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1第四章場(chǎng)效應(yīng)管放大電路4.1結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管4.2絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管4.3場(chǎng)效應(yīng)管的主要參數(shù)4.4場(chǎng)效應(yīng)管的特點(diǎn)4.5場(chǎng)效應(yīng)管放大電路2
場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)是利用電壓產(chǎn)生的電場(chǎng)效應(yīng)來(lái)控制電流的一種半導(dǎo)體器件。它與普通晶體管相比有以下重要特點(diǎn):
(1)它是一種電壓控制器件。工作時(shí),管子的輸入電流幾乎為0,因此具有極高的輸入電阻(約數(shù)百兆歐以上)。
(2)
輸出電流是僅由多子運(yùn)動(dòng)而形成的,故稱單極型器件(普通晶體管電流是由多子和少子兩種載流子形成,稱為雙極型器件)。因此,它的抗溫度和抗輻射能力強(qiáng),工作較穩(wěn)定。
(3)
制造工藝比較簡(jiǎn)單,便于大規(guī)模集成,且噪聲較小。
(4)
類型較多,使電路設(shè)計(jì)靈活性增大。3
根據(jù)結(jié)構(gòu)的不同,場(chǎng)效應(yīng)管可分為兩大類:結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管(JFET)和金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)。N溝道P溝道增強(qiáng)型耗盡型N溝道P溝道N溝道P溝道(耗盡型)FET場(chǎng)效應(yīng)管JFET結(jié)型MOSFET絕緣柵型(IGFET)4N基底:N型半導(dǎo)體PP兩邊是P區(qū)G(柵極)S源極D漏極導(dǎo)電溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管也是具有PN結(jié)的半導(dǎo)體器件4.1結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管4.1.1結(jié)構(gòu)N型半導(dǎo)體襯底高摻雜P+型區(qū)導(dǎo)電溝道兩個(gè)PN結(jié)電子發(fā)射端稱為源極(Source)電子接收端稱為漏極(Drain)柵極(Gate)5NPPG(柵極)S源極D漏極符號(hào)DGSDGS在JFET中,源極和漏極是可以互換的。N溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管6PNNG(柵極)S源極D漏極P溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管DGSDGS符號(hào)結(jié)構(gòu)7
源極,用S或s表示N型導(dǎo)電溝道漏極,用D或d表示
P型區(qū)P型區(qū)柵極,用G或g表示柵極,用G或g表示符號(hào)符號(hào)#
符號(hào)中的箭頭方向表示什么?N溝道和P溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管符號(hào)上的區(qū)別,在于柵極的箭頭方向不同,但都要由P區(qū)指向N區(qū)。8
以N型溝道JFET為例進(jìn)行分析,研究JFET的工作原理————輸入電壓對(duì)輸出電流的控制作用。4.1.2基本工作原理N溝道場(chǎng)效應(yīng)管工作時(shí),在柵極與源極之間加負(fù)電壓,柵極與溝道之間的PN結(jié)為反偏。在漏極、源極之間加一定正電壓,使N溝道中的多數(shù)載流子(電子)由源極向漏極漂移,形成iD。iD的大小受VGS的控制。P溝道場(chǎng)效應(yīng)管工作時(shí),極性相反,溝道中的多子為空穴。9JFET工作原理
(動(dòng)畫(huà)2-9)10①VGS對(duì)溝道的控制作用當(dāng)VGS<0時(shí)對(duì)于N溝道的JFET,VP<0。PN結(jié)反偏耗盡層加厚溝道變窄
溝道電阻變大,ID減??;
VGS更負(fù),溝道更窄,ID更小;直至溝道被耗盡層全部覆蓋,溝道被夾斷,ID≈0。這時(shí)所對(duì)應(yīng)的柵源電壓VGS稱為夾斷電壓VP。11②漏源電壓VDS對(duì)iD的影響
在柵源間加電壓VGS>VP,漏源間加電壓VDS。則因漏端耗盡層所受的反偏電壓為VGD=VGS-VDS,比源端耗盡層所受的反偏電壓VGS大,(如:VGS=-2V,VDS=3V,VP=-9V,則漏端耗盡層受反偏電壓為-5V,源端耗盡層受反偏電壓為-2V),使靠近漏端的耗盡層比源端厚,溝道比源端窄,故VDS對(duì)溝道的影響是不均勻的,使溝道呈楔形。當(dāng)VDS增加到使VGD=VGS-VDS=VP
時(shí),在緊靠漏極處出現(xiàn)預(yù)夾斷點(diǎn),
隨VDS增大,這種不均勻性越明顯。當(dāng)VDS繼續(xù)增加時(shí),預(yù)夾斷點(diǎn)向源極方向伸長(zhǎng)為預(yù)夾斷區(qū)。由于預(yù)夾斷區(qū)電阻很大,使主要VDS降落在該區(qū),由此產(chǎn)生的強(qiáng)電場(chǎng)力能把未夾斷區(qū)漂移到其邊界上的載流子都掃至漏極,形成漏極飽和電流。12③
VGS和VDS同時(shí)作用時(shí)
導(dǎo)電溝道更容易夾斷,
對(duì)于同樣的VDS,
ID的值比VGS=0時(shí)的值要小。在預(yù)夾斷處VGD=VGS-VDS=VP當(dāng)VP<VGS<0時(shí),13IDSSiD/
mAVGS=0預(yù)夾斷0|Vp|1.輸出特性曲線4.1.3特性曲線
輸出特性曲線(也叫漏極特性)是指在柵源電壓UGS一定時(shí),漏極電流ID與漏源電壓UDS之間關(guān)系。函數(shù)表示為:從圖中可以看出,管子的工作狀態(tài)可分為可變電阻區(qū)、恒流區(qū)和擊穿區(qū)這三個(gè)區(qū)域。
14可變電阻區(qū)
(3)管壓降vDS
很小。用途:做壓控線性電阻條件:源端與漏端溝道都不夾斷
15恒流區(qū):(又稱飽和區(qū)或放大區(qū))特點(diǎn):(1)受控性:
輸入電壓vGS控制輸出電流(2)恒流性:輸出電流iD
基本上不受輸出電壓vDS的影響。用途:可做放大器和恒流源。條件:(1)源端溝道未夾斷
(2)源端溝道予夾斷
16夾斷區(qū)
用途:做無(wú)觸點(diǎn)的、接通狀態(tài)的電子開(kāi)關(guān)。條件:整個(gè)溝道都夾斷
擊穿區(qū)
當(dāng)漏源電壓增大到
時(shí),漏端PN結(jié)發(fā)生雪崩擊穿,使iD
劇增的區(qū)域。其值一般為(20—50)V之間。由于VGD=VGS-VDS,故vGS越負(fù),對(duì)應(yīng)的VP就越小。管子不能在擊穿區(qū)工作。特點(diǎn):172.轉(zhuǎn)移特性曲線輸入電壓VGS對(duì)輸出漏極電流ID的控制18結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管的特性小結(jié)結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管
N溝道耗盡型P溝道耗盡型19
結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管的缺點(diǎn):1.柵源極間的電阻雖然可達(dá)107以上,但在某些場(chǎng)合仍嫌不夠高。3.柵源極間的PN結(jié)加正向電壓時(shí),將出現(xiàn)較大的柵極電流。絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管可以很好地解決這些問(wèn)題。2.在高溫下,PN結(jié)的反向電流增大,柵源極間的電阻會(huì)顯著下降。204.2絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管:絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管MetalOxideSemiconductor——MOSFET
MOSFET是利用半導(dǎo)體表面的電場(chǎng)效應(yīng)進(jìn)行工作的,也稱為表面場(chǎng)效應(yīng)器件。分為增強(qiáng)型
N溝道、P溝道耗盡型N溝道、P溝道增強(qiáng)型:沒(méi)有導(dǎo)電溝道,耗盡型:存在導(dǎo)電溝道,21MOSFET基本上是一種左右對(duì)稱的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),它是在P型半導(dǎo)體上生成一層SiO2
薄膜絕緣層,然后用光刻工藝擴(kuò)散兩個(gè)高摻雜的N型區(qū),從N型區(qū)引出電極,一個(gè)是漏極D,一個(gè)是源極S。1.N溝道增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)構(gòu)4.2.1增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管在源極和漏極之間的絕緣層上鍍一層金屬鋁作為柵極G。P型半導(dǎo)體稱為襯底,用符號(hào)B表示。22漏極D→集電極C源極S→發(fā)射極E柵極G→基極B襯底B
電極—金屬絕緣層—氧化物基體—半導(dǎo)體因此稱之為MOS管232.N溝道增強(qiáng)型場(chǎng)效應(yīng)管的工作原理(1)柵源電壓VGS的控制作用
當(dāng)VGS=0V時(shí),因?yàn)槁┰粗g被兩個(gè)背靠背的PN結(jié)隔離,因此,即使在D、S之間加上電壓,
在D、S間也不可能形成電流。當(dāng)0<VGS<VT(開(kāi)啟電壓)時(shí),結(jié)果在襯底表面形成一薄層負(fù)離子的耗盡層。漏源間仍無(wú)載流子的通道。管子仍不能導(dǎo)通,處于截止?fàn)顟B(tài)。通過(guò)柵極和襯底間的電容作用,將柵極下方P型襯底表層的空穴向下排斥,同時(shí),使兩個(gè)N區(qū)和襯底中的自由電子吸向襯底表層,并與空穴復(fù)合而消失,24把開(kāi)始形成反型層的VGS值稱為該管的開(kāi)啟電壓VT。這時(shí),若在漏源間加電壓VDS,就能產(chǎn)生漏極電流
ID,即管子開(kāi)啟。
VGS值越大,溝道內(nèi)自由電子越多,溝道電阻越小,在同樣VDS
電壓作用下,ID越大。這樣,就實(shí)現(xiàn)了輸入電壓VGS對(duì)輸出電流ID的控制。
當(dāng)VGS>VT時(shí),襯底中的電子進(jìn)一步被吸至柵極下方的P型襯底表層,使襯底表層中的自由電子數(shù)量大于空穴數(shù)量,該薄層轉(zhuǎn)換為N型半導(dǎo)體,稱此為反型層。形成N源區(qū)到N漏區(qū)的N型溝道。ID25
當(dāng)VGS>VT且固定為某值的情況下,若給漏源間加正電壓VDS,則源區(qū)的自由電子將沿著溝道漂移到漏區(qū),形成漏極電流ID。當(dāng)ID從D
S流過(guò)溝道時(shí),沿途會(huì)產(chǎn)生壓降,進(jìn)而導(dǎo)致沿著溝道長(zhǎng)度上柵極與溝道間的電壓分布不均勻。A(2).漏源電壓VDS對(duì)溝道導(dǎo)電能力的影響
源極端電壓最大,為VGS
,由此感生的溝道最深;離開(kāi)源極端,越向漏極端靠近,則柵—溝間的電壓線性下降,由它們感生的溝道越來(lái)越淺;直到漏極端,柵漏間電壓最小,其值為:
VGD=VGS-VDS
,由此感生的溝道也最淺??梢?jiàn),在VDS作用下導(dǎo)電溝道的深度是不均勻的,溝道呈錐形分布。若VDS進(jìn)一步增大,直至VGD=VT,即VGS-VDS=VT或VDS=VGS-VT時(shí),則漏端溝道消失,出現(xiàn)預(yù)夾斷點(diǎn)。26
當(dāng)VDS為0或較小時(shí),VGD>VT,此時(shí)VDS
基本均勻降落在溝道中,溝道呈斜線分布。
當(dāng)VDS增加到使VGD=VT時(shí),漏極處溝道將縮減到剛剛開(kāi)啟的情況,稱為預(yù)夾斷。源區(qū)的自由電子在VDS電場(chǎng)力的作用下,仍能沿著溝道向漏端漂移,一旦到達(dá)預(yù)夾斷區(qū)的邊界處,就能被預(yù)夾斷區(qū)內(nèi)的電場(chǎng)力掃至漏區(qū),形成漏極電流。
當(dāng)VDS增加到使VGD
VT時(shí),預(yù)夾斷點(diǎn)向源極端延伸成小的夾斷區(qū)。由于預(yù)夾斷區(qū)呈現(xiàn)高阻,而未夾斷溝道部分為低阻,因此,VDS增加的部分基本上降落在該夾斷區(qū)內(nèi),而溝道中的電場(chǎng)力基本不變,漂移電流基本不變,所以,從漏端溝道出現(xiàn)預(yù)夾斷點(diǎn)開(kāi)始,ID基本不隨VDS增加而變化。273.N溝道增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管特性曲線UGS一定時(shí),ID與UDS的變化曲線,是一族曲線
ID=f(UDS)
UGS=C(1).輸出特性曲線1).可變電阻區(qū):
ID與UDS的關(guān)系近線性
ID≈2K(UGS-UT)UDSUGS=6VUGS=4VUGS=5VUGS=3VUGS=UT=3VUDS(V)ID(mA)當(dāng)UGS變化時(shí),RON將隨之變化因此稱之為可變電阻區(qū)當(dāng)UGS一定時(shí),RON近似為一常數(shù)因此又稱之為恒阻區(qū)282).恒流區(qū):該區(qū)內(nèi),UGS一定,ID基本不隨UDS變化而變3).擊穿區(qū):
UDS
增加到某一值時(shí),ID開(kāi)始劇增而出現(xiàn)擊穿。當(dāng)UDS
增加到某一臨界值時(shí),ID開(kāi)始劇增時(shí)UDS稱為漏源擊穿電壓。UGS=6VUGS=4VUGS=5VUGS=3VUGS=UT=3VUGS(V)ID(mA)29
ID=f(VGS)
VDS=常數(shù)UDS一定時(shí),UGS對(duì)漏極電流ID的控制關(guān)系曲線(2).轉(zhuǎn)移特性曲線在恒流區(qū),ID與UGS的關(guān)系為ID≈K(UGS-UT)230
轉(zhuǎn)移特性曲線的斜率
gm的大小反映了柵源電壓對(duì)漏極電流的控制作用。其量綱為mA/V,稱gm為跨導(dǎo)。
gm=
ID/
VGS
Q
(mS)(2).轉(zhuǎn)移特性曲線31增強(qiáng)型MOS管特性小結(jié)絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管N溝道增強(qiáng)型P溝道增強(qiáng)型32
MOS管襯底的處理
保證兩個(gè)PN結(jié)反偏,源極—溝道—漏極之間處于絕緣態(tài)NMOS管—UBS加一負(fù)壓PMOS管—UBS加一正壓處理原則:處理方法:331.N溝道耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)構(gòu)4.2.2耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管+++++++
耗盡型MOS管存在原始導(dǎo)電溝道
N溝道耗盡型MOS管,它是在柵極下方的SiO2絕緣層中摻入了大量的金屬正離子,在管子制造過(guò)程中,這些正離子已經(jīng)在漏源之間的襯底表面感應(yīng)出反型層,形成了導(dǎo)電溝道。342.N溝道耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管工作原理當(dāng)UGS=0時(shí),UDS加正向電壓,產(chǎn)生漏極電流ID,此時(shí)的漏極電流稱為漏極飽和電流,用IDSS表示當(dāng)UGS>0時(shí),將使ID進(jìn)一步增加。當(dāng)UGS<0時(shí),隨著UGS的減小漏極電流逐漸減小。直至ID=0。對(duì)應(yīng)ID=0的UGS稱為夾斷電壓,用符號(hào)UP表示。UGS(V)ID(mA)UP
耗盡型MOS管存在原始導(dǎo)電溝道。因此,使用時(shí)無(wú)須加開(kāi)啟電壓(VGS=0),只要加漏源電壓,就會(huì)有漏極電流。即:353.N溝道耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管特性曲線(1)輸出特性曲線UGS=6VUGS=4VUGS=1VUGS=0VUGS=--1VUGS(V)ID(mA)N溝道耗盡型MOS管可工作在UGS0或UGS>0N溝道增強(qiáng)型MOS管只能工作在UGS>036UGS(V)ID(mA)(2)轉(zhuǎn)移特性曲線常用關(guān)系式:UGS(off)夾斷電壓當(dāng)
uGS
UGS(off)0時(shí),37絕緣柵增強(qiáng)型N溝P溝絕緣柵耗盡型
N溝道P溝道38N溝道增強(qiáng)型SGDBiDP溝道增強(qiáng)型SGDBiD2–2uGS/ViD/mAUGS(th)uDS/ViD/mA–2V–4V–6V–8VuGS=8V6V4V2VSGDBiDN溝道耗盡型iDSGDBP溝道耗盡型UGS(off)IDSSuGS/ViD/mA–55uDS/ViD/mA5V2V0V–2VuGS=2V0V–2V–5VN溝道結(jié)型SGDiDSGDiDP溝道結(jié)型uGS/ViD/mA5–5IDSSUGS(off)uDS/ViD/mA5V2V0VuGS=0V–2V–5VMOSFET符號(hào)、特性的比較39開(kāi)啟電壓UGS(th)(增強(qiáng)型)
夾斷電壓
UGS(off)(耗盡型)
指uDS=某值,使漏極電流iD為某一小電流時(shí)的uGS
值。UGS(th)UGS(off)2.飽和漏極電流IDSS耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管,當(dāng)uGS=0時(shí)所對(duì)應(yīng)的漏極電流。IDSSuGS/ViD/mAO4.3場(chǎng)效應(yīng)三極管的參數(shù)40UGS(th)UGS(off)3.直流輸入電阻RGS指漏源間短路時(shí),柵、源間加
反向電壓呈現(xiàn)的直流電阻。JFET:RGS>107
MOSFET:RGS=109
1015
IDSSuGS/ViD/mAO414.低頻跨導(dǎo)gm
反映了uGS對(duì)iD的控制能力,單位S(西門(mén)子)。一般為幾毫西
(mS)uGS/ViD/mAQO增強(qiáng)型MOSFET耗盡型MOSFET
或結(jié)型FET42PDM=uDSiD,受溫度限制。5.漏源動(dòng)態(tài)電阻rds6.最大漏極功耗PDM436.漏源擊穿電壓BUDS使ID開(kāi)始劇增時(shí)的UDS。7.柵源擊穿電壓BUGSJFET:反向飽和電流劇增時(shí)的柵源電壓MOS:使SiO2絕緣層擊穿的電壓8.漏極最大允許耗散功率PDm
PDm與ID、UDS有如下關(guān)系:449.極間電容Cgs—柵極與源極間電容Cgd—柵極與漏極間電容Cgb—柵極與襯底間電容
Csd—源極與漏極間電容Csb—源極與襯底間電容Cdb—漏極與襯底間電容主要的極間電容有:454.4場(chǎng)效應(yīng)管的特點(diǎn)(1)場(chǎng)效應(yīng)管是一種電壓控制器件,即通過(guò)UGS來(lái)控制ID。
(2)場(chǎng)效應(yīng)管輸入端幾乎沒(méi)有電流,所以其直流輸入電阻和交流輸入電阻都非常高。
(3)由于場(chǎng)效應(yīng)管是利用多數(shù)載流子導(dǎo)電的,因此,與雙極性三極管相比,具有噪聲小、受幅射的影響小、熱穩(wěn)定性較好而且存在零溫度系數(shù)工作點(diǎn)等特性。46(4)由于場(chǎng)效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)對(duì)稱,有時(shí)漏極和源極可以互換使用,而各項(xiàng)指標(biāo)基本上不受影響,因此應(yīng)用時(shí)比較方便、靈活。
(5)場(chǎng)效應(yīng)管的制造工藝簡(jiǎn)單,有利于大規(guī)模集成。
(6)由于MOS場(chǎng)效應(yīng)管的輸入電阻可高達(dá)1015Ω,因此,由外界靜電感應(yīng)所產(chǎn)生的電荷不易泄漏,而柵極上的SiO2絕緣層又很薄,這將在柵極上產(chǎn)生很高的電場(chǎng)強(qiáng)度,以致引起絕緣層擊穿而損
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