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文檔簡(jiǎn)介

1、腦電的歷史 1875年caton首次描記出動(dòng)物大腦皮層的電位 1890年back證明腦電活動(dòng)是獨(dú)立存在的 1912年kaufman證明腦電是一種自發(fā)電位,并通過動(dòng)物實(shí)驗(yàn)癲癇模型記錄了癲癇放電 1924年hans berger首次使用頭皮電極描記了人類的腦電活動(dòng) 1936年以后隨著腦電圖技術(shù)的完善在臨床得到廣泛的應(yīng)用腦電圖的適應(yīng)證 中樞神經(jīng)系統(tǒng)疾病,特別是發(fā)作性疾病,如癲癇 癲癇手術(shù)治療的術(shù)前定位 圍產(chǎn)期異常的新生兒監(jiān)測(cè) 腦外傷及大腦手術(shù)后監(jiān)測(cè) 危重病人監(jiān)測(cè) 睡眠障礙 腦死亡的判定 eeg是用來建立癲癇診斷的僅有的2種客觀手段之一(另外是meg,但不作為常規(guī)檢查使用),可以通過異常放電的表現(xiàn)確定

2、癲癇發(fā)作的類型,有助于對(duì)局灶性癲癇進(jìn)行定位。還有助于觀察抗癲癇藥物的有效性腦電圖的禁忌證 顱腦外傷及顱腦手術(shù)后頭皮破裂或手術(shù)切口未愈合時(shí) 對(duì)正在服用抗癲癇藥物的病人進(jìn)行常規(guī)腦電圖檢查時(shí),一般不應(yīng)減藥、停藥,避免導(dǎo)致病情反復(fù)及可能出現(xiàn)的癲癇持續(xù)狀態(tài) 苯二氮卓類藥物可能使eeg產(chǎn)生大量快波而影響判讀,可在eeg檢查前一天停藥,而繼續(xù)服用其他抗癲癇藥物 例外的情況是在進(jìn)行外科手術(shù)前的癲癇源定位時(shí),需要減藥甚至停藥以獲得發(fā)作期eeg為目的,并非常規(guī)檢查 電極的安裝 10-20國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng) 在矢狀位上以鼻根(nasion)和枕后粗隆(inion)作為基準(zhǔn) 在冠狀位以雙側(cè)的外耳孔為基準(zhǔn),通過頭頂正中點(diǎn)(c

3、z)的連線各分為兩個(gè)10%和四個(gè)20%加以分割 以cz為中心,在頭頂形成數(shù)個(gè)同心圓,電極均勻放置并標(biāo)記各電極的名稱 在安放時(shí)左側(cè)的f3為f7與fz的中點(diǎn),p3為t5與pz的中點(diǎn),右側(cè)的f4與p4也以同樣方法安放 前額區(qū)(fp):位于雙眼瞳孔的上方,其連線與鼻根部的距離占矢狀位聯(lián)線的10% 中額區(qū)(f):位于前額區(qū)和中央?yún)^(qū)等距離之點(diǎn),各占矢狀位連線的20% 中央?yún)^(qū)(c):位于鼻根與枕后粗隆形成的連線與雙側(cè)外耳孔形成的連線的交會(huì)點(diǎn)(即百會(huì)穴)旁開3cm 頂區(qū)(p):位于枕區(qū)與中央?yún)^(qū)等距離之點(diǎn),各占20% 枕區(qū)(o):位于枕后粗隆上方(占10%)并旁開各3cm 前顳區(qū)(ta):位于眼外眥與耳屏水平等

4、距離之點(diǎn) 中顳區(qū)(tm):位于外耳孔上方(距外耳孔的距離占雙外耳孔連線的10%) 后顳區(qū)(tp):位于枕區(qū)與中顳區(qū)等距離之點(diǎn) 額中央(fz):位于額部中線位置,距雙側(cè)中額區(qū)各3cm 中央(cz):位于鼻根與枕后粗隆形成的連線與雙側(cè)外耳孔形成的連線的交會(huì)點(diǎn)(即百會(huì)穴) 頂中央(pz):位于頂部中線位置,距離雙側(cè)頂區(qū)各3cm 導(dǎo)聯(lián)耳極導(dǎo)聯(lián)平均導(dǎo)聯(lián)耳極導(dǎo)聯(lián)平均導(dǎo)聯(lián)1fp1-a1fp1-avfp1-a1fp1-av2fp2-a2fp2- avfp2-a2fp2- av3f3-a1f3- avf3-a1f3- av4f4-a2f4- avf4-a2f4- av5c3-a1c3- avc3-a1c3- a

5、v6c4-a2c4- avc4-a2c4- av7p3-a1p3-avp3-a1p3-av8p4-a2p4-avp4-a2p4-av9o1-a1o1-avo1-a1o1-av10o2-a2o2-avo2-a2o2-av11f7-a1f7-avf7-a1f7-av12f8-a2f8-avf8-a2f8-av13t5-a1t5-avt5-a1t5-av14t6-a2t6-avt6-a2t6-av15t7-a1t7-avt7-a1t7-av16t8-a2t8-avt8-a2t8-av17pz-a2pz-av18cz-a2cz-av18導(dǎo)聯(lián)16導(dǎo)聯(lián)單極導(dǎo)聯(lián)導(dǎo)聯(lián)123456789101112131415

6、161718縱聯(lián)fp1-f7f7-t3t3-t5fp1-f3f3-c3c3-p3p3-o1fz-czcz-pzfp2-f8f8-t4t4-t6fp2-f4f4-c4c4-p4p4-o2o2-o1o1-t5橫聯(lián)a1-f7f7-f3f3-fzfz-f4f4-f8f8-a2a1-t3t3-c3c3-czcz-c4c4-t4t4-a2t5-p3p3-pzpz-p4p4-t6fp1-fp2o1-o2環(huán)聯(lián)o1-t5t5-t3t3-f7f7-fp1fp1-fp2fp2-f8f8-t4t4-t6t6-o2o2-o1fz-f7f7-f8f8-fzcz-t3t3-t4t4-czfz-czcz-pz縱聯(lián)fp1-f7

7、f7-t3t3-t5fp1-f3f3-c3c3-p3p3-o1fz-czcz-pzfp2-f8f8-t4t4-t6fp2-f4f4-c4c4-p4p4-o2橫聯(lián)a1-f7f7-f3f3-fzfz-f4f4-f8f8-a2a1-t3t3-c3c3-czcz-c4c4-t4t4-a2t5-p3p3-pzpz-p4p4-t6環(huán)聯(lián)o1-t5t5-t3t3-f7f7-fp1fp1-fp2fp2-f8f8-t4t4-t6t6-o2o2-o1fz-f7f7-f8f8-fzcz-t3t3-t4t4-cz18導(dǎo)聯(lián)16導(dǎo)聯(lián)雙極導(dǎo)聯(lián)腦電圖的基本內(nèi)容頻率波幅波形位相出現(xiàn)方式出現(xiàn)部位生理反應(yīng)性腦電圖的基本內(nèi)容 頻率(次

8、/秒,hz) 頻帶:0.5-3hz,額部(少量) 頻帶:4-7hz,顳部(少量) 頻帶:8-13hz,頂枕 頻帶:14-17hz,額 頻帶:18-30hz,額、中央 頻帶:30hz,額,前中央 14hz波可統(tǒng)稱波或快波 這些頻帶均可見于正常人。腦電圖的基本內(nèi)容 波幅(微伏,v) 低波幅:25微伏 中波幅:25-50或25-75微伏 高波幅:50(快波)或75微伏 一般常用的定標(biāo)為1mm1 v腦電圖的基本內(nèi)容 波形 1 單型波 正弦樣波:上升支及下降支光滑對(duì)稱。正常波、波、波的主要波形,波也可以為正弦樣波 棘波:上升支陡峭,下降支稍有坡度,周期小于80ms,紙速為30mm/s時(shí)小于2mm 尖波:

9、波形與棘波相似,時(shí)限80-200ms。棘波和尖波為異常波,最常見于癲癇,但不能稱之為癲癇波。 三相波:頻率常為2-3hz,常見于代謝性腦病。 波:出現(xiàn)于注視復(fù)雜圖形時(shí),常位于枕部,3-5hz,高波幅的正相三角波,閉目時(shí)消失。 2 復(fù)合波 復(fù)形波:波上重疊有或頻帶內(nèi)的小波,常見于皮層下病變。 復(fù)合波: 棘(尖)慢波綜合:由一個(gè)棘(尖)波與一個(gè)2-5hz的慢波組成。異常波。 多棘慢波綜合:一個(gè)以上棘(尖)波與一個(gè)慢波組成。異常波。 k-綜合波:一個(gè)高波幅1hz左右的慢波。繼之以12-14hz節(jié)律,出現(xiàn)于深睡中。 手套型波:睡眠中額部最后一組睡眠紡錘組成,其最后一個(gè)波為6-12hz,類似手套之拇指,

10、其前方的睡眠紡錘相當(dāng)于其它各指。也可見于錐體外系疾患。含義有爭(zhēng)議,目前的腦電圖分析中,已很少提及。 梳型節(jié)律:7-11hz,中央?yún)^(qū)明顯,為正常節(jié)律。腦電圖的基本內(nèi)容 位相 同步或同時(shí)相 負(fù)相(陰性) 正相(陽性) 位相倒置(慢波) 針鋒相對(duì)(尖波)只有在雙極導(dǎo)聯(lián)出現(xiàn)腦電圖的基本內(nèi)容 出現(xiàn)方式 波:?jiǎn)蝹€(gè)形式出現(xiàn) 活動(dòng):數(shù)個(gè)相鄰的波有相似之處時(shí)稱為活動(dòng)。 節(jié)律:3個(gè)以上相同波連續(xù)出現(xiàn)。按持續(xù)時(shí)間分短程(3s)。 散在:?jiǎn)蝹€(gè)波的形式無規(guī)則的出現(xiàn)。 偶見:在全部描記中僅出現(xiàn)1-2次。 周期性:某種腦波有規(guī)則的間隔反復(fù)出現(xiàn)。 同步性或非同步性 爆發(fā)性:某種腦波突然出現(xiàn)、突然消失并突出于背景活動(dòng)。 高度失率:異常波既不對(duì)稱也不同步。腦電圖的基本內(nèi)容 出現(xiàn)部位 廣泛性:遍布兩側(cè)半球各區(qū),基本對(duì)稱。 彌散性:遍布兩側(cè)半球各區(qū)

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