,k0;
實驗可控參數(shù):G,Ro
(4)成分過冷對生長形態(tài)的影響
(正溫度梯度下)G越大,成分過冷越大一生長形態(tài):平面狀一胞狀
一樹枝狀。
第三節(jié)二元共晶相圖及合金凝固
共晶轉(zhuǎn)變:由一定成分的液相同時結(jié)晶出兩個一定成分固相的轉(zhuǎn)變。
共晶相圖:具有共晶轉(zhuǎn)變特征的相圖。
(液態(tài)無限互溶、固態(tài)有限互溶或完全不溶,且發(fā)生共晶反應(yīng)。
共晶組織:共晶轉(zhuǎn)變產(chǎn)物。(是兩相混合物)
I相圖分析(相圖三要素)
(1)點:純組元熔點;最大溶解度點;共晶點(是亞共晶、過共晶成分分界點)等。
(2)線:結(jié)晶開始、結(jié)束線;溶解度曲線;共晶線等。
(3)區(qū):3個單相區(qū);3個兩相區(qū);1個三相區(qū)。
2合金的平衡結(jié)晶及其組織(以Pb-Sn相圖為例)
(1)Wsn<19%的合金
①凝固過程(冷卻曲線、相變、組織示意圖)。
②二次相(次生相)的生成:脫溶轉(zhuǎn)變(二次析出或二次再結(jié)晶)。
③室溫組織(a+0“)及其相對量計算。
(2)共晶合金
①凝固過程(冷卻曲線、相變、組織示意圖)。
②共晶線上兩相的相對量計算。
③室溫組織(a+B+a“+B“)及其相對量計算。
(3)亞共晶合金
①凝固過程(冷卻曲線、相變、組織示意圖)。
②共晶線上兩相的相對量計算。
③室溫組織(a+P..+(a+P))及其相對量計算。
④組織組成物與組織圖
組織組成物:組成材料顯微組織的各個不同本質(zhì)和形態(tài)的部分。
組織圖:用組織組成物填寫的相圖。
3不平衡結(jié)晶及其組織
(1)偽共晶
①偽共晶:由非共晶成分的合金所得到的完全共晶組織。
②形成原因:不平衡結(jié)晶。成分位于共晶點附近。
③不平衡組織
由非共晶成分的合金得到的完全共晶組織。
共晶成分的合金得到的亞、過共晶組織。(偽共晶區(qū)偏移)
(2)不平衡共晶
①不平衡共晶:位于共晶線以外成分的合金發(fā)生共晶反應(yīng)而形成的組
織。
②原因:不平衡結(jié)晶。成分位于共晶線以外端點附件。
(3)離異共晶
①離異共晶:兩相分離的共晶組織。
②形成原因
平衡條件下,成分位于共晶線上兩端點附近。
不平衡條件下,成分位于共晶線外兩端點附。
③消除:擴散退火。
4共晶組織的形成
(1)共晶體的形成
成分互惠普號形核片間搭多二促進生長
^?******^
兩相交替分布
共晶組織
(2)共晶體的形態(tài)
粗糙一粗糙界面:層片狀(一般情況)、棒狀、纖維狀(一相數(shù)量明顯
少于另一相)
粗糙一平滑界面:具有不規(guī)則或復(fù)雜組織形態(tài)(由于兩相微觀結(jié)構(gòu)不同)
所需動態(tài)過冷度不同,金屬相任意長大,另一相在其間隙長大。
可得到球狀、針狀、花朵狀、樹枝狀共晶體。
非金屬相與液相成分差別大。形成較大成分過冷,率先長大,
形成針狀、骨骼狀、螺旋狀、蜘蛛網(wǎng)狀的共晶體。
(3)初生晶的形態(tài):
金屬固溶體:粗糙界面一樹枝狀;非金屬相:平滑界面一規(guī)則多面體。
第四節(jié)二元包晶相圖
包晶轉(zhuǎn)變:由一個特定成分的固相和液相生成另一個特點成分固相的轉(zhuǎn)變。
包晶相圖:具有包晶轉(zhuǎn)變特征的相圖。
1相圖分析
點、線、區(qū)。
2平衡結(jié)晶過程及其組織
(1)包晶合金的結(jié)晶
結(jié)晶過程:包晶線以下,L,a對B過飽和一界面生成B—三相間存在
濃度梯度一擴散一P長大一全部轉(zhuǎn)變?yōu)锽。
室溫組織:B或B+an。
(2)成分在C-D之間合金的結(jié)晶
結(jié)晶過程:a剩余;
室溫組織:a+B+au+g。
3不平衡結(jié)晶及其組織
異常a相導(dǎo)致包晶偏析(包晶轉(zhuǎn)變要經(jīng)B擴散。包晶偏析:因包晶轉(zhuǎn)變不能
充分進行而導(dǎo)致的成分不均勻現(xiàn)象。)
異常B相由不平衡包晶轉(zhuǎn)變引起。成分在靠近固相、包晶線以外端點附件。
4包晶轉(zhuǎn)變的應(yīng)用
(1)組織設(shè)計:如軸承合金需要的軟基體上分布硬質(zhì)點的組織。
(2)晶粒細化。
第五節(jié)其它類型的二元相圖
自學(xué)內(nèi)容
第六節(jié)鐵碳合金相圖
一二元相圖的分析和使用
(1)二元相圖中的幾何規(guī)律
①相鄰相區(qū)的相數(shù)差1(點接觸除外)一相區(qū)接觸法則;
②三相區(qū)的形狀是一條水平線,其上三點是平衡相的成分點。
③若兩個三相區(qū)中有2個相同的相,則兩水平線之間必是由這兩相組成
的兩相區(qū)。
④單相區(qū)邊界線的延長線應(yīng)進入相鄰的兩相區(qū)。
(2)相圖分析步驟
①以穩(wěn)定的化合物分割相圖;
②確定各點、線、區(qū)的意義;
③分析具體合金的結(jié)晶過程及其組織變化
注:虛線、點劃線的意義一尚未準(zhǔn)確確定的數(shù)據(jù)、磁學(xué)轉(zhuǎn)變線、有序一無序轉(zhuǎn)變
線。
(3)相圖與合金性能的關(guān)系
①根據(jù)相圖判斷材料的力學(xué)和物理性能
②根據(jù)相圖判斷材料的工藝性能
鑄造性能:根據(jù)液固相線之間的距離X
X越大,成分偏析越嚴(yán)重(因為液固相成分差別大);
X越大,流動性越差(因為枝晶發(fā)達);
X越大,熱裂傾向越大(因為液固兩相共存的溫區(qū)大)。
塑性加工性能:選擇具有單相固溶體區(qū)的合金。
熱處理性能:選擇具有固態(tài)相變或固溶度變化的合金。
二鐵一碳合金相圖
1組元和相
(1)組元:鐵一石墨相圖:Fe,C;
鐵一滲碳體相圖:Fe-Fe3C?
相:L,8,A(Y),F(a),Fe3C(K)o(其定義)
2相圖分析
點:16個。
線:兩條磁性轉(zhuǎn)變線;三條等溫轉(zhuǎn)變線;其余三條線:GS,ES,PQo
區(qū):5個單相區(qū),7個兩相區(qū),3個三相區(qū)。
相圖標(biāo)注:相組成物標(biāo)注的相圖。
組織組成物標(biāo)注的相圖。
3合金分類:工業(yè)純鈦(C%<0.0218%)、碳鋼(0.0218<C%<2.11%)、鑄鐵
(C%>2.11%)
4平衡結(jié)晶過程及其組織
(1)典型合金(7種)的平衡結(jié)晶過程、組織變化、室溫組織及其相對量
計算。
(2)重要問題:Fe3CI,Fe3ClI,Fe3Cm的意義及其最大含量計算。
Ld-Ld'轉(zhuǎn)變。
二次杠桿的應(yīng)用。
5含碳量對平衡組織和性能的影響
(1)對平衡組織的影響(隨C%提高)
組織:a+Fe3cm----
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