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文檔簡介
1、1 模擬電子技術(shù) 2 12 20109自動化08/12電信8/1213 7 3 5 6 5 2 4 11 20109電氣08/1234127 3 7 5 4 2 4 20099電氣07/123412 8 4 7 9 5 2 3 J電氣07/12312 9 5 7 9 6 0 3 J自動化07/123129579603 3 第 一 章 半導(dǎo)體器件 5% 理解半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電機(jī)理(概念) 理解溫度變化對半導(dǎo)體導(dǎo)電能力影響的原因 理解二極管結(jié)構(gòu)和伏安特性(4個區(qū)域) 掌握二極管的單向?qū)щ娦詰?yīng)用(通斷) 理解穩(wěn)壓管穩(wěn)壓原理 理解三極管的結(jié)構(gòu), 掌握三極管的特性放大、飽和、截止區(qū)域, 條件和功能 理解場
2、效應(yīng)管的開啟電壓(絕緣柵) 和夾斷電壓(耗盡型) 學(xué)習(xí)了解、理解、掌握三層次。 4 1.1 1.1 半導(dǎo)體基礎(chǔ)半導(dǎo)體基礎(chǔ) 導(dǎo)體:自然界中很容易導(dǎo)電的物質(zhì)金屬 絕緣體:物質(zhì)幾乎不導(dǎo)電的橡皮、陶瓷、 塑料 半導(dǎo)體:導(dǎo)電特性處于之間的鍺、硅、氧化 物等 導(dǎo)電機(jī)理不同于其它物質(zhì)特點(diǎn) 受光照、熱、電場,磁場的作用,或摻入某些雜質(zhì) (摻雜)導(dǎo)電能力明顯改變。半導(dǎo)體應(yīng)用基礎(chǔ) 從微觀,原子結(jié)構(gòu)認(rèn)識: 導(dǎo)電本質(zhì)帶電粒子定向移動,粒子數(shù)量決定導(dǎo)電能力 最外層電子決定物理(導(dǎo)電)和化學(xué)性能 5 1.1 .1 1.1 .1 本征半導(dǎo)體本征半導(dǎo)體 Si 簡圖 晶體 原子排列整齊,具有某種幾何對稱性的半導(dǎo)體 如:C:碳石
3、墨/鉆石 工業(yè)實(shí)用 本征半導(dǎo)體不含雜質(zhì),晶格完整的半導(dǎo)體 結(jié)合方式(物理過程)示意 6 本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理 +4+4 +4+4 自由電子 負(fù)電粒 子 移動 激發(fā)/復(fù)合 (成對) 空穴 帶正電粒 子 移動 束縛電子 共價鍵 電子對 八個穩(wěn)定 形成晶體 載流子可以運(yùn)動的帶電粒子,即空穴+和自由電子 載流子的數(shù)量受激發(fā)(熱,光,電,磁場) 影響很大。 載流子的數(shù)量決定導(dǎo)電能力。解釋半導(dǎo)體導(dǎo)電機(jī)理 (和導(dǎo)體區(qū)別) 溫度影響:溫度越高,激發(fā)作用越強(qiáng),載流子的濃度越高。半導(dǎo)體 的導(dǎo)電能力越強(qiáng),溫度是影響半導(dǎo)體性能的一個重要的外部因素 7 多余電子自由運(yùn) 動 +4+4 +5+4 N(電
4、子)型半導(dǎo)體 5價磷原子 導(dǎo)電以電子為主 +4+4 +3+4 空穴自由運(yùn)動 P(空穴)型半導(dǎo)體 3價硼原子 導(dǎo)電以空穴為主 載流子:多子:電子(摻雜,激發(fā)) 少子:空穴(激發(fā)) 多子:空穴(摻雜,激發(fā)) 少子:電子(激發(fā)) 空間電荷 不可運(yùn)動 摻雜 8 1.1.3 PN1.1.3 PN結(jié)及其特性結(jié)及其特性 P型半導(dǎo) 體 內(nèi)電場 E(0.7Si/0.3Ge 少子漂移運(yùn)動 N型半導(dǎo) 體 + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + 空間電荷區(qū),耗盡層,阻擋層 結(jié)合濃差多子擴(kuò)散界面復(fù)合,空間電荷區(qū)形成內(nèi)電場E方向(NP) 靜電場作用a.阻礙多子擴(kuò)散,
5、但是擴(kuò)散愈多Er愈強(qiáng);b.利于少子飄移,但飄移愈多E 愈弱動態(tài)平衡,穩(wěn)定.耗盡,阻擋層,空間電荷區(qū)PN結(jié) PN 結(jié) 多子擴(kuò)散運(yùn)動 9 理想理想PNPN結(jié)的單向?qū)щ娦越Y(jié)的單向?qū)щ娦?正向偏置PN結(jié)導(dǎo)通反向偏置PN結(jié)截止 少子漂移電 流(微) (P區(qū)高電位、N區(qū)低電位) (P區(qū)低電位、N區(qū)高電位) 多子擴(kuò)散電流( 大) 10 實(shí)際實(shí)際PNPN結(jié)伏安特性結(jié)伏安特性 u i 導(dǎo)通壓降: 硅管 0.7V 鍺管0.3V 。 反向擊穿電 壓U(BR) 線性工作 區(qū) 門坎區(qū) 死區(qū) 反向飽和 區(qū) 反向擊 穿區(qū) 死區(qū)電壓 硅管0.5V 鍺管0.2V 理想PN結(jié)伏安特性 11 PNPN結(jié)結(jié) 伏安特性溫度影響,曲線變
6、化趨勢伏安特性溫度影響,曲線變化趨勢 ) 1( T U U S eIi T U U Se Ii )300(26KTmVUT u i 反向飽和電流Is 溫度升高 1、反向飽和電流成倍增加很多,單向?qū)щ娦宰儾睿?2、死區(qū)電壓 降低; UT 溫度電壓當(dāng)量 12 PNPN結(jié)結(jié) 的雪崩擊穿和齊納擊穿。的雪崩擊穿和齊納擊穿。 PN結(jié) 的電容效應(yīng)。 13 1.2 1.2 半導(dǎo)體二極管半導(dǎo)體二極管 引 線 外殼 線 觸絲 線 基 片 點(diǎn)接觸型(小電流, 高頻) PN結(jié) 面接觸型(大電流, 低頻) PN結(jié)加上管殼和引線,就成為半導(dǎo)體二極管 。 PN 14 1.2.3 1.2.3 主要參數(shù)主要參數(shù) 1)最大整流電
7、流IF 二極管長期使用時,允許流過的最大正向平均 電流。2)反向擊穿電壓UBR最高反向工作電壓UR 二極管反向擊穿時的電壓值。擊穿時反向電流劇增,二極管 的單向?qū)щ娦员黄茐模踔吝^熱而燒壞。手冊上給出的最高反向工 作電壓UR一般是UBR的一半。 3)反向電流IR 指二極管加反向工作電壓時的反向電流。反向電流大,說明 管子的單向?qū)щ娦圆?,因此反向電流越小越好。反向電流受溫?的影響,溫度越高反向電流越大。硅管的反向電流較小,鍺管的 反向電流要大幾十到幾百倍。 4)最高工作頻率f M 15 1.2.6 1.2.6 主要應(yīng)用主要應(yīng)用 二極管的應(yīng)用是主要利用它的單向?qū)щ娦?。?括整流、限幅、保護(hù)、檢波
8、、開關(guān)、信號處理等等 。 例1:二極管的應(yīng)用 16 例2:二極管的應(yīng)用 (電路分析) 假設(shè)截止法(反證,定二 極管通斷) 1.斷開V, 2.繪V+,V-波形, 3.比較, V+V-二級管導(dǎo)通(短路 處理) V+IC, UCES0.3V稱為 飽和區(qū)。 條件: 發(fā)射結(jié)正偏 集電結(jié)正偏 功能: RCE 0 近似電子開關(guān)接通 飽和區(qū) 29 IC(mA) 1 2 3 4 UCE(V)3 6912 IB=0 20A 40A 60A 80A 100A 此區(qū)域中: IB=0,IC=ICEO UBE死區(qū)電壓 ,稱為截止區(qū) 。 條件: 發(fā)射結(jié)反偏 集電結(jié)反偏 功能: RCE 近似電子開關(guān)斷開 截止區(qū) 30 1 1
9、.3.4 .3.4 主要參數(shù)主要參數(shù) 1 性能參數(shù) 1)共基電流放大系數(shù) =Ic/Ie=IC/IE 2)共射電流放大系數(shù) =Ic/Ib=IC/IB(一 般40-200) 3).集-基反向飽和電流ICBO(CB之間PN結(jié)反向 電流,A級) 4).穿透電流ICEO=(1+) ICBO溫度.噪聲 IC=+ICBO 5) 特征頻率fT 三極管的下降帶1時的頻率 31 IC UCE ICUCE=PCM ICM U(BR)CEO 安全工作區(qū) 2 )極限參數(shù) 4.集電極最大電流ICM 5.集射反向擊穿電壓UCEO。UEBO。 。UCBO 6.集電極最大耗散功率PCM 32 溫度對三極管參數(shù)影響 33 1.4
10、 1.4 場效應(yīng)管場效應(yīng)管 FET 特點(diǎn):(1)場效應(yīng)管只有一種極性的載流子(電子或者空穴)參 與導(dǎo)電,所以場效應(yīng)管有時又稱為單極型晶體管。 (2)場效應(yīng)管是電壓控制器件,它的輸入阻抗高達(dá)1071014,基 本不需信號源提供輸入電流。 場效應(yīng)管的主要缺點(diǎn)是放大能力較低。 場效應(yīng)管具有三極管體積小、重量輕、耗電省 、壽命長的優(yōu)點(diǎn)、噪聲低、熱穩(wěn)定性好、抗輻 射能力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn), 效應(yīng)管類型較多,電壓極性要求和特性曲線各 不相同,工程上可方便靈活選用 34 場效應(yīng)管場效應(yīng)管 分類分類 N溝道MOS管 結(jié)型 P溝道MOS管 場效應(yīng)管 增強(qiáng)型N溝道MOS管 絕緣柵型P溝道MOS管 耗盡型N溝道MOS管 P溝
11、道MOS管 35 1.2.6 1.2.6 結(jié)型結(jié)型?/ 36 1.4 絕緣柵型場效應(yīng)管絕緣柵型場效應(yīng)管 1.4.1基本結(jié)構(gòu) N溝道 P溝道 增強(qiáng)型N溝道 耗盡型N溝道 增強(qiáng)型P溝道 耗盡型P溝道 耗盡/增強(qiáng)型;N/P溝道 區(qū)分: 37 1.4 . 2 工作原理工作原理-1-1 在漏極和源極之間加上電壓UDS, 由于N+漏區(qū)和N+源區(qū)與P型襯底 之間形成兩個PN結(jié),無論UDS極 性如何,兩個PN結(jié)中總有一個因 反向偏置而處于截止?fàn)顟B(tài), 漏極和源極沒有導(dǎo)電通道, 漏極電流ID為零。 UDS 導(dǎo)電通道形成-場效應(yīng) 38 1.4 . 2 工作原理工作原理-2-2 正向電壓UGS,由于柵極鋁片與P型襯底
12、 之間為二氧化硅絕緣體,它們構(gòu)成一個 電容器,UGS在二氧化硅絕緣體產(chǎn)生一個 垂直于襯底表面的電場,電場方向向下, 由于二氧化硅絕緣層很薄,產(chǎn)生的電場 強(qiáng)度很大(V/M)在電場作用下,P襯 底中的電子被吸引到表面層。當(dāng)UGS較小 時,吸引到表面層中的電子很少,而且 立即被空穴復(fù)合,只形成不能導(dǎo)電的耗 盡層。 當(dāng)UGSUGSON時,吸引到表面層中的電子, 除填滿空穴外,多余的電子在原為P型半 導(dǎo)體的襯底表面形成一個自由電子占多數(shù) 的N型層,故稱為反型層。反型層溝通了 漏區(qū)和源區(qū),成為它們之間的導(dǎo)電溝道。 開啟電壓UGS(TH)使增強(qiáng)型場效應(yīng)管剛開始形成導(dǎo)電溝道的臨界電壓 。 夾斷電壓UGS(OF
13、F)耗盡型場效應(yīng)管導(dǎo)電溝道剛開始斷開的臨界電壓 39 1.4 . 2 工作原理工作原理-3-3 如果加上柵源電壓UGSUGSON后, 在漏區(qū)和源區(qū)形成了導(dǎo)電溝道,同 時再加上漏源電壓UDS0,導(dǎo)電溝 道形狀會變成逐漸減小的楔形形狀. 這是因?yàn)閁DS使得柵極與溝道不同位 置間的電位差變得不同,靠近源極一 端的電位差最大為UGS;靠近漏極一 端的電位差最小為UGD=UGSUDS, 反型層為楔型的不均勻分布。 40 1.4 . 2 工作原理工作原理-4-4 改變柵極電壓UGS,就能改變導(dǎo)電溝道的厚薄和 形狀,即改變導(dǎo)電溝道的電阻值,實(shí)現(xiàn)對漏極 電流ID的控制作用。與三極管的不同之處是: 三極管是由I
14、B來控制IC的,是電流控制元件。 場效應(yīng)管是由UGS來控制ID的,故為電壓控制元件, UGS對ID的控制能力可通過跨導(dǎo)gm來表示。 gm=UDS=常數(shù) 當(dāng)UDS繼續(xù)增加,UGD=UGSUDS減小,溝道在接近漏極 處消失,結(jié)果楔形導(dǎo)電溝道如圖所示,這時的狀態(tài) 稱為預(yù)夾斷。預(yù)夾斷不是完全將導(dǎo)電溝道夾斷,而是 允許電子在導(dǎo)電溝道的窄縫中以高速流過,保證溝道 電流的連續(xù)性。管子預(yù)夾斷后,UDS在較大范圍內(nèi)變化 時,ID基本不變,進(jìn)入恒流區(qū)。 增強(qiáng)型場效應(yīng)NMOS管導(dǎo)通的條件為:UGSUGS(TH) UDS UGS0 | GS D U I GS D U I 41 1.4.3 1.4.3 場效應(yīng)管特性曲線
15、場效應(yīng)管特性曲線 1轉(zhuǎn)移特性 在UDS一定時,漏極電流ID與柵源電壓 UGS之間的關(guān)系ID=f(UGS) 當(dāng)柵源電壓小于開啟電壓時, 漏極電流為零 (0UGSUGS(TH),ID=0) 開啟電壓增強(qiáng)型場效應(yīng)管剛開始形成導(dǎo)電溝道的臨界電壓UGS(TH) 夾斷電壓耗盡型場效應(yīng)管導(dǎo)電溝道剛開始斷開的臨界電壓UGSOFF 開啟和夾斷電壓的極性! 當(dāng)柵源電壓大于開啟電壓時(UGSUGS(TH)),漏極與柵極之間有了導(dǎo)電溝 道,產(chǎn)生漏極電流ID,隨著UGS增加,導(dǎo)電溝道加寬,溝道電阻減小,漏極 電流ID隨著UGS增加而迅速增加。反映了柵源電壓UGS的對漏極電流ID控制作用 42 1 1.4.6 .4.6
16、輸出特性(漏極特性)輸出特性(漏極特性) (1)可變電阻區(qū)(): UGS控制著場效應(yīng)管的溝道寬度,UGS一定時,溝 道電阻基本不變。 隨著UDS的增加,ID近似線形地增加。D、S間可等效成一個由UGS 控制的可變電阻。 (2)恒流區(qū)():場效應(yīng)管已經(jīng)進(jìn)入預(yù)夾斷狀態(tài),UDS增加,ID只略有增 加,ID的大小主要受UGS控制,可以把ID近似等效成一個受UGS控制 的電流源,且ID隨著UGS線形增長,故又稱為線形放大區(qū)。 (3)擊穿區(qū)():隨著UDS進(jìn)一步增加到一定的數(shù)值時,漏極與襯底的 反向PN結(jié)被擊穿,ID突然迅速上升,功耗急劇增大。 ID=f(UDS)|UGS= 常數(shù) 43 1.4.3 1.4
17、.3 直流直流主要參數(shù)主要參數(shù) 1開啟電壓UGS(TH):增強(qiáng)型MOS管的UDS為一定 值時,產(chǎn)生某 一微小電流ID所需要|UGS|的最小值 。 2夾斷電壓UGSOFF:耗盡型MOS管的UDS為一定 值時,使ID 等于某一微小電流所對應(yīng)的|UGS|值 。 3飽和漏極電流IDSS:耗盡型,UGS=0,管子發(fā) 生預(yù)夾斷 時的漏極電流。 (測試條件: UGS=0,U DS=10V時的ID= IDSS) 4直流輸入電阻RGS:表示柵極和源極的直流電阻 。 絕緣柵型的柵、源極之間是二氧化硅的絕緣 層, RGS可高達(dá)1091017。 44 1.4.3 1.4.3 交流主要參數(shù)交流主要參數(shù) 1跨導(dǎo)gm:表示柵源電壓UGS對漏極電流ID控制作 用的大小的 參數(shù)。在UDS在一定數(shù)值的條件下,UGS的微 小變化量引 起的I D微小變化量的比值。單位為A/V或 mA/V。 gm=UDS=常數(shù) 2.交流輸出電阻: | GS D U I
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