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文檔簡介
離子鍍金屬表面處理技術及應用考核試卷考生姓名:__________答題日期:_______年__月__日得分:____________判卷人:__________
一、單項選擇題(本題共20小題,每小題1分,共20分,在每小題給出的四個選項中,只有一項是符合題目要求的)
1.離子鍍技術中,以下哪種氣體通常作為工作氣體?()
A.氮氣
B.氧氣
C.氬氣
D.二氧化碳
2.離子鍍金屬表面處理技術中,離子源的作用是什么?()
A.清潔金屬表面
B.提供金屬離子
C.生成活性氣體離子
D.調整金屬表面電荷
3.下列哪種金屬常用作離子鍍的靶材?()
A.鐵
B.銅
C.鋁
D.鉑
4.離子鍍工藝中,以下哪個參數會影響鍍層的質量?()
A.鍍膜時間
B.鍍膜溫度
C.離子轟擊能量
D.所有以上選項
5.離子鍍技術中,為什么需要使用磁場?()
A.增強離子束流
B.控制離子束方向
C.提高鍍膜均勻性
D.降低鍍膜溫度
6.以下哪個因素不會影響離子鍍層的附著強度?()
A.鍍前清洗
B.鍍層厚度
C.離子轟擊角度
D.鍍膜室內氣壓
7.離子鍍技術中,以下哪種現象屬于正?,F象?()
A.鍍層出現裂紋
B.鍍層顏色不均
C.鍍層表面有微小凹坑
D.鍍層與基材完全融合
8.以下哪種材料不適用于離子鍍表面處理技術?()
A.塑料
B.陶瓷
C.不銹鋼
D.銅合金
9.離子鍍金屬表面處理技術的優(yōu)點是什么?()
A.節(jié)省原材料
B.提高生產效率
C.提高表面性能
D.所有以上選項
10.離子鍍層的主要作用是什么?()
A.提高硬度
B.提高耐磨性
C.提高耐腐蝕性
D.所有以上選項
11.以下哪種方法不能用于檢測離子鍍層的質量?()
A.顯微鏡觀察
B.硬度測試
C.鹽霧試驗
D.重量測量
12.在離子鍍過程中,以下哪個步驟不屬于預處理步驟?()
A.清洗
B.磨光
C.拋光
D.鍍前檢查
13.以下哪個因素會影響離子鍍層的厚度?()
A.鍍膜時間
B.鍍膜溫度
C.離子束流密度
D.所有以上選項
14.離子鍍金屬表面處理技術中,以下哪個現象可能是由于離子束流不穩(wěn)定導致的?()
A.鍍層厚度不均
B.鍍層表面粗糙
C.鍍層顏色不一致
D.鍍層出現裂紋
15.以下哪種材料通常用于離子鍍層的基底材料?()
A.鋁
B.銅合金
C.塑料
D.纖維素
16.離子鍍層的耐腐蝕性能主要取決于以下哪個因素?()
A.鍍層材料
B.鍍層厚度
C.鍍層結構
D.所有以上選項
17.離子鍍技術中,以下哪種情況可能導致鍍層不均勻?()
A.靶材與基底距離不均
B.靶材移動速度不穩(wěn)定
C.鍍膜室內溫度不均
D.所有以上選項
18.以下哪個參數不會影響離子鍍層的內應力?()
A.鍍膜溫度
B.鍍膜時間
C.離子轟擊能量
D.鍍膜室內濕度
19.離子鍍金屬表面處理技術中,以下哪種方法可用于減少鍍層內應力?()
A.降低鍍膜溫度
B.增加鍍膜時間
C.減小離子轟擊能量
D.交替使用不同材料進行鍍膜
20.在離子鍍金屬表面處理技術中,以下哪個階段容易出現濺射現象?()
A.預處理階段
B.鍍膜階段
C.后處理階段
D.檢驗階段
(以下為其他題型,可自行添加)
二、多選題(本題共20小題,每小題1.5分,共30分,在每小題給出的四個選項中,至少有一項是符合題目要求的)
1.離子鍍技術的優(yōu)點包括以下哪些?()
A.節(jié)省原材料
B.提高產品表面性能
C.對環(huán)境無污染
D.可以在復雜形狀的表面上進行鍍膜
2.以下哪些因素會影響離子鍍層的結合力?()
A.基材表面粗糙度
B.鍍膜工藝參數
C.鍍層材料
D.鍍層厚度
3.離子鍍過程中,下列哪些現象可能是由于靶材污染導致的?()
A.鍍層顏色不均
B.鍍層表面出現亮點
C.鍍層附著力下降
D.鍍膜速率降低
4.以下哪些方法可以用來改善離子鍍層的均勻性?()
A.調整靶材與基材的距離
B.使用旋轉靶材
C.優(yōu)化離子束流方向
D.增加鍍膜時間
5.以下哪些材料可以用作離子鍍的靶材?()
A.鋁
B.銅
C.不銹鋼
D.金
6.離子鍍層的性能可以通過以下哪些測試來評估?()
A.硬度測試
B.附著力測試
C.耐磨性測試
D.鹽霧腐蝕測試
7.以下哪些條件會影響離子鍍層的內應力?()
A.鍍膜溫度
B.離子轟擊能量
C.鍍層厚度
D.鍍膜速率
8.離子鍍技術在以下哪些領域有廣泛應用?()
A.精密儀器
B.醫(yī)療器械
C.建筑裝飾
D.電子設備
9.以下哪些措施可以減少離子鍍過程中的濺射現象?()
A.提高鍍膜室內氣壓
B.增加離子轟擊能量
C.優(yōu)化靶材與基材的距離
D.使用濺射抑制膜
10.離子鍍金屬表面處理技術的缺點包括以下哪些?()
A.鍍膜設備成本較高
B.鍍膜過程中可能產生放射性廢物
C.對基材的熱影響較大
D.鍍膜速率較慢
11.以下哪些因素會影響離子鍍層的表面粗糙度?()
A.鍍膜工藝參數
B.基材表面粗糙度
C.鍍層材料
D.鍍層厚度
12.離子鍍過程中,以下哪些情況可能導致鍍層出現針孔?()
A.鍍膜室內氣壓過低
B.鍍膜速率過快
C.基材表面污染
D.靶材質量不佳
13.以下哪些方法可以用來檢測離子鍍層中的缺陷?()
A.顯微鏡觀察
B.磁粉探傷
C.渦流探傷
D.X射線熒光光譜分析
14.離子鍍金屬表面處理技術中,以下哪些因素會影響鍍層的耐腐蝕性能?()
A.鍍層材料
B.鍍層結構
C.鍍層厚度
D.鍍膜工藝參數
15.以下哪些情況可能導致離子鍍層的顏色不一致?()
A.靶材成分不均勻
B.鍍膜工藝參數不穩(wěn)定
C.鍍膜室內溫度不均
D.鍍層厚度不均
16.離子鍍層可以應用于以下哪些類型的表面處理?()
A.防腐蝕
B.耐磨
C.電氣絕緣
D.光學應用
17.以下哪些因素會影響離子鍍層的沉積速率?()
A.離子束流密度
B.鍍膜溫度
C.靶材與基材的距離
D.鍍膜室內氣壓
18.離子鍍技術中,以下哪些措施可以提高鍍層的致密度?()
A.增加離子轟擊能量
B.降低鍍膜溫度
C.減小靶材與基材的距離
D.增加鍍膜時間
19.以下哪些材料可以通過離子鍍技術進行表面處理?()
A.塑料
B.陶瓷
C.金屬
D.玻璃
20.離子鍍金屬表面處理技術中,以下哪些因素會影響鍍層的附著強度?()
A.基材表面處理
B.鍍層材料
C.鍍膜工藝參數
D.鍍后處理工藝
三、填空題(本題共10小題,每小題2分,共20分,請將正確答案填到題目空白處)
1.離子鍍技術中,離子轟擊的作用主要是提高鍍層的______和______。()
2.離子鍍的靶材通常由______材料制成,以提供所需的______。()
3.離子鍍層的主要性能指標包括______、______和______。()
4.在離子鍍過程中,為了提高鍍層的均勻性,可以采用______和______的方法。()
5.離子鍍金屬表面處理技術的預處理步驟主要包括______、______和______。()
6.離子鍍層的內應力主要與______、______和______等因素有關。()
7.下列______、______和______因素會影響離子鍍層的沉積速率。()
8.離子鍍層常見的缺陷有______、______和______。()
9.離子鍍技術在______、______和______等領域有廣泛應用。()
10.為了減少離子鍍過程中的濺射現象,可以采取______、______和______等措施。()
四、判斷題(本題共10小題,每題1分,共10分,正確的請在答題括號中畫√,錯誤的畫×)
1.離子鍍技術可以在任何類型的基底材料上進行表面處理。()
2.離子鍍層的厚度可以通過控制鍍膜時間來精確控制。()
3.離子鍍過程中,靶材與基底的距離越近,鍍層的均勻性越好。()
4.離子鍍層的內應力主要是由于離子轟擊產生的。()
5.在離子鍍過程中,增加鍍膜室內氣壓可以減少濺射現象。()
6.離子鍍層的附著強度與基材的表面粗糙度無關。()
7.離子鍍技術可以在常溫下進行,不會對基材產生熱影響。()
8.離子鍍層只能提供硬度和耐磨性,對耐腐蝕性沒有貢獻。()
9.離子鍍技術不適合在復雜形狀的表面上進行鍍膜。()
10.離子鍍層的檢測主要依靠外觀檢查,不需要進行性能測試。()
五、主觀題(本題共4小題,每題5分,共20分)
1.請簡述離子鍍金屬表面處理技術的原理及其主要工藝流程。
2.描述離子鍍層內應力的產生原因及其對鍍層性能的影響。
3.論述影響離子鍍層附著力的主要因素,并提出相應的改進措施。
4.請舉例說明離子鍍金屬表面處理技術在工業(yè)領域的具體應用,并分析其優(yōu)勢。
標準答案
一、單項選擇題
1.C
2.C
3.D
4.D
5.B
6.D
7.C
8.A
9.D
10.D
11.D
12.D
13.D
14.A
15.B
16.C
17.D
18.C
19.D
20.B
二、多選題
1.ABD
2.ABCD
3.ABC
4.ABC
5.ABCD
6.ABCD
7.ABCD
8.ABCD
9.AC
10.ABC
11.ABCD
12.ABCD
13.ABC
14.ABCD
15.ABCD
16.ABCD
17.ABCD
18.ABC
19.ABCD
20.ABCD
三、填空題
1.致密度附著強度
2.金屬荷蘭式
3.硬度耐磨性耐腐蝕性
4.旋轉靶材調整離子束方向
5.清洗磨光拋光
6.鍍膜溫度鍍膜時間離子轟擊能量
7.離子束流密度鍍膜溫度靶材與基材距離
8.針孔裂紋剝離
9.精密儀器醫(yī)療器械電子設備
10.提高鍍膜室內氣壓使用濺射抑制膜優(yōu)化靶材與基材距離
四、判斷題
1.×
2.√
3.×
4.√
5.√
6.×
7.×
8.×
9.×
10.×
五、主觀題(參考)
1.離子鍍金屬表面處理技術是通過在真空條件下,利用電離氣體產生的離子束轟擊靶材,使靶材上的金屬原子蒸發(fā)并沉積在基底表面形成鍍層。主要工藝流程包括:基材預處
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