敏感元件的真空鍍膜技術(shù)考核試卷

敏感元件的真空鍍膜技術(shù)考核試卷考生姓名：__________答題日期：__________得分：__________判卷人：__________

一、單項(xiàng)選擇題（本題共20小題，每小題1分，共20分，在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中，只有一項(xiàng)是符合題目要求的）

1.真空鍍膜技術(shù)中，以下哪種元件不屬于敏感元件？()

A.熱敏電阻

B.光敏二極管

C.電容

D.電動(dòng)機(jī)

2.下列哪種材料常用作真空鍍膜的光學(xué)薄膜？()

A.銅膜

B.鋁膜

C.硅膜

D.硼膜

3.在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪個(gè)因素不會(huì)影響膜層的質(zhì)量？()

A.真空度

B.鍍膜速率

C.濺射功率

D.室內(nèi)溫度

4.真空鍍膜技術(shù)中，以下哪種方法不常用于敏感元件的鍍膜？()

A.磁控濺射

B.電子束蒸發(fā)

C.離子束濺射

D.化學(xué)氣相沉積

5.在磁控濺射鍍膜過(guò)程中，以下哪個(gè)參數(shù)會(huì)影響膜層的附著強(qiáng)度？()

A.濺射功率

B.陰極靶材

C.氣體壓力

D.鍍膜時(shí)間

6.下列哪種氣體不適用于真空鍍膜中的反應(yīng)氣體？()

A.氧氣

B.氮?dú)?/p>

C.氬氣

D.氫氣

7.光敏元件在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪個(gè)因素會(huì)影響其靈敏度？()

A.鍍膜材料

B.鍍膜厚度

C.鍍膜速率

D.真空度

8.以下哪種敏感元件在真空鍍膜過(guò)程中，對(duì)溫度要求最高？()

A.熱敏電阻

B.壓敏電阻

C.光敏二極管

D.濕敏元件

9.在真空鍍膜技術(shù)中，以下哪種現(xiàn)象會(huì)導(dǎo)致膜層質(zhì)量下降？()

A.鍍膜速率過(guò)快

B.真空度提高

C.陰極靶材溫度升高

D.濺射功率降低

10.以下哪種方法不適用于真空鍍膜中的清潔處理？()

A.離子轟擊

B.磨拋

C.超聲波清洗

D.高溫烘烤

11.下列哪種材料在真空鍍膜過(guò)程中，濺射率最低？()

A.鋁

B.鎳

C.銅

D.金

12.敏感元件的真空鍍膜過(guò)程中，以下哪個(gè)參數(shù)會(huì)影響膜層的均勻性？()

A.濺射角度

B.鍍膜時(shí)間

C.陰極靶材與基片的距離

D.真空度

13.下列哪種氣體在真空鍍膜過(guò)程中，不會(huì)對(duì)敏感元件產(chǎn)生腐蝕作用？()

A.氧氣

B.氮?dú)?/p>

C.氬氣

D.氯氣

14.在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪種方法可以提高膜層的附著強(qiáng)度？()

A.提高濺射功率

B.降低鍍膜速率

C.提高氣體壓力

D.增加鍍膜時(shí)間

15.以下哪種因素會(huì)影響真空鍍膜過(guò)程中膜層的厚度？()

A.濺射功率

B.陰極靶材

C.氣體壓力

D.鍍膜時(shí)間

16.敏感元件在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪種現(xiàn)象可能導(dǎo)致性能下降？()

A.鍍膜材料的選擇

B.鍍膜厚度的控制

C.鍍膜速率的調(diào)整

D.真空度的提高

17.以下哪種材料在真空鍍膜過(guò)程中，具有較好的耐腐蝕性能？()

A.鋁膜

B.鎳膜

C.銅膜

D.金膜

18.在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪種因素會(huì)影響膜層的表面粗糙度？()

A.濺射功率

B.鍍膜速率

C.陰極靶材與基片的距離

D.真空度

19.下列哪種敏感元件在真空鍍膜過(guò)程中，對(duì)環(huán)境氣氛最為敏感？()

A.熱敏電阻

B.壓敏電阻

C.光敏二極管

D.濕敏元件

20.在真空鍍膜技術(shù)中，以下哪種方法可以提高膜層的致密性？()

A.提高濺射功率

B.降低鍍膜速率

C.提高氣體壓力

D.增加鍍膜時(shí)間

二、多選題（本題共20小題，每小題1.5分，共30分，在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中，至少有一項(xiàng)是符合題目要求的）

1.以下哪些因素會(huì)影響敏感元件在真空鍍膜過(guò)程中的性能？（）

A.鍍膜材料的選擇

B.鍍膜厚度

C.真空度

D.基片溫度

2.真空鍍膜技術(shù)中，以下哪些方法可以提高膜層的附著強(qiáng)度？（）

A.增加鍍膜時(shí)間

B.提高濺射功率

C.降低氣體壓力

D.使用離子轟擊

3.敏感元件在鍍膜過(guò)程中，以下哪些因素可能導(dǎo)致膜層的不均勻性？（）

A.陰極靶材與基片的距離

B.濺射角度

C.鍍膜時(shí)間

D.真空度

4.以下哪些是真空鍍膜過(guò)程中常用的濺射氣體？（）

A.氬氣

B.氮?dú)?/p>

C.氧氣

D.氫氣

5.以下哪些因素會(huì)影響真空鍍膜過(guò)程中的濺射速率？（）

A.濺射功率

B.陰極靶材的種類

C.氣體壓力

D.基片溫度

6.以下哪些材料適用于真空鍍膜中的光學(xué)薄膜？（）

A.鈦膜

B.鋁膜

C.鎳膜

D.金膜

7.在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪些操作可以減少膜層的內(nèi)應(yīng)力？（）

A.提高濺射功率

B.降低鍍膜速率

C.進(jìn)行離子轟擊

D.適當(dāng)提高氣體壓力

8.以下哪些因素會(huì)影響真空鍍膜后敏感元件的導(dǎo)電性？（）

A.鍍膜材料

B.鍍膜厚度

C.鍍膜速率

D.真空度

9.以下哪些方法可以用于真空鍍膜后的膜層檢測(cè)？（）

A.掃描電子顯微鏡

B.紫外可見(jiàn)光譜分析

C.四點(diǎn)探針測(cè)量

D.X射線光電子能譜

10.以下哪些情況下，敏感元件在真空鍍膜過(guò)程中容易出現(xiàn)缺陷？（）

A.鍍膜速率過(guò)快

B.真空度不足

C.陰極靶材溫度過(guò)高

D.基片清潔度不足

11.以下哪些因素會(huì)影響真空鍍膜過(guò)程中的膜層結(jié)構(gòu)？（）

A.濺射功率

B.鍍膜時(shí)間

C.氣體流量

D.基片溫度

12.以下哪些材料可以用作敏感元件的真空鍍膜靶材？（）

A.金

B.鋁

C.硅

D.鉬

13.敏感元件在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪些條件可以改善膜層的耐腐蝕性？（）

A.使用反應(yīng)氣體

B.提高濺射功率

C.增加鍍膜厚度

D.降低氣體壓力

14.以下哪些方法可以用于真空鍍膜前的基片預(yù)處理？（）

A.化學(xué)清洗

B.磨拋

C.超聲波清洗

D.離子轟擊

15.以下哪些因素會(huì)影響真空鍍膜后敏感元件的熱穩(wěn)定性？（）

A.鍍膜材料

B.鍍膜厚度

C.鍍膜速率

D.基片材料

16.以下哪些氣體在真空鍍膜過(guò)程中可能對(duì)敏感元件造成損害？（）

A.氧氣

B.氯氣

C.氬氣

D.氮?dú)?/p>

17.在真空鍍膜過(guò)程中，以下哪些措施可以減少膜層的針孔和氣泡？（）

A.提高濺射功率

B.優(yōu)化基片溫度

C.使用合適的氣體流量

D.增加鍍膜時(shí)間

18.以下哪些材料在真空鍍膜過(guò)程中，對(duì)膜層的導(dǎo)電性有顯著影響？（）

A.鋁

B.鎳

C.金

D.硅

19.以下哪些因素會(huì)影響真空鍍膜后敏感元件的響應(yīng)時(shí)間？（）

A.鍍膜材料

B.鍍膜厚度

C.膜層結(jié)構(gòu)

D.基片處理

20.以下哪些是真空鍍膜技術(shù)在敏感元件應(yīng)用中的優(yōu)勢(shì)？（）

A.膜層厚度可控

B.膜層附著強(qiáng)度高

C.膜層均勻性好

D.工藝過(guò)程環(huán)境友好

三、填空題（本題共10小題，每小題2分，共20分，請(qǐng)將正確答案填到題目空白處）

1.真空鍍膜技術(shù)中，常用的濺射氣體是______。（）

2.在真空鍍膜過(guò)程中，影響膜層附著力的主要因素是______。（）

3.敏感元件的真空鍍膜一般采用______方法進(jìn)行。（）

4.為了提高膜層的均勻性，應(yīng)調(diào)整______和______等參數(shù)。（）

5.真空鍍膜過(guò)程中，用于清潔基片的常用方法是______。（）

6.膜層的內(nèi)應(yīng)力主要來(lái)源于______和______。（）

7.在真空鍍膜中，______是一種常用的反應(yīng)氣體，用于提高膜層的耐腐蝕性。（）

8.真空鍍膜技術(shù)中，______是衡量膜層質(zhì)量的重要指標(biāo)之一。（）

9.敏感元件在鍍膜后需要進(jìn)行______，以確保性能滿足要求。（）

10.真空鍍膜技術(shù)的核心設(shè)備是______。（）

四、判斷題（本題共10小題，每題1分，共10分，正確的請(qǐng)?jiān)诖痤}括號(hào)中畫(huà)√，錯(cuò)誤的畫(huà)×）

1.真空鍍膜過(guò)程中，膜層的厚度與濺射功率成正比。（）

2.在真空鍍膜中，提高氣體壓力可以增加濺射速率。（）

3.敏感元件的真空鍍膜過(guò)程中，基片的溫度對(duì)膜層質(zhì)量沒(méi)有影響。（）

4.真空鍍膜技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)膜層的原子級(jí)平整度。（）

5.光學(xué)薄膜的真空鍍膜一般使用磁控濺射方法。（）

6.真空鍍膜過(guò)程中，所有類型的敏感元件都需要進(jìn)行離子轟擊處理。（）

7.膜層的附著強(qiáng)度與基片的表面粗糙度成反比。（）

8.真空鍍膜技術(shù)可以在室溫下進(jìn)行，無(wú)需加熱基片。（）

9.敏感元件的真空鍍膜可以完全在線監(jiān)測(cè)，不需要后續(xù)的質(zhì)量檢測(cè)。（）

10.真空鍍膜技術(shù)對(duì)環(huán)境友好，不會(huì)產(chǎn)生有害廢物。（）

五、主觀題（本題共4小題，每題10分，共40分）

1.請(qǐng)簡(jiǎn)述真空鍍膜技術(shù)在敏感元件中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)，并列舉至少三種常見(jiàn)的敏感元件及其適用的真空鍍膜方法。

2.描述在真空鍍膜過(guò)程中，如何通過(guò)調(diào)整濺射參數(shù)和工藝條件來(lái)優(yōu)化膜層的附著強(qiáng)度和均勻性。

3.分析在真空鍍膜過(guò)程中，可能出現(xiàn)的膜層缺陷（如針孔、氣泡等）的原因，并提出相應(yīng)的解決措施。

4.討論在真空鍍膜技術(shù)中，如何評(píng)估和檢測(cè)敏感元件鍍膜后的性能，以確保其滿足設(shè)計(jì)要求和工作條件。

標(biāo)準(zhǔn)答案

一、單項(xiàng)選擇題

1.D

2.B

3.D

4.D

5.A

6.D

7.B

8.A

9.A

10.D

11.A

12.A

13.C

14.A

15.A

16.C

17.D

18.A

19.D

20.A

二、多選題

1.ABCD

2.ABD

3.ABC

4.ABCD

5.ABCD

6.ABCD

7.BCD

8.ABC

9.ABCD

10.ABCD

11.ABCD

12.ABCD

13.ABC

14.ABCD

15.ABCD

16.ABC

17.ABCD

18.ABC

19.ABCD

20.ABCD

三、填空題

1.氬氣

2.濺射功率、基片處理

3.磁控濺射

4.濺射角度、基片溫度

5.離子轟擊

6.膜層與基片的收縮率差異、濺射過(guò)程中的氣體分子影響

7.氧氣

8.膜層的厚度、附著力和均勻性

9.性能測(cè)試

10.真空鍍膜機(jī)

四、判斷題

1.√

2.×

3.×

4.√

5.√

6.×

7.√

8.×

9.×

10.×

五、主觀題（參考）

1.真空鍍膜技術(shù)具有膜層厚度可控、附著強(qiáng)度高、均勻性好等優(yōu)點(diǎn)。常見(jiàn)敏