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文檔簡(jiǎn)介
課后優(yōu)化訓(xùn)練
基礎(chǔ)強(qiáng)化
1.有科學(xué)家認(rèn)為:硅是“21世紀(jì)的能源”、“未來(lái)的石油”,下
列有關(guān)硅可能成為新型能源的依據(jù)的敘述中不正確的是()
A.自然界存在大量硅單質(zhì)
B.自然界的硅易開(kāi)采,且可再生
C.硅燃料便于運(yùn)輸、貯存,從安全角度考慮,硅是優(yōu)質(zhì)燃料
D.硅燃料燃燒放出的熱量多,其燃燒產(chǎn)物對(duì)環(huán)境的污染容易有效
地控制
解析在自然界中硅全部以化合態(tài)形式存在,A不正確;自然界
中硅含量豐富,硅燃料便于運(yùn)輸、貯存,且燃燒放出熱量多,這是可
能成為新型能源的依據(jù)。
答案A
2.下列物質(zhì)中,不含有硅酸鹽的是()
A.水玻璃B.硅芯片
C.黏土D.普通水泥
解析水玻璃中含有硅酸鈉,普通水泥中含有硅酸鈣、硅酸鈉,
黏土含有復(fù)雜的硅酸鹽,硅芯片中含的是硅單質(zhì)。
答案B
3.漢代器物上的顏料“漢紫”至今尚未發(fā)現(xiàn)其自然存在的記載。
科學(xué)家進(jìn)行超導(dǎo)材料研究時(shí),偶然發(fā)現(xiàn)其成分為紫色的硅酸銅領(lǐng)(化學(xué)
式:BaCuShOx,Cu為+2價(jià)),下列有關(guān)“漢紫”的說(shuō)法中不正確的
是()
A.用鹽的形式表示:BaSiO3CuSiO3
B.用氧化物形式表示:BaOCuO-2SiO2
C.易溶于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿和水
D.性質(zhì)穩(wěn)定,不易褪色
解析由化合價(jià)代數(shù)和為0,得(+2)+(+2)+(+4)X2+(-2>x
=0,解得x=6,故A、B正確,由題目可知D項(xiàng)正確,故選C。
答案C
4.下列關(guān)于碳和硅的比較,正確的是()
A.它們的氧化物都能與水反應(yīng)生成對(duì)應(yīng)的酸
B.碳和硅的單質(zhì)都能與Ch反應(yīng)
C.硅元素在地殼中的含量占第二位,碳占第一位
D.碳和硅在自然界中的存在形式都是既有游離態(tài)也有化合態(tài)
解析SiCh不溶于水也不與水反應(yīng),A錯(cuò);碳和Ch反應(yīng)可生成
CO或CO2,硅與Ch反應(yīng)生成SiCh,B正確;地殼中含量最多的元素
是氧,其次是硅,C錯(cuò);自然界中有游離態(tài)的碳(如金剛石),沒(méi)有游離
態(tài)的硅,因?yàn)楣枋且环N親氧元素,D錯(cuò)。
答案B
5.材料與化學(xué)密切相關(guān),表中對(duì)應(yīng)關(guān)系錯(cuò)誤的是()
材料主要化學(xué)成分
A.剛玉、金剛石三氧化二鋁
B.大理石、石灰石碳酸鈣
C.普通水泥、普通玻璃硅酸鹽
D.沙子、石英二氧化硅
解析剛玉主要成分是三氧化二鋁,金剛石是由碳元素組成的單
質(zhì),而不是三氧化二鋁。
答案A
6.下列試劑貯存方法正確的是()
A.氫氟酸用玻璃瓶密封貯存
B.NaOH溶液用磨口玻璃瓶加玻璃塞封存
C.水玻璃用塑料桶敞口放置
D.純堿溶液可用帶橡膠塞的玻璃瓶封存
解析氫氟酸腐蝕玻璃,不能用玻璃瓶盛裝;NaOH與玻璃中的
Si(h反應(yīng),使玻璃塞與瓶口粘合在一起,無(wú)法打開(kāi)瓶塞;水玻璃敞口
放置易與空氣中的CCh反應(yīng)而變質(zhì)。
答案D
7.露置于空氣中一段時(shí)間后的水玻璃會(huì)變渾濁。向此渾濁溶液中
加入稀鹽酸,會(huì)生成白色沉淀,同時(shí)伴隨有氣泡產(chǎn)生。用化學(xué)方程式
解釋產(chǎn)生上述實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的原因:
(1)溶液變渾濁。
(2)生成白色沉淀o
(3)產(chǎn)生氣泡_________________________________________o
解析水玻璃在空氣中放置時(shí),一些NazSiCh會(huì)與空氣中的CO2
和水反應(yīng):Na2SiO34-CO2+H2O=H2SiO31+Na2cO3生成的H2SiO3
不溶,故出現(xiàn)渾濁;向此渾濁液中加入鹽酸,會(huì)有NazSith與鹽酸反
應(yīng)生成HzSiCh沉淀,同時(shí)溶液中的Na2cCh與HCI反應(yīng)產(chǎn)生CO2氣體。
答案(l)Na2SiO3+CO2+H2O==H2SiO3I+Na2cO3
(2)Na2SiO3+2HCI==2NaCl+H2SiO3I
(3)Na2CO3+2HCI=2NaCI+CO21+H2O
8.硅是無(wú)機(jī)非金屬材料的主角,硅的氧化物和硅酸鹽約占地殼質(zhì)
量的90%以上。
(l)Si(h是玻璃的成分之一,SiOz與氫氧化鈉溶液反應(yīng)的化學(xué)方程
式為,工藝師常用(填物質(zhì)
名稱(chēng))來(lái)雕刻玻璃。
(2)用NazSiCh溶液浸泡過(guò)的棉花不易燃燒,體現(xiàn)NazSiCh的用途
可作的原料。
高溫
(3)工業(yè)上常用2C+SiO2=Si+2cOt制備硅單質(zhì),該反應(yīng)中
有元素化合價(jià)升高的物質(zhì)是(填化學(xué)式,下同),氧化劑是
______________________O
解析(DSiCh與NaOH溶液反應(yīng)的化學(xué)方程式為:
SiO24-2NaOH=Na2SiO3+H2Oo由于SiCh能溶于氫氟酸,因此
工藝師常用氫氟酸來(lái)雕刻玻璃。
(2)Na2SiO3的水溶液又稱(chēng)“水玻璃”,它具有阻燃的功能,因此
可作防火劑。
(3)反應(yīng)中C被氧化,SiCh中的+4價(jià)的硅被還原,因此SiCh作氧
化劑。
答案(l)SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O氫氟酸
(2)防火劑
(3)CSiO2
能力提升
1.下列表述正確的是()
①水晶的主要成分是二氧化硅②化學(xué)家采用瑪瑙研缽摩擦固體
反應(yīng)物進(jìn)行無(wú)溶劑合成,瑪瑙的主要成分是硅酸鹽③建造三峽大壩
使用了大量水泥,水泥是硅酸鹽材料④金剛石與金剛砂的成分相同
⑤太陽(yáng)能電池可采用硅材料制作,其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
A.①②③B.②④
C.③④⑤D.①③⑤
解析瑪瑙的主要成分是二氧化硅;金剛石是碳的單質(zhì),金剛砂
的成分是SiCo
答案D
2.新型無(wú)機(jī)材料碳化鈦(TiC)、碳化硼(B?)、氮化硅(Si3N”等稱(chēng)
為非氧化物陶瓷,合成這些物質(zhì)需在高溫下進(jìn)行,在合成工藝中必須
注意()
A.通入充足的氧氣
B.可在空氣中進(jìn)行
C.通入少量氧氣
D.可在氮?dú)夥諊泻铣?/p>
解析新型無(wú)機(jī)材料TiC、B£、Si3N4在高溫下均能與氧氣發(fā)生
反應(yīng),故應(yīng)在無(wú)氧的環(huán)境下合成。
答案D
3.世界著名的科技史專(zhuān)家、英國(guó)劍橋大學(xué)的李約瑟博士考證說(shuō):
“中國(guó)至少在距今3000年以前,就已經(jīng)使用玻璃了?!毕铝杏嘘P(guān)普通
玻璃的說(shuō)法不正確的是()
A.制普通玻璃的原料主要是純堿、石灰石和石英
B.玻璃在加熱熔化時(shí)有固定的熔點(diǎn)
C.普通玻璃的成分主要是硅酸鈉、硅酸鈣和二氧化硅
D.盛放燒堿溶液的試劑瓶不能用玻璃塞,是為了防止燒堿跟二氧
化硅反應(yīng)生成硅酸鈉而使瓶塞與瓶口粘在一起
解析玻璃沒(méi)有固定的熔點(diǎn)。
答案B
4.晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;
300℃
②粗硅與干燥HC1氣體反應(yīng)制得SiHCh:Si+3HCl==SiHCh
+H1;
③SiHCb與過(guò)量七在1000—1100℃反應(yīng)制得純硅。
已知SiHCb能與H2O劇烈反應(yīng),在空氣中易自燃。
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
⑴第①制備粗硅的化學(xué)方程式為
(2)粗硅與HCI反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCb(沸點(diǎn)33.0。@中
含有少量SiCl“沸點(diǎn)576C)和HC1(沸點(diǎn)84.7℃),提純SiHCh的方法
為o
⑶用SiHCb與過(guò)量氏反應(yīng)制備純硅的裝置如圖所示(熱源及夾持
裝置均已略去):
尾氣處理
裝置略去
①裝置B中的試劑是,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目
的是____________________o
②裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣
密性,控制好反應(yīng)溫度以及o
解析(1)由所給信息高溫下用炭還原二氧化硅制得粗硅,可寫(xiě)出
高溫
反應(yīng)方程式SiO2+2C—Si+2coto
(2)根據(jù)題中所給混合物中各沸點(diǎn),SiHCb沸點(diǎn)最低,可采用分儲(chǔ)
(或蒸儲(chǔ))的方法,將SiHCb分離出來(lái)。
(3)SiHCb能與水劇烈反應(yīng),應(yīng)將制得的叢中的水蒸氣除去,故裝
置B中的試劑是濃硫酸。常溫下SiHCb為液體,反應(yīng)時(shí)應(yīng)使其汽化后
再在D處與Hz反應(yīng),故裝置C的燒瓶需加熱。制備純硅的實(shí)
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