DB41T 2432-2023 石窟寺石刻類文物拓印技術(shù)規(guī)范_第1頁
DB41T 2432-2023 石窟寺石刻類文物拓印技術(shù)規(guī)范_第2頁
DB41T 2432-2023 石窟寺石刻類文物拓印技術(shù)規(guī)范_第3頁
DB41T 2432-2023 石窟寺石刻類文物拓印技術(shù)規(guī)范_第4頁
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41I II 1 1 1 2 2 3 4 5 6本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定1石窟寺石刻類文物拓印技術(shù)規(guī)范GB/T33289—2016館藏磚石文物保護(hù)修復(fù)記WW/T0007—2007石質(zhì)文物保護(hù)修復(fù)方案編寫規(guī)范國家文物局.文物復(fù)制拓印管理辦法.2011采用正投影原理，按照原尺寸1:1大小，通過上紙、上墨、揭取、拼接等流程將高浮雕作品從立體24拓印原則4.1真實性原則4.2完整性原則4.3最低限度干預(yù)原則石窟寺石刻類文物拓印應(yīng)首先保證文物安全，把對文物本體的干預(yù)限制在最低程5拓印要求5.1基本要求拓印應(yīng)按照《文物復(fù)制拓印管理辦法》規(guī)定開展，符合WW/T0007—2007各措除塵的主要對象為拓體表面附著的灰塵、土垢等，宜5.2.2上紙5.2.2.1拓印用紙應(yīng)選用薄透、細(xì)膩、有較強(qiáng)韌性的紙張，常用生宣紙或皮紙。紙張尺寸依據(jù)拓體大a)干紙上紙法：主要用于快速拓印，可采用摁紙法、打紙法及刮掃法，這些上述方法也可組合b)濕紙上紙法：上紙前應(yīng)悶紙，即疊紙、浸水處理，疊35.2.3上墨5.2.4揭取5.3.2上紙5.3.2.1整紙切割上紙法：將整張紙覆蓋于拓印對象上，在易破損處采5.3.2.2分紙切割上紙法：將紙裁成若干塊，分部定位逐步上紙的方法。5.3.2.3上紙時先從高處上起，再逐步、分別摁壓，在易破損、易褶皺處可選擇主動切割。凹凸落差5.3.3上墨上墨順序應(yīng)遵循由高到低原則，上墨范圍應(yīng)依照拓印對象正投影尺寸1:1大小。同一部位凸出部分5.3.4揭取5.3.5拼接47.1.2折疊存放：將拓片折疊放入布袋或牛皮紙7.1.3裝裱存放：裝裱形式可采用卷軸、冊頁、手卷、剪裱線拓片存放地溫度宜控制在18℃~25℃之間，濕度

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