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1、中國計量學(xué)院2011 2012 學(xué)年第2學(xué)期 半導(dǎo)體器件 期中測試開課二級學(xué)院: 光學(xué)與電子科技學(xué)院, 考試時間: 年 月 日 時裝訂線考生姓名: 學(xué)號: 專業(yè): 班級: 題序一二三四五六七八九總分得分評卷人一、填空題(每個空2分,共36分)請在每小題的空格中填上正確答案。1、PN結(jié)的正向電流由 電流、 電流和復(fù)合電流三部分組成。2、根據(jù)柵極結(jié)構(gòu)不同,場效應(yīng)晶體管可分為 、 和 。3、在數(shù)字電路中,使用的雙極性晶體管工作模式包括 和 。4、當(dāng)對PN結(jié)外加正向電壓時,其勢壘區(qū)寬度會 ,勢壘區(qū)的勢壘高度會 。5、晶閘管維持導(dǎo)通狀態(tài)需要滿足的條件包括 和 。6、對于PN結(jié)上的總電容,一般說來PN結(jié)正

2、偏時, 起主要作用;當(dāng)PN結(jié)反偏時 起主要作用。7、金屬-半導(dǎo)體接觸在電學(xué)性能上類似于PN結(jié)中的 結(jié)。8、在雙極性晶體管中,其電流方程式與各區(qū)中的 濃度有關(guān)。9、肖特基勢壘二極管利用 特性制成,其正向電流主要由半導(dǎo)體中的 進入金屬形成。10、高頻雙極性晶體管一般采用 結(jié)構(gòu)。二、名詞解釋(每小題4分,共12分)1、特征頻率2、金屬功函數(shù)3、厄爾利效應(yīng)三、簡答題(每小題6分,共12分)1、晶閘管的特點和優(yōu)勢是什么?主要應(yīng)用于什么領(lǐng)域?什么是寄生PNPN結(jié)構(gòu)?其危害有哪些?2、什么是異質(zhì)結(jié)?異質(zhì)結(jié)晶體管有什么優(yōu)點?與同質(zhì)結(jié)晶體管相比,兩者最大的不同是什么?裝訂線四、作圖題(每小題4分,共16分)(1

3、)畫出均勻摻雜PNP管熱平衡時的能帶圖以及截止模式下的能帶圖。(2)畫出N型半導(dǎo)體與金屬的肖特基接觸在熱平衡狀態(tài)下和正向偏壓下的能帶圖。(3)畫出均勻基區(qū)NPN管熱平衡時的各區(qū)少子分布以及飽和模式下的各區(qū)少子分布。(4)畫出晶閘管結(jié)構(gòu)圖及等效電路圖。五、(共8分)在n溝道GaAs MESFET具有下述參數(shù):qfm=4.71eV,qfs=4.28eV,qc=4.07eV,ND=1.51016cm-3,閾值電壓VT=0.25V,在T=300K時求:(1)金屬一側(cè)的勢壘高度;(2)夾斷電壓VP;(3)溝道深度a。六、(共8分)已知一理想晶體管,IEP=2mA,ICP=1.97mA,IEN=0.1mA,Dp=8.5cm2/s,WB=0.5mm。(1)求基區(qū)渡越時間tB;(2)假設(shè)tB等于載流子穿過晶體管的時間,求特征頻率fT;(3)求共基截至頻率fa。裝訂線七、(共8分)對于一理想PN結(jié),其NA=1017cm-3,ND=1015cm-3,(1)計算溫度在200,300,400,500K時的Vbi,并畫出Vbi

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