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1、晶體管原理復(fù)習(xí)CH2. 雙極型晶體管(BJT)1 名詞解釋基區(qū)寬度調(diào)變效應(yīng)(厄利效應(yīng));基區(qū)擴展效應(yīng)(kirk 效應(yīng));發(fā)射結(jié)電流集邊效應(yīng) 2下圖為pnp雙極型晶體管的載流子輸運示意圖)試根據(jù)圖示定義定義該晶體管的共基電流增益,共射電流增益,注入效率,基區(qū)輸運系數(shù)。)證明關(guān)系式;成立。畫出pnp晶體管四種工作狀態(tài)(放大,飽和,截止,反轉(zhuǎn))下)少子分布示意圖。)能帶圖。3)畫出BJT的輸出特性曲線圖,并在其上標(biāo)注上述四種工作狀態(tài)的位置。下圖為一典型的npn晶體管的摻雜分布示意圖,試從圖示說明采取何種措施可提高晶體管的注入效率,基區(qū)輸運系數(shù)。 試述異質(zhì)結(jié)晶體管(HBT)相對于同質(zhì)結(jié)晶體管有哪些優(yōu)勢

2、,并說明原因。6晶體管的頻率響應(yīng)延遲時間,即信號從發(fā)射極輸入,從集電極輸出的信號延遲時間為 1)試說出每個時間因子所代表的物理含義,并寫出相關(guān)公式 2)要提高頻率響應(yīng)特性應(yīng)采取什么措施?7下圖為某BJT的電流放大倍數(shù)的頻率特性示意圖, 1)定義截止頻率,特征頻率。 2)寫出截止頻率,特征頻率之間的關(guān)系式。8雙極晶體管的開關(guān)過程即晶體管從飽和區(qū)向截止區(qū)轉(zhuǎn)換的過程,試定性描述晶體管的開關(guān)過程。9.畫出理想BJT的低頻、高頻小信號等效電路圖CH3: MOSFET1 名詞解釋:平帶電壓,閾值電壓,亞閾值電流,溝導(dǎo)電導(dǎo),溝導(dǎo)跨導(dǎo),短溝道效應(yīng),DIBL效應(yīng)、熱載流子效應(yīng)、本體穿通,等比例縮小,CMOS器件的閂鎖效應(yīng)。2。下圖為一MOS器件半導(dǎo)體表面電荷密度隨表面勢的變化關(guān)系示意圖,試在圖上標(biāo)出積累區(qū),耗盡區(qū),弱反型區(qū),強反型區(qū)。3下圖為某半導(dǎo)體薄膜的C-V示意圖 1)判斷該半導(dǎo)體的導(dǎo)電類型 2)定性說明高頻C-V形成的物理過程。 3)低頻,高頻C-V曲線差異的形成原因。 4。簡明敘述MOSFET的工作原理。5在推導(dǎo)MOSFET的電流-電壓方程時作了哪幾點假設(shè)?對于短溝道MOSFET這些假設(shè)是否合理,為什么?6畫出n溝道增強型,n溝道耗盡型,p溝道增強型,p溝道耗盡型MOSFET的結(jié)構(gòu)示意圖,輸出特性曲線,轉(zhuǎn)移特性曲線。7已知MOSFET閾值電壓的表達(dá)式為

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