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認(rèn)證類(lèi)型：個(gè)人認(rèn)證

認(rèn)證主體：吳**（實(shí)名認(rèn)證）

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IP屬地：湖北 上傳時(shí)間：2021-10-15 格式：DOC 頁(yè)數(shù)：9 大?。?.04MB 積分：30 舉報(bào) 版權(quán)申訴

1、2016學(xué)年度第一學(xué)期 姓 名 張 鑫 學(xué) 號(hào) 03160125院（所、部） 化工學(xué)院 年 級(jí) 2016級(jí)專(zhuān) 業(yè) 工程碩士 研究方向 化學(xué)工程課 程 專(zhuān)利實(shí)務(wù)與專(zhuān)利申請(qǐng) 考試方式 論文主考教師評(píng)語(yǔ)成績(jī)主考教師簽名：2016年10月8日技 術(shù) 交 底 書(shū)編號(hào): 專(zhuān)利發(fā)明人填寫(xiě)發(fā) 明 人 填 寫(xiě)第一發(fā)明人張 鑫手箱Zx8387座機(jī)(總機(jī)+分機(jī))技術(shù)問(wèn)題聯(lián)系人手機(jī)郵箱座機(jī)(總機(jī)+分機(jī))發(fā)明名稱(chēng)一種柔性基板及基于該基板的OLED關(guān)鍵詞（35個(gè)）中文柔性，有機(jī)電致發(fā)光器件，底發(fā)射，網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)英文相關(guān)性分析（本領(lǐng)域現(xiàn)有技術(shù)的介紹，最好有最接近的現(xiàn)有技術(shù)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)柣蛘邔?zhuān)利號(hào)）目前柔

2、性O(shè)LED采用的陽(yáng)極材料為PEDOT，但是PEDOT的導(dǎo)電性不佳，所以需要在電極下面制備電流匯集層，制備電流匯集層之后，陽(yáng)極表面的平整性會(huì)受到影響，平整性太差會(huì)影響OLED的性能，甚至使OLED不能點(diǎn)亮，專(zhuān)利201210076439.3 介紹了一種制備超平滑陽(yáng)極結(jié)構(gòu)的柔性O(shè)LED的方法，本專(zhuān)利采用在該專(zhuān)利的基礎(chǔ)上加上沉積、曝光、顯影等工藝使電流匯集層嵌入柔性襯底里面，獲得擁有電流匯集層的平整的柔性襯底。摘要代表性附圖本發(fā)明提供了一種柔性基板及基于該基板的OLED，該柔性基板采用成膜、曝光、旋涂和脫模工藝制得，制得的柔性基板表面有一層網(wǎng)狀匯流層，該網(wǎng)狀匯流層嵌入柔性基板里面，該網(wǎng)狀匯流層在保證高

3、透過(guò)率的同時(shí)，提高了電流的傳導(dǎo)能力，由于該柔性基底的制備工藝，使得該柔性襯底表面的粗糙度非常小，有利于載流子的注入，使得該柔性基底有利于提升OLED的發(fā)光效率?；谠撊嵝曰椎腛LED包括柔性基底、陽(yáng)極、有機(jī)層、陰極，陽(yáng)極為導(dǎo)電高分子材料。技術(shù)領(lǐng)域（寫(xiě)明要求保護(hù)的技術(shù)方案所屬的技術(shù)領(lǐng)域）本發(fā)明涉及一種柔性基板及基于該基板的OLED，屬于光電子技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)（背景技術(shù)是指本技術(shù)交底書(shū)的基礎(chǔ)技術(shù)或者方法或結(jié)構(gòu)與本技術(shù)交底書(shū)最近似的技術(shù)。寫(xiě)明對(duì)技術(shù)方案的理解、檢索有用的背景技術(shù)，有可能的，并引證反映這些背景技術(shù)的文件；記載現(xiàn)有技術(shù)的出處，即參考文獻(xiàn)、專(zhuān)利公開(kāi)號(hào)，并且詳細(xì)說(shuō)明現(xiàn)有技術(shù)的實(shí)施情況；客

4、觀(guān)指出現(xiàn)有技術(shù)的不足之處與存在的問(wèn)題。）到目前為止，實(shí)際應(yīng)用的顯示器主要有陰極射線(xiàn)管（CRT），液晶顯示器（LCD）、真空熒光器件（VFD）、等離子顯示器（PDP）、有機(jī)電致發(fā)光器件（OLED）、場(chǎng)發(fā)射顯示器（FED）和電致發(fā)光顯示器（ELD）等。OLED作為新型的平板顯示器與LCD相比，具有薄、輕、寬視角、主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光顏色連續(xù)可調(diào)、成本低、響應(yīng)速度快、能耗小、驅(qū)動(dòng)電壓低、工作溫度范圍寬、生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單、發(fā)光效率高及可柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)。OLED正是由于具有其他顯示器不可比擬的優(yōu)勢(shì)以及美好的應(yīng)用前景得到了產(chǎn)業(yè)界和科學(xué)界的極大關(guān)注。在OLED的各項(xiàng)功能層，電極材料的選擇非常重要，大部分用于OLED的

5、有機(jī)材料的LUMO能級(jí)在2.5eV-3.5eV,HOMO能級(jí)在5eV-6eV,因此陰極是一個(gè)低功函數(shù)的金屬，陽(yáng)極需要一個(gè)高功函數(shù)的材料去配合，才能得到最低的注入能壘，選擇陽(yáng)極材料時(shí)，要求良好的導(dǎo)電性、化學(xué)及形態(tài)的穩(wěn)定性、功函數(shù)和空穴傳輸材料的HOMO能級(jí)匹配、可見(jiàn)光的透明度，最常用的透明導(dǎo)電聚合物為ITO，該類(lèi)材料擁有上述的優(yōu)點(diǎn)，但是ITO也有相關(guān)的缺點(diǎn)，比如價(jià)格比較昂貴，而且有實(shí)驗(yàn)證明ITO會(huì)影響OLED的壽命，不僅如此，在柔性顯示中，ITO的濺鍍會(huì)影響柔性基底的平整性，柔性顯示中，反復(fù)的折疊會(huì)導(dǎo)致ITO從基底表面脫落，進(jìn)而影響OLED的壽命PEDOT具有分子結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、能隙小、電導(dǎo)率高等特點(diǎn)

6、，被廣泛用作有機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池材料、OLED材料、電致變色材料、透明電極材料等領(lǐng)域的研究。PEDOT有以下這些優(yōu)點(diǎn)： (1) 導(dǎo)電率高。用旋涂或者澆鑄成膜得到的PEDOT其電導(dǎo)率能達(dá)到550S/cm，用氣相聚合法得到的聚合物更是達(dá)到1000S/cm以上； (2) 氧化狀態(tài)下具有很高的穩(wěn)定性。在120下保持1000h，其電導(dǎo)率基本不變； (3) 氧化狀態(tài)下，PEDOT的薄層幾乎是透明的，這是它在電子器件方面得到廣泛應(yīng)用的一個(gè)重要因素。采用一種水溶性的高分子電解質(zhì)聚苯乙烯磺酸(PSS)摻雜解決了PEDOT的加工問(wèn)題，獲得的PEDOT/PSS膜具有高電導(dǎo)率、高機(jī)械強(qiáng)度、高可見(jiàn)光透射率和優(yōu)越的穩(wěn)定性等

7、，PEDOT/PSS用作電極時(shí)，雖然相比于其它導(dǎo)電聚合物，導(dǎo)電率較高，但是相比于金屬和ITO還是有一定差距，因此一般都會(huì)在底部增加一層電流匯集層，電流匯集層會(huì)增加陽(yáng)極的導(dǎo)電性，降低OLED起始電壓，但是也會(huì)導(dǎo)致陽(yáng)極表面平整度降低，本發(fā)明增加了陽(yáng)極表面的平整度，有助于增加陽(yáng)極表面的載流子注入能力。發(fā)明內(nèi)容要解決的技術(shù)問(wèn)題和有益的技術(shù)效果（盡可能多的列舉本技術(shù)交底書(shū)相比較現(xiàn)有技術(shù)帶來(lái)的有益技術(shù)效果，要與最接近現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行對(duì)比描寫(xiě)）本發(fā)明提供了一種柔性基板及基于該基板的OLED，該柔性基板采用成膜、曝光、旋涂和脫模工藝制得，制得的柔性基板表面有一層網(wǎng)狀匯流層，該網(wǎng)狀匯流層嵌入柔性基板里面，該柔性基板

8、有如下優(yōu)點(diǎn)：1. 該柔性基板的制備工藝簡(jiǎn)單，使用該柔性基板的OLED可以采用導(dǎo)電高分子材料為陽(yáng)極，有助于提升柔性O(shè)LED的使用壽命 。2. 含有電流匯集層，該電流匯集層有助于提升陽(yáng)極的導(dǎo)電能力，當(dāng)制備成OLED后，有助于降低器件的起始電壓。3. 表面平整度高，當(dāng)制備成OLED后，使得陽(yáng)極表面的平整度高，有助于提升載流子傳輸能力。所有的實(shí)施方式（盡可能的多寫(xiě)幾個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式,。如果涉及產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，必須結(jié)合附圖描述各部件及各部件的安裝關(guān)系,給出各部件的領(lǐng)域內(nèi)專(zhuān)業(yè)名稱(chēng)，各部件名稱(chēng)在前后描述中要保持一致，并在各部件后加上附圖標(biāo)記。如果涉及方法或工藝流程，請(qǐng)?jiān)敿?xì)描述方法工藝的步驟過(guò)程以及各步驟中所參與或

9、應(yīng)用到的部件名稱(chēng)及其結(jié)構(gòu)；如果方法或工藝中涉及體現(xiàn)發(fā)明點(diǎn)的工藝制造條件，例如：溫度、濕度等取值范圍也需要盡可能地提供，并請(qǐng)?zhí)峁┝鞒谈綀D，結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明實(shí)施方式。）本發(fā)明提供了一種柔性基板及基于該基板的OLED，該柔性基板采用成膜、曝光、旋涂和脫模工藝制得，制得的柔性基板表面有一層網(wǎng)狀匯流層，該網(wǎng)狀匯流層嵌入柔性基板里面，該網(wǎng)狀匯流層在保證高透過(guò)率的同時(shí)，提高了電流的傳導(dǎo)能力，該柔性基底的具體結(jié)構(gòu)如下：該柔性基板的制作方法為：1） 在洗干凈的SiO2絕緣層的Si襯底上，采用蒸鍍或者旋涂等方法沉積一層金屬薄膜；2） 采用曝光、刻蝕的方法將金屬薄膜變成網(wǎng)狀半透明結(jié)構(gòu)；3） 在金屬半透明結(jié)構(gòu)表面旋涂

10、光敏聚合材料；4） 對(duì)光敏聚合物材料進(jìn)行紫外光處理使其固化；5） 將固化后的光敏聚合物從襯底上剝離，得到帶有金屬網(wǎng)狀半透明層的柔性基底。制備基底所用的光敏聚合材料體系包括苯乙烯類(lèi)、丙烯酸類(lèi)、丙烯酸酯類(lèi)、環(huán)氧樹(shù)脂類(lèi)、不飽和聚酯類(lèi)、酰胺類(lèi)或醋酸乙烯類(lèi)材料體系；每一光敏可聚合材料體系包括單體、預(yù)聚物和光引發(fā)劑；聚合類(lèi)型是自由基型、陰離子型或陽(yáng)離子型，光敏材料的旋涂厚度為0.3-0.8mm。本發(fā)明不僅包括該柔性基底、該柔性基底的制備方法，而且包括基于該柔性基底的OLED，該柔性O(shè)LED的結(jié)構(gòu)如圖：由于該柔性基底表面包括一層金屬網(wǎng)狀半透明層，該層增加了OLED陽(yáng)極的電流匯集能力，所以基于該柔性基底的OL

11、ED的陽(yáng)極可以采用比較薄的金屬或者其他導(dǎo)電高分子材料。由于該柔性基底的制備工藝，使得該柔性襯底表面的粗糙度非常小，有利于陽(yáng)極載流子的注入，使得該柔性基底有利于提升OLED的發(fā)光效率。附圖說(shuō)明有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明及技術(shù)內(nèi)容，現(xiàn)配合附圖說(shuō)明如下：圖1 為該柔性基底的三維圖圖2 本發(fā)明所述的柔性基底的制備流程；圖 3為基于該柔性襯底的OLED；圖 4為圓形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的柔性基底；圖 5為環(huán)形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的柔性基底；（1為表面帶有SiO2層的Si基板，21為刻蝕前的金屬薄膜層，22為刻蝕后的網(wǎng)狀金屬薄膜層，31為固化前的光敏聚合材料，32為固化后的光敏聚合材料，4為OLED陽(yáng)極導(dǎo)電高分子材料，5為OLED有機(jī)

12、層，6為OLED陰極）具體實(shí)施方式實(shí)施例1柔性基板的制備：1） 在洗干凈的SiO2絕緣層的Si襯底上，采用蒸鍍或者旋涂等方法沉積一層金屬薄膜Ag，厚度為20 nm；2） 采用曝光、刻蝕的方法將金屬薄膜變成網(wǎng)狀半透明結(jié)構(gòu)，所述的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)為矩形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，具體結(jié)構(gòu)如圖1所述；3） 在襯底表面旋涂光刻膠NOA63，旋涂速度為1000rpm，旋涂時(shí)間為20s，旋涂厚度為0.7mm；4） 對(duì)光敏聚合物材料進(jìn)行紫外光處理3min；5） 由于金屬材料與聚合物的粘著性大于金屬材料與SiO2的粘著性，將固化后的光敏聚合物從襯底上剝離，得到帶有金屬網(wǎng)狀半透明層的柔性基底。OLED的制備：本發(fā)明柔性襯底/PEDOT:

13、PSS(40 nm)/ EML(70 nm)/TPBI(30 nm) /CsF(1.5 nm)/AL(120 nm)，EML共混比例為，PVK:PBD: FIrpic=70:30:1A) 在柔性襯底表面旋涂一層PEDOT:PSS膜，蒸鍍厚度為100nm。B) 旋涂過(guò)PEDOT:PSS的基片在真空烘箱里80干燥8h后，轉(zhuǎn)移至充滿(mǎn)氮?dú)獾氖痔紫淅镏谱靼l(fā)光層，實(shí)驗(yàn)中所用PVK、PBD用氯苯溶解，旋涂厚度為70nm，PVK、PBD 與銥配合物的比例為PVK:PBD: FIrpic =70:30:1。C) 在小于310-4 Pa的高真空下，以熱蒸發(fā)沉積的方式，蒸鍍約厚的CsF(1.5 nm)/Al(120

14、 nm)作為陰極。實(shí)施例2具體的實(shí)施方法與實(shí)施例1類(lèi)似，不同的是網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)為圓形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，如圖4所述。實(shí)施例3具體的實(shí)施方法與實(shí)施例1類(lèi)似，不同的是網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)為環(huán)形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，如圖5所述。最后應(yīng)說(shuō)明的是，以上實(shí)施例子僅用以說(shuō)明本新型的技術(shù)方案而非限制，盡管參照較佳實(shí)施例子對(duì)本專(zhuān)利進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，按照需要可以使用不同的材料和設(shè)備實(shí)現(xiàn)之，即可以對(duì)本新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和范圍?？商娲募夹g(shù)方案（可完成與上述技術(shù)方案同樣功能實(shí)現(xiàn)同樣效果的技術(shù)方案）（如果有請(qǐng)寫(xiě)出替代方案的要點(diǎn)、優(yōu)缺點(diǎn)；如果沒(méi)有請(qǐng)?zhí)顚?xiě)“無(wú)”）附圖（用圖片正確地表示發(fā)

15、明內(nèi)容。附圖統(tǒng)一用圖1、圖2、圖3.在每幅附圖下方標(biāo)示；對(duì)圖片內(nèi)容，采用阿拉伯?dāng)?shù)字1、2、3等附圖標(biāo)記對(duì)每幅附圖中的部件進(jìn)行標(biāo)示；多幅附圖時(shí)，各附圖中的同一技術(shù)特征或同一對(duì)象，應(yīng)使用同一個(gè)標(biāo)記。在所有附圖繪制完成后，統(tǒng)一填寫(xiě)附圖說(shuō)明和附圖標(biāo)記，用cad格式。）圖1 為該柔性基底的三維圖圖2 本發(fā)明所述的柔性基底的制備流程；圖 3為基于該柔性襯底的OLED；圖 4為圓形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的柔性基底；圖 5為環(huán)形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的柔性基底；著重保護(hù)的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)（根據(jù)上述填寫(xiě)內(nèi)容，說(shuō)明本技術(shù)交底書(shū)著重保護(hù)的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)，即最主要的發(fā)明點(diǎn))1.本發(fā)明提供了一種柔性基板及基于該基板的OLED，該柔性基底的具體結(jié)構(gòu)如下：2. 如權(quán)利要求書(shū)1所述的柔性基板，其特征在于該柔性基板的制作方法為：1) 在洗干凈的SiO2絕緣層的Si襯底上，采用蒸鍍或者旋涂等方法沉積一層金屬薄膜；2) 采用曝光、刻蝕的方法將金屬薄膜變成網(wǎng)狀半透明結(jié)構(gòu)；3) 在金屬半透明結(jié)構(gòu)表面旋涂光敏聚合材料；4) 對(duì)光敏聚合物材料進(jìn)行紫外光處理使其固化；5) 將固化后的光敏聚合物從襯底上剝離，得到帶有金屬網(wǎng)狀半透明層的柔性基底。3.如權(quán)利要求書(shū)