GB/T 44223-2024納米技術(shù)動態(tài)光散射法粒度分析儀技術(shù)要求

ICS

17.040.30

CCS

N51

中華人民共和國國家標準

GB/T44223—2024

納米技術(shù)動態(tài)光散射法

粒度分析儀技術(shù)要求

Nanotechnologies—Technicalrequirementsfordynamiclight

scatteringparticlesizeanalyzers

2024-07-24發(fā)布2025-02-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標準化管理委員會

GB/T44223—2024

目次

前言

·····································································································

Ⅲ

1

范圍

··································································································

1

2

規(guī)范性引用文件

······················································································

1

3

術(shù)語和定義

···························································································

1

4

工作原理和結(jié)構(gòu)

······················································································

2

5

技術(shù)要求

······························································································

3

6

正常工作條件

·························································································

5

7

檢驗項目和試驗方法

·················································································

5

附錄A（資料性）

粒度標準樣品

······································································

7

附錄B（資料性）

樣品制備方法

······································································

8

參考文獻

··································································································

9

Ⅰ

GB/T44223—2024

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《標準化工作導則第1部分：標準化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)

定起草。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔識別專利的責任。

本文件由中國科學院提出。

本文件由全國納米技術(shù)標準化技術(shù)委員會（SAC/TC279）歸口。

本文件起草單位：國家納米科學中心、中國計量科學研究院、北京市科學技術(shù)研究院分析測試研究

所（北京市理化分析測試中心）、珠海真理光學儀器有限公司、丹東百特儀器有限公司、華南師范大

學、濟南微納顆粒儀器股份有限公司、珠海歐美克儀器有限公司、合肥鴻蒙標準技術(shù)研究院有限公司、

廣州特種承壓設(shè)備檢測研究院、上海思百吉儀器系統(tǒng)有限公司、冷能（廣東）科技有限公司、中國計量

大學、山東理工大學、北京信立方科技發(fā)展股份有限公司、成都精新粉體測試設(shè)備有限公司、安泰科技

股份有限公司、安東帕（上海）商貿(mào)有限公司、中國合格評定國家認可中心、北京粉體技術(shù)協(xié)會、中國

顆粒學會。

本文件主要起草人：朱曉陽、高潔、劉俊杰、黃鷺、高原、張福根、董青云、寧輝、韓鵬、任飛、

沈興志、竇曉亮、尹宗杰、黎小宇、劉斌、于明州、劉偉、牛亞偉、周已欣、李艷萍、宋緒東、肖歷、

徐彥、王寧、周素紅、韓秀芝。

Ⅲ

GB/T44223—2024

納米技術(shù)動態(tài)光散射法

粒度分析儀技術(shù)要求

1范圍

本文件給出了動態(tài)光散射法粒度分析儀的原理，規(guī)定了其性能、電源電壓適應性、環(huán)境適應性、安

全性、機械結(jié)構(gòu)、試驗條件等技術(shù)要求，描述了其準確性、重復性的試驗方法。

本文件適用于測量納米級及亞微米級顆粒的平均粒徑、粒徑分布等參數(shù)的粒度分析儀的試驗、檢

測、運行和維護。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文

件,僅該日期對應的版本適用于本文件；不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本

文件。

GB/T29022—2021粒度分析動態(tài)光散射法（DLS）

GB/T30544.6—2016納米科技術(shù)語第6部分：納米物體表征

JJG1104—2015動態(tài)光散射粒度分析儀

3術(shù)語和定義

GB/T29022—2021、GB/T30544.6—2016界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。

3.1

平均流體動力學粒徑averagehydrodynamicdiameter

xDLS

反映粒度分布中值的流體動力學直徑。

注1：平均粒徑直接測定，既可以不計算粒徑分布，也可以從光強加權(quán)分布、體積加權(quán)分布或數(shù)量加權(quán)分布，以及

擬合（轉(zhuǎn)換）的密度函數(shù)中計算得到。顆粒平均粒徑的確切意義與計算方法相關(guān)。

注2：累積量法給出散射光強加權(quán)的諧平均粒徑，有時也稱為Z均粒徑。

注3：根據(jù)ISO9276?2，算術(shù)、幾何、諧平均值也可以從粒度分布計算得到。

注4：由密度函數(shù)（線性坐標）和變換的密度函數(shù)（對數(shù)坐標）計算得到的平均值可能會有顯著差異（見

ISO9276?1）。

注5：xDLS與顆粒形狀和散射矢量（進而與探測角度、激光波長和懸浮液介質(zhì)的折射率）相關(guān)。

注6：又稱平均粒徑。

[來源：GB/T29022—2021，3.2]

3.2

多分散指數(shù)polydispersityindex；PI

用于描述粒度分布寬度的