2014鄭州輕工業(yè)學(xué)院薄膜試卷B.doc

線訂裝鄭州輕工業(yè)學(xué)院 / 學(xué)年第 學(xué)期 薄膜材料與薄膜技術(shù)B 試卷專業(yè)年級(jí)及班級(jí)姓名學(xué)號(hào)薄膜技術(shù)與薄膜材料課程期末試卷（B）題號(hào)一二三四總分得分 選擇題號(hào)12345678910得分評(píng)卷人答案一選擇題（每題 2 分，共 20 分）（請把答案填在上方題卡中）1. 下面哪種真空泵不屬于氣體輸運(yùn)泵：（ ） (A) 旋片式機(jī)械泵 (B) 復(fù)合分子泵 (C) 羅茨泵 (D) 吸附泵2. 普通三極型電離真空計(jì)的工作范圍是：( ) (A) 102 10-1Pa (B) 105 10-2Pa (C) 103 10-1Pa (D) 10-6 10-1Pa3、 下面關(guān)于電鍍的描述哪一項(xiàng)不正確：（ ） (A) 只適用于在導(dǎo)電的基片上沉積金屬和合金 (B) 被鍍基體金屬為陽極 (C) 薄膜材料在電解液中是以正離子的形式存在 (D) 沉積物的質(zhì)量遵從法拉第定律4. 目前制備單分子膜沉積技術(shù)的是：（ ） (A) 電鍍 (B) 陽極氧化 (C) 化學(xué)鍍 (D) LB技術(shù)5. 完成化學(xué)鍍的過程有三種方式，其中下面哪種不是：（ ） (A) 置換沉積 (B) 接觸沉積 (C) 還原沉積 (D) 氧化沉積 6.下面哪種選項(xiàng)不屬于電阻加熱蒸發(fā)法的缺點(diǎn):( ) (A) 支撐坩堝及材料與蒸發(fā)物反應(yīng) (B) 蒸發(fā)率高 (C) 加熱時(shí)合金或化合物會(huì)分解 (D) 難以獲得足夠高的溫度，可蒸發(fā)材料受到限制7. 外延沉積技術(shù)對襯底的要求不合理的是：（ ） (A) 在沉積溫度下容易發(fā)生熱分解 (B) 不受外延材料及蒸氣的侵蝕 (C) 和外延材料有相近的熱膨脹系數(shù) (D) 晶格類型和晶格常數(shù)與外延材料匹配8. 直流輝光放電伏安特性曲線中，濺射所選擇的工作區(qū)域是：（ ） (A) 湯森放電區(qū) (B) 正常輝光放電區(qū) (C) 異常輝光放電區(qū) (D) 弧光放電區(qū)9. 各種濺射的基礎(chǔ)條件是氣氛和（ ） (A) 高壓 (B) 真空度 (C) 低壓 (D) 濺射率10. 微量天平法實(shí)際上測量的是：（ ） (A) 質(zhì)量膜厚 (B) 形狀膜厚 (C) 物性膜厚 (D) 表面膜厚得分評(píng)卷人二、填空題（每空1分，共20分）1. 典型的真空系統(tǒng)應(yīng)包括：_ ， _和_及一些必要的管道閥門等。2. X射線衍射法中隨分析樣品的不同可分為適合單晶的_，適合粉末材料和薄膜的_及適合粉體材料的粉末法。3. 薄膜應(yīng)力是薄膜重要的力學(xué)性質(zhì)，它對薄膜的實(shí)際應(yīng)用影響很大，它可以分為_和_。4. 電子衍射圖案對于單晶衍射為_ ，精細(xì)多晶為_，大晶粒多晶且包含織構(gòu)為 _。5. 島狀薄膜的形成過程可分為四個(gè)主要階段，分別為_，_，_，_。6. 溶膠是具有液體特征的膠體體系，分散的粒子是固體或者大分子，分散的粒子大小在 之間。7. 在離子鍍膜成膜過程中，同時(shí)存在_ 和 _，只有當(dāng)前者超過后者時(shí)，才能發(fā)生薄膜的沉積。8. 納米薄膜按結(jié)構(gòu)可以分為：_ ， _和_。得分評(píng)卷人三、簡答題（每小題5分，共40分）1. 什么是化學(xué)氣相沉積？有哪些常見類型？ 2. 要得到質(zhì)量較好的沉積膜，基體應(yīng)滿足什么條件？ 線訂裝3. 什么是離子鍍？離子鍍膜可以分為哪些類別？4. 簡述掃描電鏡的工作原理。5. 簡述薄膜形成與生長的物理過程。線訂裝鄭州輕工業(yè)學(xué)院 / 學(xué)年第 學(xué)期 薄膜材料與薄膜技術(shù)B 試卷專業(yè)年級(jí)及班級(jí)姓名學(xué)號(hào)6.簡述等離子體化學(xué)氣相沉積中等離子體的作用是什么？ 7. 何為有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積？對原料的要求是什么？8. 紅外吸收和拉曼散射的原因是什么？為什么某些分子振動(dòng)隊(duì)紅外吸收敏感，而另一些分子振動(dòng)對拉曼散射敏感？得分評(píng)卷人四、綜合題（每小題10分，共20分）1、試推導(dǎo)二次離子質(zhì)譜儀的工作原理。線訂裝2.