CSTM-激光晶體 摻釹氟化鈣激光晶體元件編制說明

《摻釹氟化鈣激光晶體元件》中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所《摻釹氟化鈣激光晶體元件》編制說明工作簡(jiǎn)況，包括任務(wù)來源、主要工作過程、主要參加單位和工作組成員及其所做的工作引子2017年11月4日，全國(guó)人大常委會(huì)發(fā)布修訂版《中華人民共和國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化法》，并于2018年1月1日起實(shí)施。新版標(biāo)準(zhǔn)化法在原有的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、地方標(biāo)準(zhǔn)、企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)體系中增加了團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，賦予了團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)法律地位。國(guó)家鼓勵(lì)學(xué)會(huì)、協(xié)會(huì)、商會(huì)、聯(lián)合會(huì)等社會(huì)團(tuán)體，協(xié)調(diào)相關(guān)市場(chǎng)主體共同制定滿足市場(chǎng)和創(chuàng)新需要的團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)。團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)因?yàn)槠鋪碜允袌?chǎng)需求，具有天然的市場(chǎng)屬性和自下而上的特性，成為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化改革中尤為突出的一大重點(diǎn)與亮點(diǎn)。團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)誕生于市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)和改革新常態(tài)的沃土，盡管目前存在，政府缺乏引導(dǎo)、監(jiān)管滯后等一系列問題，但作為我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)體制改革的方向，其與生俱來的實(shí)用性、市場(chǎng)貼合性，決定了其支撐我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化服務(wù)經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的獨(dú)特使命，必將在促進(jìn)社會(huì)經(jīng)濟(jì)高質(zhì)量發(fā)展中發(fā)揮著引領(lǐng)性、支撐性的作用。國(guó)內(nèi)外發(fā)展概況高功率超快激光是激光科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域最活躍的研究前沿之一，世界上各主要發(fā)達(dá)國(guó)家競(jìng)相大力發(fā)展。當(dāng)前，高功率超快激光技術(shù)正在朝著全固態(tài)、高重復(fù)頻率、高能量轉(zhuǎn)化率等方向發(fā)展，而發(fā)展新型激光晶體材料是關(guān)鍵基礎(chǔ)之一。激光晶體的光譜與激光性能取決于激活離子的種類和基質(zhì)晶體格位結(jié)構(gòu)，每種晶體對(duì)應(yīng)的光譜性能參數(shù)是固定的。因此，稀土離子摻雜的激光晶體普遍存在光譜線寬窄、參數(shù)離散且覆蓋范圍小的局限性。摻Nd激光材料（包括晶體和玻璃）是被最廣泛使用的一類激光介質(zhì)，它們或者具有高儲(chǔ)能、寬光譜特性（如摻Nd玻璃）；或者具有高的熱導(dǎo)率（如Nd:YAG晶體），但兩者不能同時(shí)兼得，這已成為制約超強(qiáng)超快激光大科學(xué)裝置實(shí)現(xiàn)高重復(fù)頻率工作的主要瓶頸之一。因此，發(fā)展高重頻超強(qiáng)激光技術(shù)首先要解決的關(guān)鍵問題是研制出綜合性能優(yōu)異的新激光材料。Nd:CaF2晶體因?yàn)樵诰w尺寸（最大尺寸已超過φ200mm）、熱導(dǎo)率（9.7W/mK）、非線性折射率n2（0.43×10-13esu，小于磷酸鹽玻璃的1/2）等多方面的綜合性能優(yōu)異脫穎而出。我國(guó)的相關(guān)研究機(jī)構(gòu)與國(guó)際同行平行地開展了稀土摻雜堿土氟化物激光晶體的研究工作。中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所和上海光學(xué)精密機(jī)械研究所在國(guó)內(nèi)率先開展了Nd:CaF2激光晶體的研究工作，并取得了重要的研究進(jìn)展：（1）利用自主研發(fā)了熱交換坩堝下降晶體生長(zhǎng)方法（HEB），解決稀土離子摻雜效應(yīng)和大尺寸效應(yīng)引起的晶體生長(zhǎng)界面不穩(wěn)定/不可控的難題，研制出尺寸為Φ200mm×100mm的Nd:CaF2激光晶體，光學(xué)均勻性提高一個(gè)數(shù)量級(jí)，達(dá)到4.3×10-6，目前已達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。（2）實(shí)現(xiàn)百飛秒超快激光和十赫茲重頻啁啾脈沖放大激光輸出，為我國(guó)重頻超強(qiáng)激光大科學(xué)裝置的發(fā)展提供了核心材料支撐。目前，Nd:CaF2晶體作為新的激光增益介質(zhì)被用于重頻超強(qiáng)激光科學(xué)裝置上以及慣性約束核聚變激光驅(qū)動(dòng)器的激光放大上。晶體及元件的質(zhì)量和性能好壞的指標(biāo)將影響著激光技術(shù)的發(fā)展，遺憾的是經(jīng)調(diào)研發(fā)現(xiàn)，國(guó)內(nèi)外未有摻釹氟化鈣激光晶體元件的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，從而導(dǎo)致這一類激光晶體的科研生產(chǎn)和質(zhì)量控制不能滿足市場(chǎng)需要，因此急需制定相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)。通過本標(biāo)準(zhǔn)的制定，規(guī)范摻釹氟化鈣激光晶體元件相關(guān)的術(shù)語、定義以及符號(hào)，規(guī)定和統(tǒng)一了產(chǎn)品的分類方法，物理性能指標(biāo)，加工技術(shù)質(zhì)量指標(biāo)，以及檢測(cè)檢驗(yàn)方法等，以有利于提高產(chǎn)品的通用性、一致性以及可靠性。在本標(biāo)準(zhǔn)的編寫過程中，除了編制單位以外，中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所、武漢理工大學(xué)、北京光電研究院和中國(guó)物理研究院等分別代表生產(chǎn)和用戶單位均積極參與，提供好的建議和樣品供采集數(shù)據(jù)。任務(wù)來源《激光晶體摻釹氟化鈣激光晶體元件》團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)是由中國(guó)材料與試驗(yàn)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)光電材料及產(chǎn)品領(lǐng)域委員會(huì)（CSTM/FC60）領(lǐng)域委員會(huì)提出以及委托編制。主要工作過程1）2018年9月成立標(biāo)準(zhǔn)編寫組。2）2018年9月到2018年11月對(duì)國(guó)內(nèi)外運(yùn)行的現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)和用戶質(zhì)量進(jìn)行收集和整理。3）2018年11月根據(jù)收集的相關(guān)行業(yè)用戶質(zhì)量要求，召開第二次編制小組討論會(huì)。4）2018年12月到2019年4月初稿形成。2019年4月到9月，內(nèi)部討論搞。2019年9月形成征求意見稿廣泛征求意見。7）2020年5月完成第一輪征求意見稿。4.標(biāo)準(zhǔn)起草單位和主要起草人及其所做的工作本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)材料與試驗(yàn)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)光電材料及產(chǎn)品領(lǐng)域委員會(huì)（CSTM/FC60）領(lǐng)域委員會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)材料與試驗(yàn)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)光電材料及產(chǎn)品領(lǐng)域委員會(huì)（CSTM/FC60）領(lǐng)域委員會(huì)歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所，中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所，蕪湖文暉光電材料有限公司本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張博、王靜雅、劉榮榮、姜大朋、吳慶輝、錢小波、唐飛、蘇良碧、董永軍、孔保國(guó)。二、標(biāo)準(zhǔn)編制原則和主要內(nèi)容（如技術(shù)指標(biāo)、參數(shù)、公式、性能要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則等）的論據(jù)，解決的主要問題編制原則本標(biāo)準(zhǔn)是以現(xiàn)有的相關(guān)激光晶體元件國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)為基礎(chǔ)起草，按照GB/T1.1-2009《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫規(guī)則》和GB/T1.2-2002《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第2部分：標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)范性技術(shù)要素內(nèi)容的確定方法》的規(guī)定要求編制。在編制過程中，嚴(yán)格遵守《中華人民共和國(guó)標(biāo)準(zhǔn)法》等法律法規(guī)，并結(jié)合摻釹氟化鈣晶體元件的材料特性和應(yīng)用特點(diǎn)進(jìn)行總結(jié)和歸納。凡國(guó)家現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)已有規(guī)定的，本標(biāo)準(zhǔn)均與其保持一致；國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)中尚未規(guī)定的，查考國(guó)內(nèi)外有關(guān)法律、法規(guī)的規(guī)定，根據(jù)摻釹氟化鈣晶體元件的特點(diǎn)，確定各項(xiàng)指標(biāo)和指標(biāo)值，力求使本標(biāo)準(zhǔn)有一定的先進(jìn)性、通用性、科學(xué)性和可操作性。本標(biāo)準(zhǔn)適用于摻釹氟化鈣晶體元件的生產(chǎn)檢驗(yàn)測(cè)試，其內(nèi)容符合我國(guó)的實(shí)際情況。2.標(biāo)準(zhǔn)制定的相關(guān)內(nèi)容：1）術(shù)語和定義根據(jù)國(guó)內(nèi)外相關(guān)學(xué)術(shù)論文及該領(lǐng)域的專業(yè)概念給出摻釹氟化鈣晶體、有效通光孔徑、激光損傷閾值、不垂直度、波前畸變、單程損耗的定義。2）技術(shù)要求（決定產(chǎn)品質(zhì)量和使用特性的關(guān)鍵性指標(biāo)），試驗(yàn)方法（包括：試驗(yàn)項(xiàng)目以及進(jìn)行該項(xiàng)試驗(yàn)的方法和原理、試驗(yàn)所用的設(shè)備、儀器、工具、材料、試劑及樣品等）。3）試驗(yàn)條件、試驗(yàn)的準(zhǔn)備工作及試驗(yàn)程序。4) 標(biāo)準(zhǔn)中的檢驗(yàn)規(guī)則，包括：檢驗(yàn)項(xiàng)目、抽取或取樣的方法和數(shù)量。5）標(biāo)準(zhǔn)中的包裝、標(biāo)識(shí)和交貨條件（包裝方式和包裝的技術(shù)要求等）。3.技術(shù)要求及檢驗(yàn)方法確定原則及依據(jù)3.1標(biāo)準(zhǔn)對(duì)各項(xiàng)指標(biāo)的選擇及其要求1）材料物理性能指標(biāo)：摻釹氟化物激光晶體元件在高功率超快激光應(yīng)用中，散射顆粒、單程損耗及波前畸變是確定元件質(zhì)量的最重要的核心參數(shù)。2）元件加工指標(biāo)：尺寸公差、不平行度、不垂直度、倒角、崩邊、崩口及崩裂是影響激光晶體元件的裝配精度；表面疵病、有效通光孔徑以及膜層是影響光收集效率，也是核心系數(shù)。3.2各項(xiàng)指標(biāo)的提出及要求的參考依據(jù)：1)參考國(guó)內(nèi)外多家企業(yè)摻釹氟化鈣激光晶體元件產(chǎn)品品質(zhì)對(duì)外保證；2)參考其他激光晶體元件的國(guó)家和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)；3）應(yīng)用領(lǐng)域?qū)解S氟化鈣激光晶體元件的普遍要求；4)指標(biāo)所選取測(cè)試方法受人為因素影響小，測(cè)試結(jié)果重復(fù)性高；5)指標(biāo)要求是大多數(shù)正規(guī)晶體元件廠商可以達(dá)到的。主要試驗(yàn)（或驗(yàn)證）情況分析1）外觀質(zhì)量外觀產(chǎn)品的顏色確定是參考晶體的生長(zhǎng)制定的，摻釹氟化鈣激光晶體元件為紫色透明，若有顏色差則表明釹離子摻雜不均勻，影響晶體使用性能，故本標(biāo)準(zhǔn)制定其元件為透明無色差。在晶體表面延伸的并可穿透或未穿透整個(gè)晶片厚度的破裂部分則稱為裂紋，紋裂不屬于晶體內(nèi)部質(zhì)量缺陷，但對(duì)晶體的應(yīng)用具有不利影響。拋光后摻釹氟化鈣激光晶體元件不應(yīng)有明顯劃痕，表面劃痕不屬于內(nèi)部缺陷，但會(huì)影響對(duì)晶體內(nèi)部質(zhì)量的檢測(cè)和判定。測(cè)試我們隨機(jī)抽取摻釹氟化鈣激光晶體元件產(chǎn)品樣品。測(cè)試結(jié)果表明，所有的樣品顏色均為透明無色差，無氣泡、無裂紋、劃痕。2）散射顆粒摻釹氟化鈣激光晶體元件在生長(zhǎng)的過程中存在散射顆粒晶體缺陷，這嚴(yán)重影響了晶體的光學(xué)性能及器件的應(yīng)用。由于聚集的小于50um的散射顆粒，在綠光激光束的照射下，呈現(xiàn)出綠色光柱，本標(biāo)準(zhǔn)在制定過程中利用50mW的綠光激光器點(diǎn)光源檢測(cè)晶體內(nèi)部光柱情況；利用1W的綠光激光器線光源對(duì)晶體內(nèi)部的散射顆粒進(jìn)行了檢測(cè)。測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn)，每10cm3的晶體中大部分均不存在散射顆粒，小部分是存在3個(gè)以內(nèi)的散射顆粒，很少部分超過10個(gè)以上的散射顆粒。但考慮到摻釹氟化鈣激光晶體元件在不同應(yīng)用領(lǐng)域的需要以及多款產(chǎn)品訂貨技術(shù)協(xié)議的要求，本標(biāo)準(zhǔn)將該指標(biāo)分級(jí)處理。按照晶體散射顆粒分三級(jí)，符合表1規(guī)定。所有合格產(chǎn)品的散射顆粒級(jí)別應(yīng)不超過3級(jí).表1散射顆粒分級(jí)散射顆粒級(jí)別單個(gè)晶體元件平均每10cm3中散射顆粒的數(shù)量n/個(gè)An≤3B3<n≤10C10<n≤203)單程損耗以各種方法生長(zhǎng)出來的激光晶體，均將不同程度地對(duì)激光波長(zhǎng)產(chǎn)生非激活吸收和散射，導(dǎo)致晶體的激光損耗，即單程損耗。這種損耗不僅會(huì)增高激光閾值，降低激光增益，而且還影響激光束的質(zhì)量。本標(biāo)準(zhǔn)在制定過程中按GB/T27661的規(guī)定對(duì)三個(gè)晶體元件的樣品進(jìn)行測(cè)試。測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn)：3個(gè)樣品的單程損耗均小于1%。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定單程損耗應(yīng)不大于1%。4）波前畸變波前畸變是光學(xué)材料的重要指標(biāo)，直接影響到透射光學(xué)系統(tǒng)的波面質(zhì)量，改變系統(tǒng)的波相差。因此，必須對(duì)其波前畸變進(jìn)行確定。該標(biāo)準(zhǔn)通過對(duì)不同的樣品進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試結(jié)果均符合指標(biāo)。表2波前畸變分級(jí)單位為λ口徑mm合格級(jí)λ=632.8nm優(yōu)等級(jí)λ=632.8nm≤10≤0.05≤0.0210~20≤0.10≤0.0520≤0.15≤0.085）加工質(zhì)量外形公差是指晶體元件的實(shí)際測(cè)試尺寸與需求尺寸之間的偏差值，是允許尺寸的變動(dòng)量。尺寸決定晶體裝配性。外形公差±0.1mm目前是一般的加工工藝可以達(dá)到，同時(shí)也不會(huì)影響晶體使用性能的條件。不平行度是指兩個(gè)通光面之間的平行度的偏差值。用以評(píng)價(jià)兩個(gè)通光面之間的平行狀態(tài)。晶體元件不平行度過大，將引起光束傳播路徑的偏折，進(jìn)而導(dǎo)致晶體元件不符合設(shè)計(jì)要求。不垂直度是指某一面或邊與基準(zhǔn)面之間90°夾角的偏差值。用以評(píng)價(jià)直線之間、平面之間或直線與平面之間的垂直狀態(tài)。不垂直度可以影響基片的基準(zhǔn)面誤差，不利于基片膠合時(shí)像差的消除，而且直接增加其在器件制作過程中的難度。光學(xué)零件表面呈現(xiàn)的麻點(diǎn)、斑點(diǎn)、擦痕、破邊等瑕疵，表征光學(xué)元件的加工水平。晶體元件中的各種表面疵病的存在將造成不同程度散射，由于散射將大大消耗光能量，同時(shí)也可能引入嚴(yán)重的衍射而造成晶體元件性能的降低。有效通光孔徑是指單晶元件的通光表面扣除四周倒角后的可用面積與整個(gè)通光面面積的比值。有效通光口徑過小，有可能會(huì)引起光斑不能完全通過，導(dǎo)致通光質(zhì)量下降。崩邊、崩口及崩裂是晶體加工過程中產(chǎn)生的誤差。崩邊、崩口及崩裂的產(chǎn)生將影響晶體元件的質(zhì)量，影響晶體使用性能。倒角是晶片邊緣形貌，把工件的棱角切削成一定斜面的加工,以保護(hù)基片的邊和角不受破壞。倒角有利于晶體裝配和標(biāo)識(shí)方向，倒邊可以保護(hù)基片在運(yùn)輸和加工過程中不受破壞。我們隨機(jī)抽取本組產(chǎn)品和國(guó)內(nèi)收集的樣品，根據(jù)測(cè)試結(jié)果制定了本標(biāo)準(zhǔn)中的規(guī)定。膜層膜層是晶體元件表面為消除剩余反射率而鍍的增透膜。膜層的剩余反射率是表明膜系設(shè)計(jì)是否達(dá)到鍍膜的要求。膜層的抗磨性即牢固度直接影響晶體元件的使用壽命。膜層的麻點(diǎn)和劃痕直接影響晶體元件的光斑質(zhì)量。作為激光系統(tǒng)中的重要組成部分，膜層相對(duì)于其它元件具有較低的抗激光損傷閾值，是激光系統(tǒng)中非常重要而又最易損傷的薄弱環(huán)節(jié)。若抗激光損失閾值較低，膜層易遭到破壞，不但會(huì)使光束質(zhì)量降低，嚴(yán)重時(shí)會(huì)產(chǎn)生連鎖反應(yīng)，導(dǎo)致晶體元件的損傷。本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的剩余反射率、抗磨性、麻點(diǎn)和劃痕以及抗激光損傷閾值是根據(jù)測(cè)試的結(jié)果與用戶的要求綜合因素考慮確定的。8）檢驗(yàn)項(xiàng)目及試驗(yàn)方法的確定本標(biāo)準(zhǔn)外觀質(zhì)量采用目測(cè)法檢測(cè)；單程損耗、波前畸變、不平行度、不垂直度、表面疵病、有效通光口徑、膜層反射率等的測(cè)試引用現(xiàn)行有效的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)；散射顆粒、崩邊、崩口及崩裂、倒角等為本標(biāo)準(zhǔn)中為滿足摻釹氟化鈣晶體元件的光學(xué)性質(zhì)及器件的應(yīng)用需求制定。9）檢驗(yàn)分類本標(biāo)準(zhǔn)的檢驗(yàn)分為鑒定檢驗(yàn)和質(zhì)量一致性檢驗(yàn)，規(guī)范中的全部檢驗(yàn)項(xiàng)目為鑒定檢驗(yàn)項(xiàng)目，其中外觀質(zhì)量、散射顆粒、波前畸變、尺寸公差和不平行度等性能項(xiàng)目為質(zhì)量一致性檢驗(yàn)項(xiàng)目，承制方應(yīng)按要求進(jìn)行逐條檢驗(yàn)。標(biāo)準(zhǔn)中如果涉及專利，應(yīng)有明確的知識(shí)產(chǎn)權(quán)說明本標(biāo)準(zhǔn)中沒有涉及專利。推廣應(yīng)用論證和預(yù)期達(dá)到的經(jīng)濟(jì)效果等情況超快激光器屬于高科技設(shè)備，為技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，具有行業(yè)準(zhǔn)入門檻高，啟動(dòng)資金比較大，產(chǎn)量小和產(chǎn)值大等一系列特點(diǎn)。隨著生產(chǎn)技術(shù)的成熟，勞動(dòng)效率的提高和成本的逐漸降低，超快激光器的應(yīng)用范圍也逐漸擴(kuò)大，在材料加工，生物醫(yī)學(xué)，光譜學(xué)與成像和醫(yī)療等方面都有著重要作用。同時(shí)，憑借著冷加工的優(yōu)勢(shì)，超快激光器從根本上改變了激光與物質(zhì)相互作用機(jī)制，成為了非線性光學(xué)、激光光譜學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、強(qiáng)場(chǎng)光學(xué)、凝聚態(tài)物理學(xué)等科研領(lǐng)域強(qiáng)有力的研究工具。超快激光在工業(yè)應(yīng)用的歷史不長(zhǎng)，是歐美等發(fā)達(dá)國(guó)家重點(diǎn)布局的激光應(yīng)用熱點(diǎn)。目前，超快激光器市場(chǎng)基本被國(guó)外公司主導(dǎo)，但中國(guó)政府、科研機(jī)構(gòu)及企業(yè)對(duì)超快激光非常重視，政策傾斜及企業(yè)加大投入攻克難點(diǎn)技術(shù)，正在追趕國(guó)際先進(jìn)水平。清華大學(xué)、中科院物理所和華中科技大學(xué)等高校均在大力推進(jìn)超快激光科研。隨著德國(guó)“工業(yè)4.0”和“中國(guó)制造2025”的啟動(dòng)發(fā)展，高端制造、智能制造、高精密制造的需求將顯著增加，尤其是消費(fèi)電子領(lǐng)域的快速發(fā)展，將帶來透明及半透明材料激光加工巨大的市場(chǎng)需求，是一個(gè)新的藍(lán)海市場(chǎng)，超快激光技術(shù)將迎來新的發(fā)展機(jī)遇。目前，2017年全球超快激光器市場(chǎng)價(jià)值為932.1百萬美元，預(yù)計(jì)到2023年底將達(dá)到1764.94百萬美元，2017-2023年間復(fù)合年增長(zhǎng)率為11.23%。整體看，整個(gè)行業(yè)的發(fā)展速度非?？?，并且有希望保持強(qiáng)勁的增長(zhǎng)勢(shì)頭。更重要的是，摻釹氟化鈣晶體發(fā)射截面（1~6）×10-20cm2；發(fā)射光譜帶寬20~35nm；熒光壽命200-650μs；發(fā)射光譜峰值波長(zhǎng)1045~1065nm。特別是，發(fā)射光譜帶寬和熒光壽命兩項(xiàng)指標(biāo)均超越了現(xiàn)有的激光材料，有利于實(shí)現(xiàn)超強(qiáng)超