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文檔簡介

1、第五章 半導體 Semiconductor,5.0 引言,半導體載流子的有效質(zhì)量 雜質(zhì)半導體 熱平衡載流子分布 半導體的光吸收 半導體界面特性 典型半導體材料的能帶結(jié)構(gòu),主要內(nèi)容,學習提示,以下問題是難點,須認真學習和體會 有效質(zhì)量的物理意義 雜質(zhì)對半導體費米能級及導電性的影響 半導體界面特性,金鋼石結(jié)構(gòu)和面心立方晶體的第一布里淵區(qū)示意圖,5.1 典型的半導體能帶結(jié)構(gòu),Si的能帶結(jié)構(gòu),5.1 典型的半導體能帶結(jié)構(gòu),理想半導體的能帶結(jié)構(gòu),一維情況:,價帶頂附近的有效質(zhì)量量為負 導帶底附近的有效質(zhì)量為正,5.2電子的有效質(zhì)量,為了克服價帶頂電子有效質(zhì)量負值的困難,引入價帶頂空穴的概念,三維情況:,

2、5.2電子的有效質(zhì)量,Si中摻P后的共價網(wǎng)絡示意圖,5.3半導體的摻雜,五價P提供的多余電子狀態(tài),束縛在P+周圍形成弱的束縛態(tài) 參與價電子公有化,成為非局域化電子,如何處理這個束縛態(tài) 束縛態(tài)能級與能帶之間的關(guān)系,一、施主摻雜,5.3半導體的摻雜,一、施主摻雜,束縛態(tài)能級的類氫原子處理,氫原子,為了表達屏蔽作用,對勢函數(shù)進行修正:,束縛態(tài)能級:,施主能級和施主電離示意圖,5.3半導體的摻雜,一、施主摻雜,Si中摻B后的共價鍵網(wǎng)絡示意圖,5.3半導體的摻雜,一、受主摻雜,利用類氫原子模型可以得到,5.3半導體的摻雜,二、受主摻雜,導帶上的電子數(shù)N(T)為,一、導帶上的電子濃度,5.4熱平衡載流子分

3、布,若導帶底可以近似為拋物線,5.4熱平衡載流子分布,二、導帶上的電子濃度,導帶上的電子濃度為,5.4熱平衡載流子分布,二、價帶上的空穴濃度,5.4熱平衡載流子分布,三、質(zhì)量作用定律,導帶上的電子濃度和價帶上空穴濃度之積僅僅與禁帶寬度有關(guān),這一規(guī)律與半導體的種類沒有關(guān)系,適用于本證、施主和雜質(zhì)半導體,導帶上的電子濃度與價帶上的空穴濃度必然相等,本征半導體費米能級與溫度的關(guān)系為,5.4熱平衡載流子分布,四、本證半導體,T=0K時,費米能級EF為,5.4熱平衡載流子分布,四、本證半導體,由于導帶上的電子載流子的濃度是本征激發(fā)和施主電離二者共同貢獻的,所以可得電中性方程:,5.4熱平衡載流子分布,五

4、、施主半導體,5.4熱平衡載流子分布,五、施主半導體,施主半導體費米能級,數(shù)值求解上述方程可以得到施主半導體的費米能級,5.4熱平衡載流子分布,五、受主半導體,由于價帶上的空穴子載流子的濃度是本征激發(fā)和受主電離二者共同貢獻的,所以可得電中性方程:,數(shù)值求解上述方程可以得到受主半導體的費米能級,Si中費米能級與溫度和雜質(zhì)濃度之間的關(guān)系,5.4熱平衡載流子分布,六、半導體的費米能級,在上述過程中,光照在導帶上產(chǎn)生的電子必然同價帶上所留下的空穴相等,所以有:,5.5非熱平衡載流子分布,非平衡載流子的產(chǎn)生: (1)光輻照 (2)電注入,半導體中電子和空穴的定向漂移運動和電流示意圖,一、半導體的導電機制

5、,5.5半導體的導電性質(zhì),當溫度一定時,在一定的電場強度下,載流子的定向漂移運動的平 均速度為一常數(shù),且有,電流密度J 為,二、載流子的遷移率,5.5半導體的導電性質(zhì),半導體的電流密度為,半導體的電導率為,二、載流子的遷移率,5.5半導體的導電性質(zhì),載流子受到兩次散射的平均時間間隔為(稱為弛豫時間), 那么,從半經(jīng)典力學的觀點可以得出:,載流子的遷移率可以表示為:,二、載流子的遷移率,5.5半導體的導電性質(zhì),本征吸收的條件是入射光子的能量不小于半導體的禁帶寬度,即,在直接躍遷過程中必然滿足以下條件:,光子動量很小,動量守恒簡化為:,5.6半導體光吸收,一、直接帶隙半導體的本征吸收,在5K溫度下

6、InSb的吸收系數(shù)與光子能量的關(guān)系曲線,5.6半導體光吸收,一、直接帶隙半導體的本征吸收,間接躍遷的能量和動量守恒條件可以表示為:,間接躍遷引起光的本征吸收示意圖,5.6半導體光吸收,二、直接帶隙半導體的本征吸收,電子聲子相互作用參與電子躍遷過程,間接躍遷引起光的本征吸收示意圖,5.6半導體光吸收,三、半導體其它光吸收機制,半導體吸收光譜示意圖,5.6半導體光吸收,四、半導體其它光吸收機制,光電器件的光電流為:,一種光電器件的基本電路原理,5.6半導體光吸收,五、半導體的光電導,兩種載流子的霍爾效應示意圖,空穴,電子,5.7半導體的磁學性質(zhì),一、半導體霍爾(Hall)效應,在洛倫茲力的作用下,

7、在垂直于的樣品端面上就會形成電荷累積,形成霍爾電場; 電子或空穴受到兩個力的作用,一是磁場中的洛倫茲力;一是霍爾電場中的電場力; 達到平衡時,必然是洛倫茲力同電場力相等,所以有:,5.7半導體的磁學性質(zhì),一、半導體霍爾(Hall)效應, 霍爾系數(shù),霍爾角的正切為:,電子載流子的霍爾角為,,5.7半導體的磁學性質(zhì),一、半導體霍爾(Hall)效應,空穴載流子的霍爾系數(shù)和霍爾角分別為:,5.7半導體的磁學性質(zhì),一、半導體霍爾(Hall)效應,5.7半導體的磁學性質(zhì),一、半導體霍爾(Hall)效應,霍爾電壓,記為VH:,總的霍爾系數(shù)可以表示為:,5.7半導體的磁學性質(zhì),一、半導體霍爾(Hall)效應,

8、載流子所受的洛倫茲力和霍爾 電場力相平衡時載流子的運動,5.7半導體的磁學性質(zhì),二、半導體的磁阻效應,磁阻效應:在垂直于電流方向上施加磁場,沿外加電場方向的電流密度有所降低,即表觀電阻增大,稱此效應為磁阻效應,5.7半導體的磁學性質(zhì),二、半導體的磁阻效應,具有與霍爾電場相平衡速度的載流子的運動 速度較大載流子的運動 速度較小載流子運動,(a) 長方形樣品l/d 1,(b) 長方形樣品l/d 1,(c) 科比諾圓盤,半導體幾何磁阻,5.7半導體的磁學性質(zhì),二、半導體的磁阻效應,5.8半導體界面特性,一、p-n結(jié),p-n結(jié)接觸前的能帶結(jié)構(gòu)示意圖,5.8半導體界面特性,一、p-n結(jié),p-n結(jié)接觸后的

9、平衡能帶結(jié)構(gòu)示意圖,p-n結(jié)平衡后,實際上在結(jié)區(qū)兩端建立起了一個勢壘,eVD,勢壘的大小為:,結(jié)合上式得:,5.8半導體界面特性,一、p-n結(jié),5.8半導體界面特性,一、p-n結(jié),pn結(jié)正向偏壓時的能帶和結(jié)區(qū)的變化,5.8半導體界面特性,一、p-n結(jié),pn結(jié)反向偏壓時的能帶和結(jié)區(qū)的變化,p-n結(jié)的電流密度可以表示為:,p-n結(jié)的直流I-V 特性曲線,5.8半導體界面特性,一、p-n結(jié),p-n結(jié)的光生伏特示意圖,5.8半導體界面特性,一、p-n結(jié),熱平衡后,界面處半導體的電位高于金屬,且有勢壘的高度為:,5.8半導體界面特性,二、半導體金屬接觸:肖脫基勢壘,半導體體歐姆接觸后的能帶結(jié)構(gòu),5.8半

10、導體界面特性,二、半導體金屬接觸:Ohm接觸,幾種常見金屬的功函數(shù)(單位:eV),5.8半導體界面特性,二、半導體金屬接觸,能帶結(jié)構(gòu)示意圖,金剛石結(jié)構(gòu)半導體(111) 面異質(zhì)結(jié)的晶格模型,5.8半導體界面特性,二、半導體異質(zhì)結(jié),MIS結(jié)構(gòu)示意圖,5.8半導體界面特性,二、MIS結(jié)構(gòu),Metal-Isolator Semiconductor (MIS),由p型半導體構(gòu)成的MIS結(jié)構(gòu)在各種電壓VG下的空間電荷分布,(a) 空穴堆積,(b) 空穴耗盡,(c) 反型層,5.8半導體界面特性,二、MIS結(jié)構(gòu),Metal-Isolator Semiconductor (MIS),5.8半導體界面特性,二、

11、MIS結(jié)構(gòu),Metal-Isolator Semiconductor (MIS),鍺、硅半導體材料,鍺和硅的一般物理性質(zhì),5.10半導體材料簡介,(a)鍺, (b)硅,鍺和硅的能帶結(jié)構(gòu),鍺、硅半導體材料,5.10半導體材料簡介,III-V化合物半導體材料,(a) 閃鋅礦,(b)纖鋅礦,III-V族化合物半導體晶體結(jié)構(gòu),5.10半導體材料簡介,GaAs的能帶結(jié)構(gòu)和性質(zhì),GaAS能帶結(jié)構(gòu)(a)和不同雜質(zhì)能級(b)示意圖,III-V化合物半導體材料,5.10半導體材料簡介,非晶態(tài)半導體,(a) (b) 晶態(tài)(a)和非晶態(tài)(b)固體原子排列的二維示意圖,5.10半導體材料簡介,非晶半導體的能帶結(jié)構(gòu),(a) (b) 非晶半導體的能帶模型 (a)理想非晶態(tài),(b) 含懸掛鍵的非晶態(tài),5.10半導體材料簡介,非晶態(tài)半導體的導電機制,擴展態(tài)電子對電導率的貢獻為,式中,EC是遷移率邊的能量,EF是費米能。smin是擴展態(tài)開始導電時的電導率, smin與具體的無序結(jié)構(gòu)有關(guān),5.10半導體材料簡介,定域態(tài)電子躍遷導電機理,非晶半導體電到率與溫

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