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文檔簡介
1+X集成電路理論知識模擬題與答案
1、重力式分選機的測試環(huán)節(jié)是在()進(jìn)行。
A、主轉(zhuǎn)塔中
B、旋轉(zhuǎn)臺上
C、測試軌道中
D、水平面上
答案:C
2、()分選工序依靠主轉(zhuǎn)盤執(zhí)行,上料后主轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn),每轉(zhuǎn)動一格,都
會將產(chǎn)品送到各個工位,每個工位對應(yīng)不同的作用,包括上料位、光檢位、旋
轉(zhuǎn)糾姿位、功能測試位等,從而實現(xiàn)芯片的測試與分選。
A、重力式分選機
B、平移式分選機
C、轉(zhuǎn)塔式分選機
D、真空螺旋分選機
答案:C
3、晶圓檢測工藝中,在進(jìn)行打點工序以后,需要進(jìn)行的工序是()o
A、真空入庫
B、扎針測試
C、打點
D、外觀檢查
答案:D
導(dǎo)片一上片一加溫、扎針調(diào)試一扎針測試一打點一烘烤一外檢一真空入庫
4、扎針測試時,測試機將測試結(jié)果通過()傳輸給探針臺。
A、USB
B、GPIB
C、HDMI
D、VGA
答案:B
扎針測試時,測試機將測試結(jié)果通過GPIB傳輸給探針臺。
5、轉(zhuǎn)塔式分選機設(shè)備的上料步驟正確的是:()。
A、待測芯片上料一芯片篩選一芯片吸取
B、芯片篩選一待測芯片上料一芯片吸取
C、待測芯片上料一芯片吸取一芯片篩選
D、芯片篩選一芯片吸取一待測芯片上料
答案:A
轉(zhuǎn)塔式分選機設(shè)備的上料步驟為:待測芯片上料f芯片篩選一芯片吸取。
6、單晶爐的開機順序正確的是()。
A、電源開關(guān)一加熱器開關(guān)一片煙開關(guān)一籽晶開關(guān)
B、電源開關(guān)一生煙開關(guān)~加熱器開關(guān)一籽晶開關(guān)
C、電源開關(guān)一籽晶開關(guān)一生期開關(guān)一加熱器開關(guān)
D、籽晶開關(guān)一生期開關(guān)一加熱器開關(guān)一電源開關(guān)
答案:A
單晶爐的開機順序為:電源開關(guān)一加熱器開關(guān)一生期開關(guān)一籽晶開關(guān)。
7、用四氯化硅氫還原法進(jìn)行硅提純時,通過()可以得到高純度的四氯化
硅。
A、高溫還原爐
B、精儲塔
C、多晶沉積設(shè)備
D、單晶爐
答案:B
用四氯化硅氫還原法進(jìn)行硅提純時,通常使用精儲法,精微法是在精儲塔
中實現(xiàn)的。
8、單晶爐中籽晶軸的作用是()。
A、保證爐內(nèi)溫度均勻分布及散熱
B、帶動籽晶上下移動和旋轉(zhuǎn)
C、起支撐作用
D、提供一個原子重新排列標(biāo)準(zhǔn)
答案:B
籽晶軸的作用是帶動籽晶上下移動和旋轉(zhuǎn);籽晶的作用是提供一個原子重
新排列的標(biāo)準(zhǔn);用堀外的高純石墨用埸托起支撐作用;爐腔可以保證爐內(nèi)溫度
均勻分布及散熱。
9、晶圓檢測工藝的測試車間符合()潔凈區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。
A、10萬級
B、萬級
C、千級
D、100萬級
答案:B
晶圓檢測工藝對環(huán)境的要求:測試車間符合10萬級潔凈區(qū)標(biāo)準(zhǔn),溫度常年
保持在22±3℃,濕度保持在45±15吼
10、進(jìn)行料盤包裝時,一個內(nèi)盒中通常裝有()袋真空包裝完的料盤。
A、1
B、2
C、3
D、4
答案:A
進(jìn)行料盤包裝時,一個內(nèi)盒中通常裝有1袋真空包裝完的料盤。
11、利用平移式分選設(shè)備進(jìn)行芯片分選時,分選環(huán)節(jié)的流程是。。
A、分選f吸嘴吸取芯片一收料
B、吸嘴吸取芯片一分選一收料
C、吸嘴吸取芯片一收料一分選
D、分選一收料一吸嘴吸取芯片
答案:B
12、在光刻過程中,完成涂膠后需要進(jìn)行質(zhì)量評估,以下不屬于涂膠質(zhì)量
評估時,光刻膠覆蓋硅片的質(zhì)量缺陷的是()。
A、光刻膠脫落
B、光刻膠中有針孔
C、光刻膠的回濺
D、光刻膠起皮
答案:A
13、當(dāng)芯片移動到氣軌()時,旋轉(zhuǎn)臺吸嘴吸取芯片。
A、首端
B、中端
C-I―;山
、木歹而
D、任意位置
答案:C
當(dāng)芯片移動到氣軌末端時,旋轉(zhuǎn)臺吸嘴的升降電機到達(dá)芯片正上方,吸嘴
產(chǎn)生一定負(fù)壓將該芯片吸起,升降電機上移并后退進(jìn)入旋轉(zhuǎn)臺,上料完成。
14、引線鍵合最常使用的原材料是()o
A、金線
B、銀線
C、銅線
D、鋁線
答案:A
引線鍵合利用高純度的金線、銅線或鋁線把框架的引線與芯片電極通過焊
接的方法連接起來。通常使用金線,其焊接簡單、良率高;目前還有采用鋁線
和銅線工藝的,優(yōu)點是成本低,缺點是工藝難度加大,良率降低。
15、封裝工藝中,裝片機上料區(qū)上料時,是將。的引線框架傳送到進(jìn)料
槽。
A、頂層
B、中間位置
C、底層
D、任意位置
答案:C
16、晶圓烘烤時長一般為()分鐘。
A、1
B、5
C、10
D、20
答案:B
晶圓烘烤長一般為5分鐘。烘烤時間太長會導(dǎo)致墨點開裂,時間太短可能
會使墨點不足以抵抗后續(xù)封裝工藝中的液體沖刷,導(dǎo)致墨點消失。
17、一個花籃最多裝()片晶圓。
A、15
B、20
C、25
D、30
答案:C
一個花籃最多裝25片晶圓。
18、塑封一般采用()為塑封料。
A、熱塑性塑料
B、熱固性塑料
C、人工催化塑料
D、芳煌類塑料
E、結(jié)晶性塑料
答案:B
略
19、主要使用萬用表、毫伏表、示波器、兆歐表、信號發(fā)生器等測試設(shè)備
主要用來測試()。
A、電子成品的幾何性能
B、電子產(chǎn)品的物理性能
C、電子產(chǎn)品的功能性能
D、以上都是
答案:B
20、根據(jù)以下隨件單信息可知,從待檢查品貨架上找到的編號為()的中轉(zhuǎn)
箱。
A、7LK8
B、57493
C、1586
D、1568
答案:D
由隨件單信息可知,該批次的中轉(zhuǎn)箱號為1568。
21、風(fēng)淋的作用是()。
A、清除進(jìn)入車間的人或物體表面的灰塵
B、檢測進(jìn)入車間人員的體重與生態(tài)狀況
C、降低人體衣物表面的溫度
D、使衣物保持潔凈、平整
答案:A
風(fēng)淋的操作是針對芯片處于裸露狀態(tài)工藝的車間設(shè)計的,其目的是為了清
除進(jìn)入車間的人或物體表面的灰塵,保證車間內(nèi)的無塵環(huán)境不被破壞。
22、裝片機上料區(qū)上料時,是將()的引線框架傳送到進(jìn)料槽。
A、最頂層
B、中間層
C、最底層
D、任意位置
答案:C
略
23、晶圓扎針測試在測到一定數(shù)量時,需要檢查扎針情況。若發(fā)現(xiàn)針痕有
異常,需如何處理。。
A、重新輸入晶圓信息
B、重新設(shè)置扎針深度或扎針位置
C、繼續(xù)扎針測試
D、記錄測試結(jié)果
答案:B
24、用編帶機進(jìn)行編帶前預(yù)留空載帶的原因是()。
A、比較美觀
B、防止芯片散落
C、確認(rèn)編帶機正常運行
D、節(jié)省人工檢查時間
答案:B
空余載帶預(yù)留設(shè)置是為了防止卷盤上編帶的兩端在操作過程中可能會出現(xiàn)
封口分離的情況,導(dǎo)致端口的芯片散落。
25、芯片外觀檢查前為了防止靜電擊穿損壞,工作人員必須佩戴()。
A、絕緣手套
B、絕緣服
C、防靜電護(hù)腕
D、無紡布手套
答案:C
26、重力分選機自動裝料步驟中將待測料管放在篩選機的入料區(qū)內(nèi),料管
隨傳送帶上升到()。
A、入料區(qū)
B、廢料區(qū)
C、激光檢測區(qū)
D、顯示區(qū)
答案:C
27、重力式分選設(shè)備進(jìn)行芯片并行測試時,在測試軌道完成芯片測試后,
下一環(huán)節(jié)需要進(jìn)行。操作。
A、上料
B、分選
C、外觀檢查
D、真空入庫
答案:B
28、單晶硅生長完成后,需要進(jìn)行質(zhì)量檢驗,其中熱探針法可以測量單晶
硅的()參數(shù)。
A、電阻率
B、直徑
C、少數(shù)載流子壽命
D、導(dǎo)電類型
答案:D
熱探針法用來測量單晶硅錠的導(dǎo)電類型;四探針技術(shù)用來測量單晶硅錠的
電阻率;激光掃描法用來測量硅錠的直徑;光電導(dǎo)衰法用來測量少數(shù)載流子的
壽命。
29、重力式分選機進(jìn)行自動上料時,進(jìn)入上料架,上料夾具準(zhǔn)備夾取的料
管中的芯片位置()要求:()。
A、有;芯片印章在上面
B、有;芯片印章在下面
C、無;需要等待料管篩選
D、無;進(jìn)入上料的芯片位置沒有要求
答案:A
重力式分選機進(jìn)行上料時,進(jìn)入上料架,上料夾具準(zhǔn)備夾取的料管中的芯
片位置要求芯片印章朝上,便于后期操作。
30、重力分選機手動裝料要操作人員取下待測料管一端的(),并將料管
整齊地擺放在操作臺上。
A、擋板
B、螺母
C、料盤
D、塞釘
答案:D
31、編帶外觀檢查的步驟正確的是()。
A、檢查外觀f歸納放置一固定卷盤一編帶回料一編帶固定
B、歸納放置一固定卷盤一檢查外觀一編帶回料一編帶固定
C、固定卷盤一歸納放置一檢查外觀一編帶回料一編帶固定
D、編帶固定一固定卷盤一歸納放置一檢查外觀一編帶回料
答案:B
編帶外觀檢查的步驟:歸納放置一固定卷盤一檢查外觀f編帶回料一編帶
固定。
32、平移式分選機設(shè)備的上料步驟正確的是:()。
A、待測芯片上料一吸嘴轉(zhuǎn)移芯片一空料盤替換
B、吸嘴轉(zhuǎn)移芯片一待測芯片上料一空料盤替換
C、空料盤替換一待測芯片上料一吸嘴轉(zhuǎn)移芯片
D、吸嘴轉(zhuǎn)移芯片一空料盤替換一待測芯片上料
答案:A
平移式分選機設(shè)備的上料步驟為:待測芯片上料一吸嘴轉(zhuǎn)移芯片一空料盤
替換。
33、重力式分選機的測試環(huán)節(jié)是在()中進(jìn)行。
A、主轉(zhuǎn)塔
B、旋轉(zhuǎn)臺
C、測試軌道
D、水平面上
答案:C
重力式分選機的測試環(huán)節(jié)是在測試軌道中進(jìn)行的。主轉(zhuǎn)塔和旋轉(zhuǎn)臺是轉(zhuǎn)塔
式分選機的設(shè)備,平移式分選機是在水平面上完成芯片的測試、分選。
34、重力式分選機進(jìn)行自動上料篩選,當(dāng)檢測到傳送帶上的料管放置不符
合要求時,下一步對料管的操作是()。
A、拔出塞釘
B、進(jìn)入空管槽
C、進(jìn)入上料槽
D、放回上料區(qū)
答案:D
激光檢測到不符合要求的料管會重新放回上料區(qū),等待下次篩選。
35、料盤外觀檢查前期,將料盤從中轉(zhuǎn)箱中取出后,將測試合格的料盤放
在()。
A、己檢品區(qū)
B、待檢品區(qū)
C、不合格品區(qū)
D、工作臺任意位置
答案:B
料盤外觀檢查前期,將料盤從中轉(zhuǎn)箱中取出后,根據(jù)隨件單核對合格品、
不合格品的數(shù)量一致后,將合格品和隨件單放在工作臺的右邊,其中不合格品
放在工作臺下方的不合格品箱中,合格品放在待檢區(qū),并且不能超過黃線,這
是為了防止檢查時進(jìn)行混合。
36、以全自動探針臺為例,上片過程中,當(dāng)承重臺下降到指定位置時,()。
A、紅色指示燈亮
B、紅色指示燈滅
C、綠色指示燈亮
D、綠色指示燈滅
答案:B
以全自動探針臺為例,承重臺前的兩個按鈕指示燈:綠色表示上升,紅色
表示下降。承重臺下降到指定位置后,下降指示燈滅,即紅色指示燈滅。
37、芯片檢測工作流程()。
A、確定產(chǎn)品等級、研讀Spe確定機械手、確定測試機、設(shè)計測試DUT、
方案編程調(diào)試、批量驗證
B、確定產(chǎn)品等級、研讀Spe確定機械手、設(shè)計測試DUT、確定測試機、
方案編程調(diào)試、批量驗證
C、確定產(chǎn)品等級、方案編程調(diào)試、研讀Spe確定測試機、確定機械手、
設(shè)計測試DUT、批量驗證
D、確定產(chǎn)品等級、研讀Spe確定測試機、確定機械手、設(shè)計測試DUT、
方案編程調(diào)試、批量驗證
答案:D
38、芯片檢測工藝中,整批芯片完成外觀檢查后,需要進(jìn)入。環(huán)節(jié)。
A、編帶
B、上料
C、測試
D、真空包裝
答案:D
39、單晶硅生長完成后,需要進(jìn)行質(zhì)量檢驗,其中四探針法可以測量單晶
硅的()參數(shù)。
A、電阻率
B、直徑
C、少數(shù)載流子壽命
D、導(dǎo)電類型
答案:A
40、下面選項中不屬于激光打字的優(yōu)點的是()o
A、精度高
B、字跡清晰
C、塑封體上易反復(fù)進(jìn)行
D、不易擦除
答案:C
略
41、在外檢時,發(fā)現(xiàn)晶圓周邊有指紋等印記時,用()進(jìn)行剔除。
A、打點器
B、油墨筆
C、鉛筆
D、鋼筆
答案:A
在外檢時,發(fā)現(xiàn)晶圓周邊有指紋等印記時,用油墨筆進(jìn)行剔除。
42、在AD軟件中,當(dāng)項目被編譯后,任何錯誤都將顯示在()o
A、Message面板
B、Debug面板
C、Navigator面板
D、Project面板
答案:A
43、{平移式分選機進(jìn)行芯片檢測時,芯片在該區(qū)域的操作完成后會進(jìn)入()
區(qū)域。}
A、上料
B、待測
C、測試
D、分選
答案:D
該圖紅色所框區(qū)域有L字型的測壓手臂,為平移式分選機設(shè)備芯片檢測工
藝的測試區(qū)域。測試完成后,會根據(jù)測試結(jié)果進(jìn)行分選。
44、對晶向為6英寸N型半導(dǎo)體材料來說,()是作為放置第一步
的光刻圖形的掩膜版的依據(jù)。
A、主平面
B、次平面
C、兩個平面均可
D、定位槽
答案:A
晶向為6英寸N型半導(dǎo)體材料在定位時有兩個基準(zhǔn)面,主平面主要
用于硅片上芯片圖形的定位和機械加工的定位,即作為放置第一步的光刻圖形
的掩膜版的依據(jù)。
45、()是指按照一定的方式將雜質(zhì)摻入到半導(dǎo)體等材料中,改變材料電
學(xué)性質(zhì),達(dá)到形成半導(dǎo)體器件的目的。
A、光刻
B、摻雜
C、刻蝕
D、金屬化
答案:B
摻雜是指按照一定的方式將雜質(zhì)摻入到半導(dǎo)體等材料中,改變材料電學(xué)性
質(zhì),達(dá)到形成半導(dǎo)體器件的目的。
46、封裝工藝中,在晶圓切割后的光檢中環(huán)節(jié)發(fā)現(xiàn)的不良廢品,需要做()
處理。
A、剔除
B、修復(fù)
C、標(biāo)記
D、降檔
答案:A
47、“對刀”操作時,點擊顯示屏上主菜單的()按鈕,使承載盤真空從
關(guān)閉狀態(tài)轉(zhuǎn)為開啟狀態(tài)。
A、9角度調(diào)整
B、開始
C、WorkSet
D、ManualAlign
答案:C
點擊顯示屏上主菜單的“WorkSet"(設(shè)置)按鈕,使承載盤真空從關(guān)閉
狀態(tài)轉(zhuǎn)為開啟狀態(tài)。點擊顯示屏上的“ManualAlign”(手動對位)按鈕,界
面跳轉(zhuǎn)到“切割道調(diào)整界面”。點擊“
48、在全自動探針臺上進(jìn)行扎針調(diào)試時,若發(fā)現(xiàn)探針整體偏移,則對應(yīng)的
處理方式是:()。
A、利用搖桿微調(diào)扎針位置
B、相關(guān)技術(shù)人員手動撥針,使探針移動至相應(yīng)位置
C、更換探針測試卡D、調(diào)節(jié)扎針深度
答案:A
扎針調(diào)試時通過對焦圖檢查到針印整體偏移,需要用搖桿微調(diào)整體的扎針
位置。
49、清潔車間內(nèi)的墻面時要求使用()進(jìn)行清潔。
A、麻布
B、不掉屑餐巾紙
C、無塵布
D、棉
答案:C
一周擦一次墻面,清潔車間內(nèi)的墻時應(yīng)使用無塵布。無塵布由100%聚酯纖
維雙面編織而成,表面柔軟,易于擦拭敏感表面,摩擦不脫纖維,具有良好的
吸水性及清潔效率。
50、若遇到需要編帶的芯片,在測試完成后的操作是()。
A、測試
B、上料
C、編帶
D、外觀檢查
答案:C
轉(zhuǎn)塔式分選機的操作步驟一般為:上料一測試一編帶一外觀檢查一真空包
裝。
51、晶圓進(jìn)行扎針測試時,測試機將測試結(jié)果通過()傳輸給探針臺。
A、USD
B、GPIB
C、HDMI
D、VGA
答案:B
52、把塑封后的芯片放到溫度為175±5℃的高溫烘箱內(nèi)的作用是()o
A、消除內(nèi)部應(yīng)力,保護(hù)芯片
B、測試產(chǎn)品耐高溫效果
C、改變塑封外形
D、剔除塑封虛封的產(chǎn)品
答案:A
注塑之后為了保護(hù)芯片,消除內(nèi)部的應(yīng)力,我們還需要把塑封后的芯片放
到溫度為175±5℃的高溫烘箱內(nèi)進(jìn)行高溫固化,一般需要8小時的固化時間。
53、當(dāng)測壓手臂未吸起芯片,經(jīng)檢查有芯片在入料梭上后,需按“()”鍵
繼續(xù)吸取一次。
A、SKIP
B、RESTART
C、RETRY
D、STOP
答案:C
當(dāng)測壓手臂未吸起芯片,經(jīng)檢查有芯片在入料梭上后,需按“RETRY”鍵繼
續(xù)吸取一次。
54、完善的精儲技術(shù)可將雜質(zhì)總量降低到()量級。
A、10-210-5
B、10-5^10-7
C、10-7^10-10
D、10-17^10-20
答案:C
提純四氯化硅通常使用精儲法。完善的精儲技術(shù)可將雜質(zhì)總量降低到10-
7~10-10量級。
55、低壓化學(xué)氣相淀積的英文縮寫是。。
A、APCVD
B、PECVD
C、LPCVD
D、HDPCVD
答案:C
APCVD是常壓化學(xué)氣相淀積;PECVD是等離子體增強型化學(xué)氣相淀積;
LPCVD是低壓化學(xué)氣相淀積;HDPCVD是高密度等離子體化學(xué)氣相淀積。
56、在使用JTink驅(qū)動連接單片機是需在魔法棒按鈕的()中設(shè)置()o
A、Debug;地址范圍
B、Debug;工作頻率
C、Output;地址范圍
D、Output;工作頻率
答案:A
57、通常被用于深紫外光刻膠的準(zhǔn)分子激光器的光源材料是()。
A、KrF
B、F2
C、ArF
D、XeF
答案:A
通常被用于深紫外光刻膠的準(zhǔn)分子激光器的光源材料是氟化氟KrF。
58、SOP封裝的芯片一般采用()形式進(jìn)行包裝。
A、卷盤
B、編帶
C、料管
D、料盤
答案:B
SOP封裝因其體積小等特點,一般采用編帶包裝形式。
59、重力式分選機進(jìn)行自動上料篩選,當(dāng)檢測到傳送帶上的料管放置不符
合要求時,下一步對料管的操作是()。
A、拔出塞釘
B、進(jìn)入空管槽
C、進(jìn)入上料槽
D、放回上料區(qū)
答案:D
激光檢測到不符合要求的料管會重新放回上料區(qū),等待下次篩選。
60、平移式分選機完成測試后,會進(jìn)入()環(huán)節(jié)。
A、上料
B^分選
C、外觀檢查
D、真空包裝
答案:B
平移式分選機的操作步驟一般為:上料一測試一分選一外觀檢查一真空包
裝。
61、進(jìn)行芯片檢測工藝的芯片外觀檢查時,將工作臺整理干凈后,根據(jù)物
流提供的。到待檢查品貨架上領(lǐng)取待外檢的芯片。
A、芯片測試隨件單
B、晶圓測試隨件單
C、中轉(zhuǎn)箱號
D、芯片名稱
答案:C
62、在半自動探針臺進(jìn)行扎針調(diào)試時,當(dāng)針尖懸于待測點上方,先調(diào)節(jié)()
旋鈕。
A、X軸
B、Y軸
C、Z軸
D、X-Y-Z微調(diào)
答案:B
在半自動探針臺上進(jìn)行扎針調(diào)試時,當(dāng)針尖懸于待測點上方,先用Y軸旋
鈕將探針退后少許,再用Z軸旋鈕下針,最后用X軸旋鈕。
63、管裝包裝時,將真空包裝的編帶盤放入內(nèi)盒、合上蓋子后,需要在內(nèi)
盒的封口邊()處貼上“合格”標(biāo)簽。
A、左側(cè)
B、右側(cè)
C、中央
D、任意位置
答案:C
管裝包裝時,將真空包裝的編帶盤放入內(nèi)盒、合上蓋子后,需要在內(nèi)盒的
封口邊中央處貼上“合格”標(biāo)簽。
64、解決鋁尖刺的方法有。。
A、在合金化的鋁中適當(dāng)?shù)靥砑鱼~
B、采用三層夾心結(jié)構(gòu)
C、在合金化的鋁中適當(dāng)?shù)靥砑庸?/p>
D、采用“竹節(jié)狀”結(jié)構(gòu)
答案:C
解決鋁尖刺的方法有在合金化的鋁中適當(dāng)?shù)靥砑庸琛?/p>
65、下列有關(guān)平移式分選機描述錯誤的是()。
A、平移式分選機是采用測壓手臂下壓的壓測方式進(jìn)行的
B、通過入料梭移動將芯片從待測區(qū)“中轉(zhuǎn)站”轉(zhuǎn)移至測試區(qū),等待測壓
手臂吸取芯片進(jìn)行測試。
C、收料時,為了確保料盤能平穩(wěn)地放入,需要將收料架上的料盤向下壓
緊
D、測試機通過GPIB將測試結(jié)果反饋給分選機,在分選機的顯示界面顯示
測試結(jié)果并記錄
答案:C
66、一般來說,()封裝形式會采用平移式分選機進(jìn)行測試。
A、LGA/TO
B、LGA/SOP
C、DIP/SOP
D、QFP/QFN
答案:D
一般來說,LGA/TO會采用轉(zhuǎn)塔式分選機進(jìn)行測試,DIP/SOP會采用重力式
分選機進(jìn)行測試,QFP/QFN會采用平移式分選機進(jìn)行測試。
67、關(guān)于全自動探針臺扎針調(diào)試的步驟,下列說法正確的是:()o
A、輸入晶圓信息一調(diào)出檢測MAP圖一自動對焦一扎針調(diào)試
B、輸入晶圓信息一自動對焦一調(diào)出檢測MAP圖一扎針調(diào)試
C、輸入晶圓信息一自動對焦一扎針調(diào)試一調(diào)出檢測MAP圖
D、輸入晶圓信息一調(diào)出檢測MAP圖一扎針調(diào)試一自動對焦
答案:B
全自動探針臺扎針調(diào)試步驟:輸入晶圓信息一自動對焦一調(diào)出檢測MAP圖
一扎針調(diào)試。
68、有關(guān)開路測試不正確的是()。
A、管腳正常連接:pinl和地之間會存在一個壓差,其大小為pinl與地
之間的ESD二極管的導(dǎo)通壓降,大約在0.6~0.7V左右。如果改變電壓方向,VI
電壓的測量結(jié)果大約為-0.6~-0.7V左右
B、管腳出現(xiàn)開路:ESD二極管被斷開,pinl和地之間的電阻會無限大,
在管腳施加負(fù)電流時,VI的電壓會無限?。ㄘ?fù)壓)。在實際情況中,電壓會受
測試源本身存在的鉗位電壓,或者受電壓量程擋位限制達(dá)到一個極限值
C、管腳出現(xiàn)短路:ESD二極管被短路,pinl和地之間的電阻接近為0歐
姆,此時不管施加多少電流,VI都接近于0V
D、測量Pinl和VDD之間的通斷情況,則可以將VDD通過測試源加到0V,
利用12電流和二極管D2的正向?qū)▔航颠M(jìn)行測量和判斷。此時12的電流方向
和II的電流方向相同,此時VI的電壓為正電壓
答案:D
69、芯片封裝工藝中,下列選項中的工序均屬于前段工藝的是()。
A、晶圓切割、引線鍵合、塑封、激光打字
B、晶圓貼膜、芯片粘接、激光打字、去飛邊
C、晶圓貼膜、晶圓切割、芯片粘接、引線鍵合
D、晶圓切割、芯片粘接、塑封、去飛邊
答案:C
封裝工藝流程中前段工藝包括晶圓貼膜、晶圓切割、芯片粘接以及引線鍵
合,后段工藝則包括塑封、激光打字、去飛邊、電鍍以及切筋成型。
70、重力式分選機進(jìn)行芯片檢測時,上料的第一步是()。
A、設(shè)置參數(shù)
B、吸取芯片
C、裝料
D、上料夾具夾持
答案:C
裝料是上料的第一步。裝料是將待測料管放入上料槽內(nèi)。裝料完成后由上
料夾具夾持上料。
71、通常一個花籃中最多裝()片晶圓。
A、15
B、20
C、25
D、30
答案:C
72、轉(zhuǎn)塔式芯片檢測前需要進(jìn)行參數(shù)設(shè)置,其中設(shè)置動作延時的時間是為
了()。
A、確保所有環(huán)節(jié)的測試能夠完整進(jìn)行
B、配合并行測試的速率
C、防止卷盤上編帶兩端在操作過程中出現(xiàn)封口分離的情況
D、準(zhǔn)備對應(yīng)的測試卡
答案:A
轉(zhuǎn)塔式分選機設(shè)備在芯片檢測前需要進(jìn)行參數(shù)設(shè)置,其中設(shè)置動作延時的
時間是為了確保所有環(huán)節(jié)的測試能夠完整進(jìn)行。
73、使用重力式分選機進(jìn)行模塊電路的串行測試時,假設(shè)A,B軌道測試合
格,C軌道測試不合格,芯片移動的路線是()O
A、A測試軌道一分選梭1-B測試軌道f分選梭2-C測試軌道一分選梭
3~D合格軌道~分選梭4一不良品料管;
B、A測試軌道一分選梭1-B測試軌道~分選梭2-C不合格軌道一分選
梭3-D不合格軌道一分選梭4f不良品料管;
C、A測試軌道一分選梭1-B測試軌道一分選梭2-C不合格軌道f分選
梭3-D不合格軌道一分選梭4f不良品料管
D、A測試軌道一分選梭1-B測試軌道f分選梭2-C測試軌道f分選梭
3->D不合格軌道一分選梭4f不良品料管
答案:D
74、墨點打點的位置是在()的中央。
A、PAD點
B、晶粒
C、晶圓
D、切割通道
答案:B
打點時,合格的墨點必須控制在管芯面積的1/4、1/3大小,且墨點不能覆
蓋PAD點。管芯是指在集成電路中制造集成塊所用的晶粒。
75、在晶圓盒內(nèi)壁放一圈海綿的目的是()。
A、防止晶圓包裝盒和晶圓直接接觸
B、防止晶圓之間的接觸
C、防止晶圓在搬運過程中發(fā)生移動
D、美觀
答案:A
在晶圓盒內(nèi)壁放一圈海綿是為了防止晶圓盒和晶圓接觸。
76、主控有較多的選擇空間,這里主要考慮檢測方案是()o
A、是否需要A/D轉(zhuǎn)換
B、工作頻率高低
C、能耗大小
D、輸入、輸出數(shù)量
答案:A
77、使用重力式分選機設(shè)備進(jìn)行芯片檢測,當(dāng)遇到料管卡料時,設(shè)備會()。
A、繼續(xù)操作
B、會自動處理
C、停止運行并報警
D、只進(jìn)行報警
答案:C
重力式分選機進(jìn)行芯片檢測時,如果遇到料管滿管或者卡料時,會出現(xiàn)設(shè)
備自動停測并報警提示。
78、晶圓切割的作用是。。
A、對晶圓邊緣進(jìn)行修正
B、將完整的晶圓分割成單獨的晶粒
C、在完整的晶圓上劃出切割道的痕跡,方便后續(xù)晶粒的分離
D、切除電氣性能不良的晶粒
答案:B
晶圓切割將整片晶圓切割成一顆顆獨立的晶粒,用于后續(xù)集成電路的制造。
79、{以串行測試為例,假設(shè)A,B軌道測試合格,C軌道測試不合格,芯片
移動的路線是()。}
A、A測試軌道一分選梭1-B測試軌道一分選梭2fC測試軌道f分選梭
3->D合格軌道分選梭4f不良品料管;
B、A測試軌道一分選梭1-B測試軌道一分選梭2-C不合格軌道一分選
梭3-D不合格軌道一分選梭4f不良品料管;
C、A測試軌道一分選梭1-B測試軌道一分選梭2-C不合格軌道一分選
梭3-D不合格軌道一分選梭4f不良品料管
D、A測試軌道分選梭1-B測試軌道一分選梭2-C測試軌道一分選梭
3-D不合格軌道f分選梭4f不良品料管
答案:D
重力式分選機進(jìn)行串行測試時,A,B軌道測試合格,C軌道測試不合格,芯
片移動的路線是:分選梭1將A軌道測試合格的芯片送入B測試軌道,B軌道
測試合格后,分選梭2將芯片送人C測試軌道,C軌道測試不合格后,分選梭3
將芯片送入D不合格軌道,分選梭4將芯片放入不良品料管中。
80、金屬鋁在集成電路中通常用于。。
A、填充塞
B、金屬連線
C、阻擋層
D、焊接層
答案:A
金屬鴇在集成電路中通常用于鴇填充塞。
81、LK32Tl02單片機內(nèi)部有一個()ADC。
A、8位
B、12位
C、18位
D、24位
答案:B
82、避光測試是通過顯微鏡觀察到待測點位置、完成扎針位置的調(diào)試后,
用()遮擋住晶圓四周,完全避光后再進(jìn)行測試。
A、氣泡膜
B、不透明袋
C、黑布
D、白布
答案:C
83、裝有晶圓的花籃需要放在氮氣柜中儲存的主要目的是。。
A、防氧化
B、合理利用生產(chǎn)車間的空間
C、作為生產(chǎn)工藝的中轉(zhuǎn)站
D、防塵
答案:A
84、晶圓檢測工藝中,進(jìn)行晶圓烘烤時,溫度一般設(shè)置在?!鉉。
A、110
B、120
C、130
D、150
答案:B
85、下列選項中不屬于“5s”管理要求的是()o
A、培訓(xùn)
B、清掃
C、整理
D、素養(yǎng)
答案:A
〃5S管理起源于日本,是指在生產(chǎn)現(xiàn)場對人員、機器、材料、方法等生產(chǎn)
要素進(jìn)行有效管理的一種管理方式。5s即整理(SEIRI)、整頓(SEITON)、
清掃(SEISO)、清潔(SEIKETSU)、素養(yǎng)(SHITSUKE),因為這5個詞日語中
羅馬拼音的第一個字母都是"S",所以簡稱為"5S"。"
86、請根據(jù)下列圖片判斷哪幅圖片是合格針跡?()
A、圖片
B、圖片
C、圖片
D、圖片
答案:A
87、以立式氧化擴散爐為例,以下氧化擴散方式正確的是()。①產(chǎn)品放
置完成后在電腦終端輸入控制片ID。②在電腦終端輸入操作設(shè)備ID、硅片批
號等。③放置硅片盒后,在設(shè)備上確認(rèn)硅片批號等信息后按下確認(rèn)按鈕。④
將一定數(shù)量的硅片盒放在立式氧化擴散爐設(shè)備的loader窗口,確認(rèn)放好后按下
按鈕進(jìn)行操作。⑤等待設(shè)備傳片,傳完片后石英舟上升進(jìn)入爐管。⑥按同樣
的方法將控制片放置在氧化爐窗口。⑦等待工藝完成后,設(shè)備傳片結(jié)束,此時
設(shè)備黃燈閃爍。
A、②④③①⑥⑤⑦
B、②①④③⑥⑤⑦
C、②④⑥③①⑤⑦
D、②⑥⑤④③①⑦
答案:A
88、下列關(guān)于平移式分選機描述錯誤的是()。
A、傳送帶將料架上層的料盤輸送至待測區(qū)料盤放置的指定區(qū)域
B、料盤輸送到待測區(qū)的指定位置后,吸嘴從料盤上真空吸取芯片,然后
轉(zhuǎn)移至“中轉(zhuǎn)站”
C、等待芯片傳輸裝置移動到“中轉(zhuǎn)站”接收芯片并將芯片轉(zhuǎn)移至測試區(qū)
D、當(dāng)待測區(qū)料盤上的芯片全部轉(zhuǎn)移后,需要更換料盤,繼續(xù)進(jìn)行上料
答案:A
89、下列說法錯誤的是()o
A^在cadence軟件界面上,單擊Tools菜單,選擇LibraryManager命
令,出現(xiàn)“庫文件管理器”
B、用戶可以在庫文件里新建單元,但不能在新建的單元下新建視圖
C、選擇Tool選項中的Composer-Schematic選項,表示在單元下建立電
路圖視圖
D、在電路編輯窗口中,利用圖標(biāo)欄可以快速建立、編輯電路圖
答案:B
90、編帶過程中,在進(jìn)行熱封處理后,需要進(jìn)行()環(huán)節(jié)。
A、芯片放入載帶
B、密封
C、編帶收料
D、光檢
答案:C
轉(zhuǎn)塔式分選機進(jìn)行編帶的步驟是:芯片光檢一載帶移動一熱封處理一編帶
收料一清料。
91、在淀積時,反應(yīng)氣體的多少會影響淀積的速率及均勻性,因此需嚴(yán)格
控制氣體流量,通常采用()來實現(xiàn)精確控制。
A、質(zhì)量流量計
B、氣體流量計
C、液體流量計
D、電磁流量計
答案:A
92、下列語句的含義是()。
A、->OUT&=0X00FF
B、->OUT|=0X0F00
C、GPIOB低八位端口,高四位為低,低四位為高
D、GPI0B低八位端口,高四位為高,低四位為低
E、GPIOB高八位端口,高四位為低,低四位為高
F、GPIOB高八位端口,高四位為高,低四位為低
答案:C
93、在扎針測試時,如果遇到需要加溫的晶圓,對晶圓的加溫是()。
A、在扎針調(diào)試之前
B、在扎針調(diào)試之后
C、在扎針調(diào)試過程中
D、在扎針調(diào)試前后都可以
答案:A
94、在原理圖編輯器內(nèi),用鼠標(biāo)左鍵選擇每一個元件,當(dāng)選中一個元件時,
在對話框的右邊的封裝管理編輯框內(nèi)設(shè)計者可以。當(dāng)前選中元件的封裝。
A、添加、刪除
B、添加、刪除、復(fù)制
C、添加、刪除、編輯
D、添加、刪除、復(fù)制、編輯
答案:C
95、激光打標(biāo)文本內(nèi)容和格式設(shè)置好之后,需要()。
A、選擇打標(biāo)文檔
B、點擊保存按鈕
C、點擊開始打標(biāo)按鈕
D、調(diào)整光具位置
答案:B
打標(biāo)文本內(nèi)容編輯好后點擊“保存”即可,然后開始調(diào)整光具位置準(zhǔn)備打
標(biāo)。
96、封裝工藝中,。工序后的合格品進(jìn)入塑封工序。
A、引線鍵合
B、第二道光檢
C、芯片粘接
D、第三道光檢
答案:D
97、扎針測試的步驟是:()。
A、輸入晶圓信息一測試f清零一檢查扎針情況(有異常)一異常情況處
理~繼續(xù)測試一記錄測試結(jié)果
B、輸入晶圓信息一測試一檢查扎針情況(有異常)一異常情況處理一清
零一繼續(xù)測試一記錄測試結(jié)果
C、輸入晶圓信息一檢查扎針情況(無異常)一測試一清零一繼續(xù)測試一
記錄測試結(jié)果
D、輸入晶圓信息一清零一測試一檢查扎針情況(無異常)一繼續(xù)測試一
記錄測試結(jié)果
答案:D
扎針測試時,在界面輸入晶圓信息并進(jìn)行核對,核對信息一致后需要進(jìn)行
清零,清零是為了保證晶圓的零點與檢測MAP圖上的零點位置一致,防止出現(xiàn)
探針未按照設(shè)定運行軌跡進(jìn)行扎針測試的現(xiàn)象。確認(rèn)清零后,點擊開始按鈕進(jìn)
行扎針測試。當(dāng)測至500顆左右時需檢查扎針情況,若無異常則繼續(xù)進(jìn)行測試,
測試完成后記錄測試結(jié)果,若有異常則需要進(jìn)行相應(yīng)處理后再繼續(xù)測試。
98、在AltiumDesigner軟件中完成電路設(shè)計之后,為了驗證所布線的電
路板是符合設(shè)計規(guī)則的,現(xiàn)在設(shè)計者要運行()。
A、BoardLayers&Colors
B、DesignRuleCheck
C、ProjectOutputsforMultivibrator
D、PCBRulesandconstraintsEditor
答案:B
99、封裝工藝中,芯片粘接工序中,完成點銀漿以后進(jìn)入()步驟。
A、框架上料
B、芯片拾取
C、框架收料
D、銀漿固化
答案:B
100、重力式外觀檢查是在()環(huán)節(jié)之前進(jìn)行的。
A、編帶
B、測試
C、分選
D、真空包裝
答案:D
重力式分選機設(shè)備芯片檢測工藝流程:上料一測試一分選一編帶(SOP)一
外觀檢查一真空包裝。
101、模塊電路外觀檢查時
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