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文檔簡介
ICSXX.XXX.XX
CCSXXXX
團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)
T/CSTMXXXXX—202X
高速印制板用涂/鍍層測試方法
Testmethodofcoating/platinglayerforhighspeedprintedboard
202X-XX-XX發(fā)布202X-XX-XX實(shí)施
中關(guān)村材料試驗(yàn)技術(shù)聯(lián)盟發(fā)布
T/CSTMXXXXX—2022
前言
本文件參照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》,GB/T20001.4
—2015《標(biāo)準(zhǔn)編寫規(guī)則第4部分:試驗(yàn)方法標(biāo)準(zhǔn)》給出的規(guī)則起草。
請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任。
本文件由中國材料與試驗(yàn)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)XXXX領(lǐng)域委員會(huì)(CSTM/FCXX)提出。
本文件為首次制定。
本文件由中國材料與試驗(yàn)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)XXXX領(lǐng)域委員會(huì)(CSTM/FCXX)或技術(shù)委員會(huì)
(CSTM/FCXX/TCXX)歸口。
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引言
隨著5G高頻5G通信用通訊技術(shù)的日益發(fā)展,電子產(chǎn)品信號(hào)朝著更高頻率和更5G通信用度發(fā)展,
在此情況下,傳輸線上的趨膚效應(yīng)更明顯。原本只起到保焊作用的表面處理層,會(huì)因趨膚效應(yīng),影響到
信號(hào)的傳輸。在調(diào)研國內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)情況后,本標(biāo)準(zhǔn)在相關(guān)測試項(xiàng)目上提出了優(yōu)化。主要內(nèi)容包括:(1)厚
度測量上摒棄傳統(tǒng)使用熒光測厚儀的方式測量,改用切片方式,結(jié)合離子束拋光和SEM測量的方式,
更好的兼容了非金屬類的OSP膜表面處理層。(2)粗糙度測量上,摒棄傳統(tǒng)接觸式觸針法的測量方式,
改用光學(xué)系統(tǒng)的激光輪廓儀的非接觸式測量方式,在測量分辨率上從微米級(jí)別提升至納米級(jí)別,更適用
于表面處理層粗糙度的測量。(3)在微波性能驗(yàn)證方面首次提出在同一測試線上測試有無表面處理層情
況下的特性阻抗和插入損耗,以用于驗(yàn)證表面處理層對(duì)特性阻抗和插入損耗等微波性能的影響。
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5G通信用印制板表面處理材料測試方法
重要提示(危險(xiǎn)或警告或注意):使用本文件的人員應(yīng)有正規(guī)實(shí)驗(yàn)室工作的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。本文件并未
指出所有可能的安全問題。使用者有責(zé)任采取適當(dāng)?shù)陌踩徒】荡胧?,并保證符合國家有關(guān)法規(guī)規(guī)定的
條件。
1范圍
本文件規(guī)定了5G通信用印制板表面處理的厚度、粗糙度、可焊性、特性阻抗和插入損耗的測試方
法。
本文件適用于5G通信用印制板表面處理,主要包括:OSP、沉錫、沉銀、化學(xué)鎳金、化學(xué)鎳鈀金、
電鍍鎳金、噴錫等,其他行業(yè)印制板用表面處理可參考使用。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,
僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本
文件。
GB/T2036印制電路術(shù)語和定義
GB/T29847印制板用銅箔試驗(yàn)方法
GB/T4677印制板測試方法
3術(shù)語和定義
3.1
印制板PrintedBoard
印制電路或印制線路成品板的通稱。它包括剛性、撓性和剛撓結(jié)合的單面、雙面和多層印制板等。
[來源:GB/T2036-1994,2.3]
3.2
表面處理SurfaceFinish/FinalFinish
通過化學(xué)沉積或電鍍方式在印制板銅導(dǎo)線/銅焊盤上增加的一層保護(hù)層,典型的印制板表面處理為
OSP、沉錫、沉銀、化學(xué)鎳金、化學(xué)鎳鈀金、電鍍鎳金、噴錫等。
3.3
有機(jī)可焊性保護(hù)劑OrganicSolderabilityPreservative
能與銅表面起選擇性反應(yīng)形成均勻薄膜的有機(jī)化合物,形成的薄膜可防止印制板長期貯存后銅的氧
化并保持其可焊性。又簡稱OSP。
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3.4
沉錫(ImmersionTin)
一種通過化學(xué)置換反應(yīng),直接將金屬錫沉積于印制板銅導(dǎo)線/銅焊盤表面的處理方式。
3.5
沉銀(ImmersionSilver)
一種通過化學(xué)反應(yīng),直接將金屬銀沉積于印制板銅導(dǎo)線/銅焊盤表面的處理方式。
3.6
輪廓算數(shù)平均偏差(arithmeticalmeandeviationoftheprofile,Ra)
在測量長度內(nèi),從中心線至粗糙輪廓所有絕對(duì)距離的算數(shù)平均值。
3.7
可焊性Solderability
金屬被熔融焊料潤濕的能力。
4一般要求
4.1試驗(yàn)條件
4.1.1正常試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)大氣條件
除另有規(guī)定外,試驗(yàn)應(yīng)在下列條件下進(jìn)行:
a)溫度:15℃~35℃;
b)相對(duì)濕度:25%~75%;
c)大氣壓力:86kPa~106kPa。
4.1.2仲裁試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)大氣條件
如果測試參數(shù)依賴于溫度、濕度與氣壓,則試驗(yàn)應(yīng)在下列仲裁試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)大氣條件下進(jìn)行:
a)溫度:(25±1)℃;
b)相對(duì)濕度:45%~55%;
c)大氣壓力:86kPa~106kPa。
4.2試驗(yàn)報(bào)告
除另有規(guī)定外,試驗(yàn)報(bào)告應(yīng)至少包括下列內(nèi)容:
a)試樣的基本信息,例如:試樣名稱、型號(hào)規(guī)格、制造商、試樣數(shù)量、送樣單位等;
b)試驗(yàn)條件信息,例如:環(huán)境條件、測試條件等;
c)試驗(yàn)設(shè)備基本信息,例如:設(shè)備名稱、型號(hào)、編號(hào)等;
d)人員與日期信息:試驗(yàn)日期、檢測人和批準(zhǔn)人等;
e)試驗(yàn)結(jié)果。
5厚度
5.1目的
5
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本方法用于檢測表面處理層的厚度。
5.2設(shè)備和材料
厚度檢測所需設(shè)備和材料如下:
a)掃描電子顯微鏡;
b)低溫磁控離子濺射儀:可以在樣品表面濺射上一層薄的導(dǎo)電層,導(dǎo)電層可以是碳層、金層或者鉑層
等;
c)附錄A所需的設(shè)備和材料。
5.3程序
除非另有規(guī)定外,需要按照如下步驟進(jìn)行測試:
a)將需要測試的試樣從印制板上切割下來;
b)按照附錄A進(jìn)行切片制作;
c)在切片截面上噴濺導(dǎo)電層后,置于SEM測試倉內(nèi),經(jīng)調(diào)節(jié)圖像清晰度后,應(yīng)在至少3000倍的放大倍
率下測量表面處理層的厚度,視厚度情況可放大至5000倍或更高倍數(shù)測量,確保表面處理層清晰可
見并便于測量;
d)每個(gè)焊盤上應(yīng)至少測量左中右三個(gè)鍍層均勻位置的厚度,并以三個(gè)位置的平均值作為單個(gè)焊盤最終
測試結(jié)果。
6粗糙度
6.1目的
本方法用于檢測除噴錫外的表面處理層的表面粗糙度。
6.2設(shè)備和材料
粗糙度檢測所需設(shè)備和材料如下:
a)激光輪廓儀或者等效設(shè)備,激光輪廓儀參數(shù)需滿足如下要求:
1)X/Y方向圖像顯示分辨率至少為1nm,重復(fù)精度(3σ)在50倍物鏡測試時(shí)至少為40nm;
2)Z向顯示分辨率至少為0.5nm,重復(fù)精度(σ)在50倍物鏡測試時(shí)至少為12nm。
b)壓縮空氣。
6.3程序
除非另有規(guī)定外,需要按照如下步驟進(jìn)行測試:
a)用適當(dāng)?shù)拇植诙然鶞?zhǔn)Ra標(biāo)樣校準(zhǔn)輪廓儀的Ra值;
b)把在基準(zhǔn)標(biāo)樣不同部位測量的6個(gè)測量值與標(biāo)樣的標(biāo)準(zhǔn)值(非標(biāo)稱值)進(jìn)行比較,如果平均結(jié)果超過
標(biāo)準(zhǔn)值的2%,應(yīng)重新校準(zhǔn)輪廓儀,直至允許偏差達(dá)到要求;
c)把試樣至于載物臺(tái)上,試樣上應(yīng)至少包含三個(gè)尺寸大于300μm×300μm的焊盤。仲裁試驗(yàn)時(shí),可用清
潔的壓縮空氣向被測試樣表面吹風(fēng),以去除松散的碎屑;
d)調(diào)節(jié)載物臺(tái),使樣品移至中央;
e)調(diào)節(jié)粗調(diào)旋鈕,使樣品表面大致清晰可見;
f)逐級(jí)轉(zhuǎn)換物鏡鏡頭至50倍,并調(diào)節(jié)焦點(diǎn),使圖像清晰可見;
g)轉(zhuǎn)至測量模式,選擇測量位置開始采集圖像信息;
h)采集完成后保存結(jié)果,打開分析軟件;
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i)選取基準(zhǔn)面,對(duì)測量平面進(jìn)行調(diào)平;
j)打開粗糙度測量模塊,添加所需測量參數(shù)Ra,選取輪廓測量位置,輸出測試結(jié)果;
k)分別按上述步驟d)~步驟j)測量其他焊盤的粗糙度Ra值,以三個(gè)焊盤測量結(jié)果的平均值作為最終樣
品的測量結(jié)果。
7可焊性
7.1目的
本方法用于評(píng)估交收態(tài)下表面處理層的可焊性。其中浸焊法適用于尺寸0.5mm×0.5mm或等效面積在
0.25mm2以上的焊盤可焊性檢測;浮焊法適用于不小于0.3mm孔徑大小的通孔可焊性檢測。
7.2設(shè)備和材料
可焊性檢測所需的設(shè)備和材料如下:
a)焊料:成分應(yīng)當(dāng)為Sn96.5Ag3.0Cu0.5(SAC305),焊料內(nèi)雜質(zhì)的控制應(yīng)符合表1要求;
表1焊料槽雜質(zhì)含量最大值
雜質(zhì)雜質(zhì)最大重量百分比
銅1.000
金0.200
鎘0.005
鋅0.005
鋁0.006
銻0.500
鐵0.020
砷0.030
鉍0.250
銀4.000
鎳0.010
鉛0.100
b)助焊劑:將重量比為(25±0.5)%的松香和重量比為(0.39±0.01)%的二乙胺鹽酸鹽溶解于重量比
(74.61±0.5)%的分析純異丙醇中而制成;
c)異丙醇:分析純;
d)焊料槽:可以保障焊料溫度穩(wěn)定維持在255℃±5℃范圍內(nèi);
e)計(jì)時(shí)器:能精確至0.1s;
f)顯微鏡:至少可放大10倍;
7.3程序
7.3.1浸焊法
除非另有規(guī)定外,需要按照如下步驟進(jìn)行測試:
a)在印制板上裁剪出不大于50mm×50mm的試樣,或是能夠反映出印制板常用特性的試樣;
b)將試樣待焊接部分完全浸入助焊劑5s~10s;
c)從助焊劑中提出試樣后,應(yīng)當(dāng)垂直放置不超過60s,并使用干凈的、無粘附性的吸收材料去除待測試
表面多余的助焊劑;
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d)使用刮刀去除熔融焊料表面的浮渣和助焊劑殘留物,并將涂敷助焊劑后的試樣在5min內(nèi)以25mm/s的
速度浸入熔融焊料中,浸入角度推薦70°~80°,焊料溫度應(yīng)事先控制在(255±5)℃范圍內(nèi),試樣
浸入深度至少為(25±2)mm,試樣浸入熔融焊料后應(yīng)停留(10±0.5)s,根據(jù)板的結(jié)構(gòu),當(dāng)銅含
量較高時(shí),停留時(shí)間可適當(dāng)調(diào)整,此時(shí)停留時(shí)間的調(diào)整應(yīng)由供需雙方商定,但最多不得超過30s,當(dāng)
試樣表面焊盤有阻焊限定焊盤時(shí),在熔融焊料中停留過程可輕微左右滑動(dòng);
e)試樣在焊料中停留夠時(shí)間后,以25mm/s的速度提出,并使焊料在空氣中冷卻凝固,提出角度推薦70°
~80°;
f)冷卻后的試樣,使用異丙醇清洗干凈表面殘留的助焊劑;
g)將試樣置于顯微鏡下,以10倍的放大倍數(shù)檢查焊盤的焊接結(jié)果。
7.3.2浮焊法
除非另有規(guī)定外,需要按照如下步驟進(jìn)行測試:
a)在印制板上裁剪出不大于50mm×50mm的試樣,試樣需含不小于0.3mm孔徑大小的通孔,或是能夠
反映出印制板常用特性的試樣;
b)將試樣待焊接部分完全浸入助焊劑5s~10s;
c)從助焊劑中提出試樣后,應(yīng)當(dāng)垂直放置不超過60s,并使用干凈的、無粘附性的吸收材料去除待測試
表面及孔內(nèi)多余的助焊劑,確保所有孔都沒有被助焊劑堵塞;
d)使用刮刀去除熔融焊料表面的浮渣和助焊劑殘留物,并將涂敷助焊劑后的試樣應(yīng)在5min內(nèi)輕輕地滑
到熔融焊料上,并停留焊料表面(10±0.5)s,焊料溫度應(yīng)事先控制在(255±5)℃范圍內(nèi),當(dāng)試樣
包含較多的內(nèi)層或含銅量較大時(shí),可適當(dāng)調(diào)整浮焊的停留時(shí)間,調(diào)整的時(shí)間應(yīng)由供需雙方協(xié)商確定,
但最長不可超過30s,浮焊過程試樣應(yīng)小心壓入焊料中,壓入厚度不得超過試樣厚度的50%;
e)達(dá)到浮焊停留時(shí)間后,將試樣從焊料中滑出,在空氣中保持試樣水平不動(dòng),直到焊料冷卻凝固;
f)冷卻后的試樣,使用異丙醇清洗干凈表面殘留的助焊劑;
g)將試樣置于顯微鏡下,以10倍的放大倍數(shù)檢查通孔的焊接結(jié)果。
8特性阻抗
8.1目的
本方法用于驗(yàn)證表面處理層對(duì)特性阻抗性能的影響。
8.2設(shè)備和材料
本實(shí)驗(yàn)所需適用于規(guī)定程序的儀器和材料如下:
a)時(shí)域反射法(TDR)阻抗分析儀或者同等功能帶TDR模塊的網(wǎng)絡(luò)分析儀;
b)酒精:分析純;
c)鹽酸:36%濃度,工業(yè)級(jí);
d)高錳酸鉀:分析純;
e)氫氧化鈉:分析純;
f)氨水:分析純;
g)烘箱:能準(zhǔn)確維持在105℃,示值誤差不超過5℃。
8.3試樣
表面分別設(shè)計(jì)有50Ω單端阻抗線和100Ω差分阻抗線的印制板,其中差分阻抗線的線間距為7mil,線寬可
根據(jù)具體基材Dk/Df以及銅厚進(jìn)行調(diào)整。典型的測試圖形見圖1的示意圖。
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圖1阻抗線示意圖
8.4程序
除非另有規(guī)定外,需要按照如下步驟進(jìn)行測試:
a)開啟儀器預(yù)熱30min,使其達(dá)到穩(wěn)定;
b)系統(tǒng)校準(zhǔn)與檢查,步驟如下:
1)連接測試電纜與網(wǎng)絡(luò)分析儀,并使用制造供應(yīng)商提供的的力矩扳手旋緊;
2)設(shè)置頻率掃描范圍;
3)連接網(wǎng)絡(luò)分析儀和校準(zhǔn)件進(jìn)行電纜校準(zhǔn)。
c)去除表面處理層前阻抗測試,步驟如下:
1)試樣先在(105±5)℃烘箱中烘烤(2±0.25)h,以去除水汽;
2)試樣經(jīng)烘烤并冷卻至室溫后,連接單端/差分測試探頭,將探頭置于空氣中測量測試探頭的TDR
波形,建立測試區(qū)域起點(diǎn);
3)將探頭連接到被測樣品,測量被測樣品的TDR波形,將終點(diǎn)光標(biāo)放置于被測樣品波形的末端作為
測試區(qū)域的終點(diǎn);
4)數(shù)據(jù)處理,對(duì)測試區(qū)域內(nèi)所得曲線設(shè)置取值范圍(50%~70%或供需雙方協(xié)商確定),讀取該范
圍內(nèi)的平均值Z1。
d)將阻抗線上的表面處理層去除,其中OSP層和化錫層使用鹽酸和酒精溶液去除,化學(xué)沉銀層使用高
錳酸鉀、氫氧化鈉和氨水等溶劑配置成溶液去除。兩種去除表面處理層的藥水溶液具體配比比例由
供需雙方協(xié)商確定,也可使用其它去除的方法,但需保證阻抗線下的銅層不被藥水攻擊而改變表面
形貌;
e)去除表面處理層后阻抗測試:
阻抗的測試同步驟c),阻抗平均值記錄為Z2。
g)表面處理層對(duì)特性阻抗的影響計(jì)算:Z=|Z1-Z2|。
9插入損耗
9.1目的
本方法用于驗(yàn)證表面處理層對(duì)插入損耗性能的影響。
9.2設(shè)備和材料
本實(shí)驗(yàn)所需適用于規(guī)定程序的儀器和材料如下:
a)四端口網(wǎng)絡(luò)分析儀,頻率至少滿足20GHz;
b)標(biāo)準(zhǔn)SMA連接器;
c)校準(zhǔn)件;
d)酒精,分析純;
e)鹽酸,36%濃度,工業(yè)級(jí);
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f)高錳酸鉀,分析純;
g)氫氧化鈉,分析純;
h)氨水,分析純;
i)烘箱,能準(zhǔn)確維持在105℃,示值誤差不超過5℃。
9.3試樣
表面設(shè)計(jì)有Delta-L法測試傳輸線,傳輸線兩端設(shè)計(jì)有過孔、焊盤用于與SMA連接器連接,傳輸線的短
線長度需≥4inch,傳輸線的長線的長度需比短線的長度≥4inch。長線和短線各自線間距均為7mil,線寬可根
據(jù)具體基材Dk/Df以及銅厚進(jìn)行調(diào)整。典型的測試線示意圖見圖2。
圖2Delta-L插入損耗測試傳輸線示意圖
9.4程序
除非另有規(guī)定外,需要按照如下步驟進(jìn)行測試:
a)試樣先在(105±5)℃烘箱中烘烤(2±0.25)h,以去除水汽;
b)開啟網(wǎng)絡(luò)分析儀預(yù)熱30min,使其達(dá)到穩(wěn)定;
c)系統(tǒng)校準(zhǔn),步驟如下:
1)連接測試電纜與網(wǎng)絡(luò)分析儀,并使用制造供應(yīng)商提供的的力矩扳手旋緊;
2)設(shè)置頻率掃描范圍;
3)連接網(wǎng)絡(luò)分析儀和校準(zhǔn)件進(jìn)行電纜校準(zhǔn)。
d)根據(jù)設(shè)計(jì)圖形連接專用測試探頭或者連接器;
e)設(shè)置測試頻率范圍;
f)在設(shè)備操作界面輸入測試圖形信息和測試條件,包括線長、測試頻點(diǎn)(4GHz、8GHz、12.89GHz等)
信息;
g)去除表面處理層前插入損耗Loss1測試,步驟如下:
1)測試長線損耗;
2)測試短線損耗。
h)依據(jù)設(shè)備制造商提供的軟件算法進(jìn)行去嵌處理,輸出相應(yīng)頻點(diǎn)(4GHz、8GHz、12.89GHz等)插入
損耗值Loss1;
i)將損耗測試線上的表面處理層去除,其中OSP層和化錫層使用鹽酸和酒精溶液去除,化學(xué)沉銀層使用
高錳酸鉀、氫氧化鈉和氨水等溶劑配置成溶液去除。兩種去除表面處理層的藥水溶液具體配比比例
由供需雙方協(xié)商確定,也可使用其它去除的方法,但需保證阻抗線下的銅層不被藥水攻擊而改變表
面形貌;
j)去除表面處理層后插入損耗Loss2測試,步驟如下:
去除表面處理層后,試樣先在(105±5)℃烘箱中烘烤(2±0.25)h,以去除水汽,冷卻至室溫后
按上述步驟b)~步驟h)測試插入損耗;
k)阻焊油墨對(duì)插入損耗的影響計(jì)算:△Loss=|Loss1-Loss2|(采用相同頻點(diǎn)值進(jìn)行計(jì)算)。
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附錄A
(規(guī)范性)
顯微剖切制作方法
A.1目的
本方法用于對(duì)表面處理層進(jìn)行顯微剖切,為后續(xù)厚度測量提供制樣方法。
A.2設(shè)備和材料
本試驗(yàn)所需適用于規(guī)定程序的儀器和材料如下:
a)灌封材料,固化溫度盡可能低,但不宜高于100℃;
b)80目砂紙至4000目砂紙;
c)拋光布,硬的、低或無絨毛布用于粗略和中間的拋光,軟的、編織或中等絨毛布用于最終的拋光;
d)氧化鋁或膠體二氧化硅拋光懸浮液(粉),粒徑:1μm~0.05μm,細(xì)顆粒拋光液(粉)用于最終的拋
光;
e)研磨機(jī),轉(zhuǎn)速0~1200r/min可調(diào);
f)超聲波清洗器;
g)取樣設(shè)備,可以是金剛石切割機(jī)、鑼機(jī)等應(yīng)力較小的切割設(shè)備;
h)離子研磨儀;
i)低溫磁控離子濺射儀:靶材需為金或者鉑,不可使用碳靶。
A.3樣品
樣品應(yīng)為已完成表面處理的印制板成品。
A.4程序
顯微剖切的步驟如下:
a)使用取樣設(shè)備從印制板上截取需要剖切的試樣,并在試樣上標(biāo)注清楚需要研磨的截面位置;
b)對(duì)于OSP表面處理的樣品,截取下來的試樣應(yīng)使用低溫磁控離子濺射儀在需要測試的焊盤表面噴濺
一層金/鉑層(厚度至少10nm以上),用以區(qū)分OSP層和后續(xù)的固封環(huán)氧層。其他表面處理的樣品不
需要噴濺金/鉑層;
c)使用灌封材料將試樣固封在內(nèi)部,經(jīng)過一定的時(shí)長(具體時(shí)間按灌封材料供應(yīng)商提供的最佳條件進(jìn)
行),使灌封材料充分固化變硬;
d)將固封后的試樣在研磨機(jī)上由粗砂紙到細(xì)砂紙逐步研磨至要觀察的截面位置;
e)細(xì)磨后的切片在拋光布上進(jìn)行拋光,去除表面的研磨劃痕;
f)在超聲清洗器中對(duì)拋光后的金相切片進(jìn)行超聲清洗,為在顯微鏡下觀察提供潔凈的觀察截面;
g)將切片截面置于離子研磨倉內(nèi),待真空度達(dá)到后,開啟離子源(氬氣)對(duì)截面進(jìn)行離子拋光。離子
拋光參數(shù)應(yīng)根據(jù)設(shè)備特點(diǎn)進(jìn)行設(shè)定,確保所觀察截面表面處理層不存在機(jī)械研磨導(dǎo)致的延展。
11
T/CSTMXXXXX—2022
附錄B
(資料性)
起草單位和主要起草人
本文件起草單位:工業(yè)和信息化部電子第五研究所,XXXX
本文件主要起草人:XXX
12
T/CSTMXXXXX—2022
參考文獻(xiàn)
[1]ISOXXXXXXXX
[2]GB/TXXXXXXXXXX
[3]XXXXX
_________________________________
13
T/CSTMXXXXX—2022
目次
前言...............................................................................2
引言...............................................................................3
1范圍...............................................................................4
2規(guī)范性引用文件.....................................................................4
3術(shù)語和定義.........................................................................4
4一般要求...........................................................................5
5厚度...............................................................................5
6粗糙度.............................................................................6
7可焊性.............................................................................7
8特性阻抗...........................................................................8
9插入損耗...........................................................................9
附錄A(規(guī)范性)顯微剖切制作方法..................................................11
附錄B(資料性)起草單位和主要起草人..............................................12
1
T/CSTMXXXXX—2022
5G通信用印制板表面處理材料測試方法
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指出所有可能的安全問題。使用者有責(zé)任采取適當(dāng)?shù)陌踩徒】荡胧?,并保證符合國家有關(guān)法規(guī)規(guī)定的
條件。
1范圍
本文件規(guī)定了5G通信用印制板表面處理的厚度、粗糙度、可焊性、特性阻抗和插入損耗的測試方
法。
本文件適用于5G通信用印制板表面處理,主要包括:OSP、沉錫、沉銀、化學(xué)鎳金、化學(xué)鎳鈀金、
電鍍鎳金、噴錫等,其他行業(yè)印制板用表面處理可參考使用。
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