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1、X射線衍射基礎(chǔ) 目錄1 概述2 X射線的產(chǎn)生3 X射線管工作條件的確定4 X射線光譜4.1 連續(xù)光譜4.2 特征光譜5 物質(zhì)對(duì)X射線的吸收,實(shí)驗(yàn)波長(zhǎng)及濾波片的選擇5.1 線吸收系數(shù)5.2 質(zhì)量吸收系數(shù)5.3 吸收系數(shù)與波長(zhǎng)及元素的關(guān)系5.4 實(shí)驗(yàn)波長(zhǎng)的選擇5.5 濾波片6 晶體對(duì)X射線的衍射6.1 衍射幾何方程6.2 多晶X射線的衍射強(qiáng)度7 X射線的檢測(cè)7.1 熒光板7.2 照相方法7.3 正比計(jì)數(shù)管7.4 閃爍計(jì)數(shù)管7.5 固體檢測(cè)器7.6 位敏正比計(jì)數(shù)管7.7 成像屏7.8 X射線電視8 X射線的防護(hù)1.1 概述 1895年倫琴(W.C.Roentgen)研究陰極射線管時(shí),發(fā)現(xiàn)管的對(duì)陰極能
2、放出一種有穿透力的肉眼看不見的射線。由于它的本質(zhì)在當(dāng)時(shí)是一個(gè)"未知數(shù)",故稱之為X射線。這一偉大發(fā)現(xiàn)當(dāng)即在醫(yī)學(xué)上獲得非凡的應(yīng)用X射線透視技術(shù)。1912年勞埃(M.Von Laue)以晶體為光柵,發(fā)現(xiàn)了晶體的X射線衍射現(xiàn)象,確定了X射線的電磁波性質(zhì)。此后,X射線的研究在科學(xué)技術(shù)上給晶體學(xué)及其相關(guān)學(xué)科帶來突破性的飛躍發(fā)展。由于X射線的重大意義和價(jià)值,所以人們又以它的發(fā)現(xiàn)者的名字為其命名,稱之為倫琴射線。X射線和可見光一樣屬于電磁輻射,但其波長(zhǎng)比可見光短得多,介于紫外線與射線之間,約為102到102埃的范圍(圖1.1)。X射線的頻率大約是可見光的103倍,所以它的光子能量比可見光
3、的光子能量大得多,表現(xiàn)明顯的粒子性。由于X射線波長(zhǎng)短,光子能量大的兩個(gè)基本特性,所以,X射線光學(xué)(幾何光學(xué)和物理光學(xué))雖然具有和普通光學(xué)一樣的理論基礎(chǔ),但兩者的性質(zhì)卻有很大的區(qū)別,X射線與物質(zhì)相互作用時(shí)產(chǎn)生的效應(yīng)和可見光也迥然不同。圖1.1 電磁波譜X射線和其它電磁波一樣,能產(chǎn)生反射、折射、散射、干涉、衍射、偏振和吸收等現(xiàn)象。但是,在通常實(shí)驗(yàn)條件下,很難觀察到X射線的反射。對(duì)于所有的介質(zhì),X射線的折射率n都很接近于1(但小于1),所以幾乎不能被偏折到任一有實(shí)際用途的程度,不可能像可見光那樣用透鏡成像。因?yàn)?n1,所以只有在極精密的工作中才需考慮折射對(duì)X射線作用介質(zhì)的影響。X射線能產(chǎn)生全反射,但
4、是其掠射角極小,一般不會(huì)超過20'30'。在物質(zhì)的微觀結(jié)構(gòu)中,原子和分子的距離(1 10埃左右)正好落在X射線的波長(zhǎng)范圍內(nèi),所以物質(zhì)(特別是晶體)對(duì)X射線的散射和衍射能夠傳遞極為豐富的微觀結(jié)構(gòu)信息。可以說,大多數(shù)關(guān)于X射線光學(xué)性質(zhì)的研究及其應(yīng)用都集中在散射和衍射現(xiàn)象上,尤其是衍射方面。X射線衍射方法是當(dāng)今研究物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的主要方法。 X射線穿透物質(zhì)時(shí)都會(huì)被部分吸收,其強(qiáng)度將被衰減變?nèi)酰晃盏某潭扰c物質(zhì)的組成、密度和厚度有關(guān)。在此過程中X射線與物質(zhì)的相互作用是很復(fù)雜的,會(huì)引起多種效應(yīng),產(chǎn)生多種物理、化學(xué)過程。例如,它可以使氣體電離;使一些物質(zhì)發(fā)出可見的熒光;能破壞物質(zhì)的化學(xué)鍵,引
5、起化學(xué)分解,也能促使新鍵的形成,促進(jìn)物質(zhì)的合成;作用于生物細(xì)胞組織,還會(huì)導(dǎo)致生理效應(yīng),使新陳代謝發(fā)生變化甚至造成輻射損傷。然而,就X射線與物質(zhì)之間的物理作用而言,可以分為兩類:入射線被電子散射的過程以及入射線能量被原子吸收的過程。X射線散射的過程又可分為兩種,一種是只引起X射線方向的改變, 不引起能量變化的散射,稱為相干散射,這是X射線衍射的物理基礎(chǔ);另一種是既引起X射線光子方向改變,也引起其能量的改變的散射,稱為不相干散射或康普頓散射(或康普頓效應(yīng)),此過程同時(shí)產(chǎn)生反沖電子(光電子)。物質(zhì)吸收X射線的過程主要是光電效應(yīng)和熱效應(yīng)。物質(zhì)中原子被入射X射線激發(fā),受激原子產(chǎn)生二次輻射和光電子,入射線
6、的能量因此被轉(zhuǎn)化從而導(dǎo)致衰減。二次輻射又稱為熒光X射線,是受激原子的特征射線,與入射線波長(zhǎng)無關(guān)。熒光輻射是X射線光譜分析的依據(jù)。如果入射光子的能量被吸收,卻沒有激發(fā)出光電子,那么其能量只是轉(zhuǎn)變?yōu)槲镔|(zhì)中分子的熱振動(dòng)能,以熱的形式成為物質(zhì)的內(nèi)能。綜上所述,X射線的主要物理性質(zhì)及其穿過物質(zhì)時(shí)的物理作用可以概括地用下圖表示:圖1.2 X射線的物理性質(zhì)和穿過物質(zhì)時(shí)的作用1.2 X射線的產(chǎn)生 現(xiàn)在人們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了許多的X射線產(chǎn)生機(jī)制, 其中最為實(shí)用的能獲得有足夠強(qiáng)度的X射線的方法仍是當(dāng)年倫琴所采用的方法用陰極射線(高速電子束)轟擊對(duì)陰極(靶)的表面。各種各樣專門用來產(chǎn)生X射線的X射線管工作原理可用下圖表示:
7、圖1.3 X射線管的工作原理X射線管實(shí)際上是一只真空二極管, 它有兩個(gè)電極:作為陰極的用于發(fā)射電子的燈絲(鎢絲)和作為陽極的用于接受電子轟擊的靶(又稱對(duì)陰極)。X射線管供電部分至少包含有一個(gè)使燈絲加熱的低壓電源和一個(gè)給兩極施加高電壓的高壓發(fā)生器。由于總是受到高能量電子的轟擊,陽極還需要強(qiáng)制冷卻。當(dāng)燈絲被通電加熱至高溫時(shí)(達(dá)2000),大量的熱電子產(chǎn)生,在極間的高壓作用下被加速,高速轟擊到靶面上。高速電子到達(dá)靶面,運(yùn)動(dòng)突然受阻,其動(dòng)能部分轉(zhuǎn)變?yōu)檩椛淠?,以X射線的形式放出,這種形式產(chǎn)生的輻射稱為軔致輻射。轟擊到靶面上電子束的總能量只有極小一部分轉(zhuǎn)變?yōu)閄射線能,靶面發(fā)射的X射線能量與電子束總能量的比
8、率可用下面的近似公式表示:= 1.1×109 Z V (1.1)式中Z為靶材組成元素的原子序數(shù),V為X射線管的極間電壓(又稱管電壓),以伏特為單位。例如對(duì)于一只銅靶的X射線管,在30KV工作時(shí),= 0.1%,而一只鎢靶的X射線管在100KV條件下工作時(shí),也不過= 0.8%??梢奨射線管產(chǎn)生X射線的能量效率是十分低的,但是,目前X射線管仍是最實(shí)用的發(fā)生X射線的器件。因?yàn)檗Z擊靶面電子束的絕大部分能量都轉(zhuǎn)化為熱能,所以,在工作時(shí)X射線管的靶必須采取水冷(或其他手段)進(jìn)行強(qiáng)制冷卻,以免對(duì)陰極被加熱至熔化,受到損壞。也是由于這個(gè)原故,X射線管的最大功率受到一定限制,決定于陽極材料的熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系
9、數(shù)和靶面冷卻手段的效果等因素。同一種冷卻結(jié)構(gòu)的X射線管的額定功率,因靶材的不同是大不相同的。例如,銅靶(銅有極佳的導(dǎo)熱性)和鉬靶(鉬的熔點(diǎn)很高)的功率常為相同結(jié)構(gòu)的鐵、鈷、鉻靶的兩倍。在晶體衍射實(shí)驗(yàn)中,常用的X射線管按其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的特點(diǎn)可分為三種類型:1. 可拆式管這種X射線管在動(dòng)真空下工作,配有真空系統(tǒng),使用時(shí)需抽真空使管內(nèi)真空度達(dá)到105毫帕或更佳的真空度。不同元素的靶可以隨時(shí)更換,燈絲損壞后也可以更換,這種管的壽命可以說是無限的。2. 密封式管這是最常使用的X射線管,它的靶和燈絲密封在高真空的殼體內(nèi)。殼體上有對(duì)X射線“透明”的X射線出射“窗孔”。靶和燈絲不能更換,如果需要使用另一種靶,就需
10、要換用另一只相應(yīng)靶材的管子。這種管子使用方便,但若燈絲燒斷后它的壽命也就完全終結(jié)了。密封式X射線管的壽命一般為10002000小時(shí),它的報(bào)廢往往并不是與因燈絲損壞,而是由于靶面被熔毀或因受到鎢蒸氣及管內(nèi)受熱部分金屬的污染,致使發(fā)射的X射線譜線“不純”而被廢用。3. 轉(zhuǎn)靶式管這種管采用一種特殊的運(yùn)動(dòng)結(jié)構(gòu)以大大增強(qiáng)靶面的冷卻,即所謂旋轉(zhuǎn)陽極X射線管,是目前最實(shí)用的高強(qiáng)度X射線發(fā)生裝置。管子的陽極設(shè)計(jì)成圓柱體形,柱面作為靶面,陽極需要用水冷卻。工作時(shí)陽極圓柱以高速旋轉(zhuǎn),這樣靶面受電子束轟擊的部位不再是一個(gè)點(diǎn)或一條線段而是被延展成陽極柱體上的一段柱面,使受熱面積展開,從而有效地加強(qiáng)了熱量的散發(fā)。所以,
11、這種管的功率能遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過前兩種管子。對(duì)于銅或鉬靶管,密封式管的額定功率,目前只能達(dá)到2 KW左右,而轉(zhuǎn)靶式管最高可達(dá)90 KW。1.3 X射線管工作條件的確定 大多數(shù)晶體衍射實(shí)驗(yàn)都需要使用單一波長(zhǎng)的X射線。特征譜線的存在,尤其是強(qiáng)度很大而且分得很開的K線的存在,給晶體衍射實(shí)驗(yàn)帶來極大的方便。因?yàn)橹灰m當(dāng)選擇工作條件,一只X射線管就可視為近似單色的輻射源。 如何確定X射線管的最佳工作條件呢?這需要分析特征光譜強(qiáng)度與連續(xù)光譜強(qiáng)度之比隨著X射線管的工作電壓的改變是如何改變的。實(shí)驗(yàn)證明,特征光譜的強(qiáng)度Ic是管電流i及管電壓V的函數(shù): Ic = C · i ·(VVk)n (1.2)
12、式中指數(shù) n 約1.5,Vk為特征譜線的激發(fā)電壓,C為比例常數(shù)。設(shè)W為X射線管可以采用的最大功率,則管電流i最多等于W/V,故特征光譜的最大強(qiáng)度Ic將為: Ic = C · W ·(VVk)1.5/V = C · W · Vk0.5 ·(V/Vk - 1)1.5/(V/Vk) (1.3) Ic作為V/Vk的函數(shù)可用圖1.4中的曲線a表示:電壓V越高,特征線的強(qiáng)度越大,但是它的增加變慢。連續(xù)光譜的總強(qiáng)度Iw是與W、Z、V成正比的(式1.1),我們可推求特征光譜與連續(xù)光譜的強(qiáng)度比: Ic/Iw =(1/ Vk0.5)·(V/Vk - 1)
13、1.5/(V/Vk)2/Z (1.4) 圖1.4中的曲線b給出了對(duì)于某一對(duì)陰極,Ic/Iw作為V/Vk函數(shù)的曲線圖:它初隨V/Vk 增大而迅速增加,直到V/Vk增至3左右以后,在一個(gè)比較大的范圍內(nèi)維持不變,而后緩慢地減小。對(duì)于給定的 V/Vk,對(duì)陰極元素的原子序數(shù)越大,則連續(xù)光譜所占的比例也越高,因?yàn)镮w正比于Z。 曲線a: 某一特征K線的最大發(fā)射強(qiáng)度曲線b: K線與連續(xù)譜線強(qiáng)度比 圖1.4 X射線管發(fā)射強(qiáng)度與管工作電壓的關(guān)系 從上面的分析可知:在實(shí)驗(yàn)中,當(dāng)需要用一個(gè)管子的特征譜線(例如用其K線)作為單色輻射源時(shí),最有利的管壓應(yīng)該為該特征譜線激發(fā)電壓的三倍以上。但也不宜太高,若太高,連續(xù)光譜所
14、占的比例也增加(雖然比較慢)。對(duì)于原子序數(shù)較小的對(duì)陰極,其K線的能量與其波長(zhǎng)附近同寬度帶連續(xù)光譜的能量相比較雖然較高,例如在30KV下工作的Cu靶X射線管,發(fā)射光束中CuK輻射的強(qiáng)度約為其附近連續(xù)光譜強(qiáng)度的90倍,但是在X射線管的光束總能量中,特征光譜只占很小的一個(gè)份額,因?yàn)镮c/Iw是遠(yuǎn)小于1的。所以,當(dāng)需要使用“單色”射線時(shí),除應(yīng)選用適當(dāng)?shù)墓ぷ麟妷和猓€必須選擇適當(dāng)?shù)摹皢紊笔侄?。?dāng)同一寬帶的連續(xù)光譜起作用時(shí),必須注意到它的作用是否可以同K線單獨(dú)作用相比擬。 當(dāng)需要“白色”X射線時(shí),通常使用鎢靶X射線管在50KV以上工作比較合適。在此條件下,光譜中只含有弱的鎢的L線;K線僅在電壓高于69
15、KV時(shí)才會(huì)出現(xiàn),但是此時(shí)它們的強(qiáng)度還是很弱的,因?yàn)閂/Vk才略大于1。 1.4 X射線光譜 由X射線管所得到的X射線,其波長(zhǎng)組成是很復(fù)雜的。按其特征可以分成兩部分:連續(xù)光譜和特征光譜(圖1.5),后者只與靶的組成元素有關(guān)。這兩部分射線是基于兩種不同的機(jī)制產(chǎn)生的。1.4.1 連續(xù)光譜 連續(xù)光譜又稱為“白色”X射線,包含了從短波限m開始的全部波長(zhǎng),其強(qiáng)度隨波長(zhǎng)變化連續(xù)地改變。從短波限開始隨著波長(zhǎng)的增加強(qiáng)度迅速達(dá)到一個(gè)極大值,之后逐漸減弱,趨向于零(圖1.5)。連續(xù)光譜的短波限m只決定于X射線管的工作高壓。圖1.5 X射線管產(chǎn)生的X射線的波長(zhǎng)譜目前還沒有一個(gè)簡(jiǎn)單的理論能夠?qū)B續(xù)光譜變化的現(xiàn)象給予全面
16、的清楚的解釋,但應(yīng)用量子理論可以簡(jiǎn)單說明為什么連續(xù)光譜具有一個(gè)短波極限。該理論認(rèn)為,當(dāng)能量為eV的電子和物質(zhì)相碰撞產(chǎn)生光量子時(shí),光量子的能量至多等于電子的能量,因此輻射必定有一個(gè)頻率上限m,此上限值應(yīng)由下面的關(guān)系式?jīng)Q定:hm = hC/m = eV (1.5)式中h為普朗克常數(shù),C為光速。當(dāng)V以伏特為單位,波長(zhǎng)以埃為單位時(shí),短波極限m可以表示為:m = 12395/V (1.6)如果一個(gè)電子射入物質(zhì)后在發(fā)生有效碰撞(產(chǎn)生光量子)之前速度有所降低,則碰撞產(chǎn)生光量子的能量就會(huì)減小。由于多種因素使得發(fā)生有效碰撞的電子速度可以從零到初速連續(xù)的取值,因而出現(xiàn)了連續(xù)光譜,其波長(zhǎng)自m開始向長(zhǎng)波長(zhǎng)方向伸展。但
17、是,量子論的這個(gè)解釋并不能給出能量從電子傳遞到光子的機(jī)制。實(shí)驗(yàn)指出,X射線管對(duì)陰極所接受的能量與高壓V成正比,而輸出輻射能占所得總能量的百分?jǐn)?shù)(式1.1)又與原子序數(shù)Z以及高壓V成正比,因此可推求出光譜的總能量(圖1.5中某一連續(xù)譜線下的面積)是和ZV2成正比的。可見,對(duì)于在一定條件(管電流i和管電壓V)下工作的管子,因?yàn)檫B續(xù)光譜的強(qiáng)度和對(duì)陰極元素的原子序數(shù)Z成正比,所以,當(dāng)需要用“白色”輻射(即包含有所有波長(zhǎng)的連續(xù)輻射)時(shí),選擇重元素金屬作靶的管子將更為有效,例如,用鎢靶所得的“白色”輻射總能量是銅靶的2.6倍。從圖1.5中我們還應(yīng)注意到,連續(xù)光譜是從短波極限處突然開始的,大部分能量都集中在
18、接近短波極限的位置,高電壓對(duì)連續(xù)光譜有利。隨著使用電壓的增加,m變短,“白色”輻射的能量相對(duì)更集中在短波極限一側(cè)的一個(gè)范圍內(nèi)。在晶體衍射實(shí)驗(yàn)中,只有Laue法和能量色散型衍射儀需要使用連續(xù)光譜的X射線;而在其它的晶體衍射方法中,通常則要求使用“單色”X射線,連續(xù)光譜對(duì)這些方法所得的結(jié)果是不利的。因?yàn)檫B續(xù)光譜是這些衍射方法的衍射圖背景產(chǎn)生的主要原因,此時(shí)需要適當(dāng)選取X射線管的工作條件,同時(shí)需要采取必要的手段來避免連續(xù)光譜的不利影響。1.4.2 特征光譜 在連續(xù)光譜上會(huì)有幾條強(qiáng)度很高的線光譜(圖1.5),但是它只占X射線管輻射總能量的很小一部分。特征光譜的波長(zhǎng)和X射線管的工作條件無關(guān),只取決于對(duì)陰
19、極組成元素的種類,是對(duì)陰極元素的特征譜線。陰極射線的電子流轟擊到靶面,如果能量足夠高,靶內(nèi)一些原子的內(nèi)層電子會(huì)被轟出,使原子處于能級(jí)較高的激發(fā)態(tài)。圖1.6b表示的是原子的基態(tài)和K、L、M、N等激發(fā)態(tài)的能級(jí)圖,K層電子被擊出稱為K激發(fā)態(tài),L層電子被擊出稱為L(zhǎng)激發(fā)態(tài),依次類推。原子的激發(fā)態(tài)是不穩(wěn)定的,壽命不超過10-8秒,此時(shí)內(nèi)層軌道上的空位將被離核更遠(yuǎn)軌道上的電子所補(bǔ)充,從而使原子能級(jí)降低,這時(shí),多余的能量便以光量子的形式輻射出來。圖1.6a描述了上述激發(fā)機(jī)理。處于K激發(fā)態(tài)的原子,當(dāng)不同外層的電子(L、M、N層)向 K層躍遷時(shí)放出的能量各不相同,產(chǎn)生的一系列輻射統(tǒng)稱為K系輻射。同樣,L層電子被擊
20、出后,原子處于L激發(fā)態(tài),所產(chǎn)生一系列輻射則統(tǒng)稱為L(zhǎng)系輻射,依次類推。基于上述機(jī)制產(chǎn)生的X射線,其波長(zhǎng)只與原子處于不同能級(jí)時(shí)發(fā)生電子躍遷的能級(jí)差有關(guān),而原子的能級(jí)是由原子結(jié)構(gòu)決定的,因此,這些有特征波長(zhǎng)的輻射將能夠反映出原子的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),我們稱之為特征光譜。圖1.6 元素特征X射線的激發(fā)機(jī)理元素的每條線光譜都是近單色的,衍射峰的半高寬小于0.01埃。參與產(chǎn)生特征X射線的電子層是原子的內(nèi)電子層,內(nèi)層電子的能量可以認(rèn)為僅決定于原子核而與外層電子無關(guān),(外層電子決定原子的化學(xué)性質(zhì)和它們的紫外、可見光譜),所以,元素的X射線特征光譜比較簡(jiǎn)單,且隨原子序數(shù)作有規(guī)律的變化,特征光譜只取決于元素的種類而不論物質(zhì)
21、處于何種化學(xué)或物理狀態(tài)。各系X射線特征輻射都包含幾個(gè)很接近的頻率。例如,K系輻射包含K1 、K2和K 三個(gè)頻率,K1、K2波長(zhǎng)非常接近,相距0.004埃,在實(shí)際使用時(shí)常常分不開,統(tǒng)稱為 K線,K線比K線頻率要高,波長(zhǎng)要短一些(見圖1.5)。K線是電子由 L層躍遷到K層時(shí)產(chǎn)生的輻射,而K線則是電子由M層躍遷到K層時(shí)產(chǎn)生的(圖1.6a)。實(shí)際上L、M等能級(jí)又可分化成幾個(gè)亞能級(jí),依照選擇法則,在能級(jí)之間只有滿足一定選律要求時(shí)躍遷才會(huì)發(fā)生。例如躍遷到K層的電子如果來自 L層,則只能從 L和L亞層躍遷過來;如果來自M層,則只能從M及M亞層躍遷過來。所以,K線就有K1和K2之分,K線理論上也應(yīng)該是雙重的,
22、但是K線的兩根線中有一根非常弱,因此可以忽略。各個(gè)系X射線的相對(duì)強(qiáng)度與產(chǎn)生該射線時(shí)能級(jí)的躍遷機(jī)遇有關(guān)。由于從 L層躍遷到K層的機(jī)遇最大,所以K強(qiáng)度大于K的強(qiáng)度,而在K線中,K1的強(qiáng)度又大于K2的強(qiáng)度。K2、K1和K三線的強(qiáng)度比約為5010022 ??紤]到K1的強(qiáng)度是K2強(qiáng)度的兩倍,所以,K的平均波長(zhǎng)應(yīng)取兩者的加權(quán)平均值:K = (2K1 +K2 )/3 (1.7)1.5 物質(zhì)對(duì)X射線的吸收,實(shí)驗(yàn)波長(zhǎng)及濾波片的選擇 X射線穿過物質(zhì)之后,強(qiáng)度會(huì)衰減。前面已經(jīng)指出,這是因?yàn)閄射線同物質(zhì)相互作用時(shí)經(jīng)歷各種復(fù)雜的物理、化學(xué)過程,從而引起各種效應(yīng)轉(zhuǎn)化了入射線的部分能量。如下圖所示:圖1.7 X射線的衰減
23、1.5.1 線吸收系數(shù) 實(shí)驗(yàn)證明,X射線穿透物質(zhì)后的強(qiáng)度衰減與射線在物質(zhì)中經(jīng)過的距離成正比。假設(shè)入射線的強(qiáng)度為I0,進(jìn)入一塊密度均勻的吸收體,在x處時(shí)其強(qiáng)度為Ix,當(dāng)通過厚度dx時(shí)強(qiáng)度的衰減為dI,定義為X射線通過單位厚度時(shí)被吸收的比率,則有:-dI = Ix dx (1.8) 考慮邊界條件并進(jìn)行積分,則得:Ix = I0 e-x (1.9) 式中稱為線衰減系數(shù),x為試樣厚度。我們知道,衰減至少應(yīng)被視為物質(zhì)對(duì)入射線的散射和吸收的結(jié)果,系數(shù)應(yīng)該是這兩部分作用之和。但由于因散射而引起的衰減遠(yuǎn)小于因吸收而引起的衰減,故通常直接稱為線吸收系數(shù),而忽略散射的部分。1.5.2 質(zhì)量吸收系數(shù) 式(1.9)常
24、常寫成如下形式:Ix = I0 e (/)x (1.10) 式中為吸收體的密度,(/)稱為質(zhì)量吸收系數(shù),它是物質(zhì)固有的特性,對(duì)于一定波長(zhǎng)的入射X射線,每種物質(zhì)都具有一定的值。質(zhì)量吸收系數(shù)常用*或m來表示。X射線被物質(zhì)吸收的性質(zhì)與物質(zhì)的化學(xué)組成有關(guān)。在理想情況下,作為一級(jí)近似,元素的質(zhì)量吸收系數(shù)可以認(rèn)為與元素的物理化學(xué)狀態(tài)無關(guān),由兩種元素以上組成的化合物、混合物、溶液等物質(zhì)的質(zhì)量吸收系數(shù)m可以由各組成元素的/進(jìn)行線性加和得到。假定物質(zhì)的各組成元素的/分別為(1/1)、(2/2)、(3/3) 其質(zhì)量百分?jǐn)?shù)分別為x1、x2、x3 則物質(zhì)的m可按下式計(jì)算:m = x1(1/1) x2(2/2) x3(
25、3/3) (1.11) 1.5.3 吸收系數(shù)與波長(zhǎng)及元素的關(guān)系元素的吸收系數(shù)是入射線的波長(zhǎng)和吸收元素原子序數(shù)的函數(shù)。如圖1.8a所示,對(duì)于一種元素其質(zhì)量吸收系數(shù)m隨著波長(zhǎng)的變化有若干突變,發(fā)生突變的波長(zhǎng)稱為吸收限(或稱吸收邊)。在各個(gè)吸收限之間質(zhì)量吸收系數(shù)隨波長(zhǎng)增加而增大。所以短波長(zhǎng)的X射線(所謂硬X射線)穿透能力大,而長(zhǎng)波長(zhǎng)的X射線(所謂軟X射線)則容易被物質(zhì)吸收。對(duì)于X射線的實(shí)驗(yàn)技術(shù)來說,最有用的是第一吸收限,即K吸收限。質(zhì)量吸收系數(shù)隨著波長(zhǎng)的變化有突變的原因,也就是元素特征光譜產(chǎn)生的原因。當(dāng)入射X射線的能量足夠把內(nèi)層電子轟出時(shí)(即光電效應(yīng)),能量便被吸收,并會(huì)部分轉(zhuǎn)化為元素二次輻射的能量
26、。各個(gè)吸收限之間的區(qū)域內(nèi)質(zhì)量吸收系數(shù)符合下面的近似關(guān)系:/= K 3 Z3 (1.12) 式中K為常數(shù)。對(duì)于給定的波長(zhǎng),m隨Z的增大也有類似的規(guī)律,如圖1.8b所示。圖1.8 物質(zhì)的質(zhì)量吸收系數(shù)(*) 1.5.4 實(shí)驗(yàn)波長(zhǎng)的選擇在X射線衍射實(shí)驗(yàn)中:如果所用X射線波長(zhǎng)較短,正好小于樣品組成元素的吸收限,則X射線將大量地被吸收,產(chǎn)生熒光現(xiàn)象,造成衍射圖上不希望有的深背景;如果所用X射線波長(zhǎng)正好等于或稍大于吸收限,則吸收最小。因此進(jìn)行衍射實(shí)驗(yàn)時(shí)應(yīng)該依據(jù)樣品的組成來合理地選擇工作靶的種類:應(yīng)保證樣品中最輕元素(鈣和原子序數(shù)比鈣小的元素除外)的原子序數(shù)比靶材元素的原子序數(shù)稍大或相等。如果靶材元素的原子序
27、數(shù)比樣品中的元素原子序數(shù)大24,則X射線將被大量吸收因而產(chǎn)生嚴(yán)重的熒光現(xiàn)象,不利于衍射分析。1.5.5 濾波片使X射線管產(chǎn)生的X射線單色化,常采用濾波片法。利用濾波片的吸收限進(jìn)行濾波,除去不需要的K線,使用濾波片是最簡(jiǎn)單的單色化方法,但只能獲得近似單色的X射線。原子序數(shù)低于靶元素原子序數(shù)1或2的元素,其K吸收限波長(zhǎng)正好在靶元素的K和K波長(zhǎng)之間,因此對(duì)于每種元素作為靶的X射線管,理論上都能找到一種物質(zhì)制成它的K濾波片。使用K濾波片還可以吸收掉大部分的“白色” 射線(圖1.8)。濾波片的厚度通常按K的剩余強(qiáng)度為透過濾波片前的0.01計(jì)算,此時(shí)K通常被衰減掉一半。圖1.9 Cu的X射線光譜在通過Ni
28、濾片之前(a)和通過濾片之后(b)的比較(虛線為Ni的質(zhì)量吸收系數(shù)曲線) 1.6 晶體對(duì)X射線的衍射 X射線照射到晶體上發(fā)生散射,其中衍射現(xiàn)象是X射線被晶體散射的一種特殊表現(xiàn)。晶體的基本特征是其微觀結(jié)構(gòu)(原子、分子或離子的排列)具有周期性,當(dāng)X射線被散射時(shí),散射波中與入射波波長(zhǎng)相同的相干散射波,會(huì)互相干涉,在一些特定的方向上互相加強(qiáng),產(chǎn)生衍射線。晶體可能產(chǎn)生衍射的方向決定于晶體微觀結(jié)構(gòu)的類型(晶胞類型)及其基本尺寸(晶面間距,晶胞參數(shù)等);而衍射強(qiáng)度決定于晶體中各組成原子的元素種類及其分布排列的坐標(biāo)。晶體衍射方法是目前研究晶體結(jié)構(gòu)最有力的方法 1.6.1 衍射幾何方程聯(lián)系X射線衍射方向與晶體結(jié)
29、構(gòu)之間關(guān)系的方程有兩個(gè):勞埃(Laue)方程和布拉格(Bragg)方程。前者基于直線點(diǎn)陣,而后者基于平面點(diǎn)陣,這兩個(gè)方程實(shí)際上是等效的。.1 勞埃(Laue)方程首先考慮一行周期為a0的原子列對(duì)入射X射線的衍射。如圖1.10所示(忽略原子的大?。?dāng)入射角為0時(shí),在h角處觀測(cè)散射線的疊加強(qiáng)度。相距為a0的兩個(gè)原子散射的X射線光程差為a0(cosh - cos0),當(dāng)光程差為零或等于波長(zhǎng)的整數(shù)倍時(shí),散射波的波峰和波谷分別互相疊加而強(qiáng)度達(dá)到極大值。光程差為零時(shí),干涉最強(qiáng),此時(shí)入射角a0等于出射角,衍射稱為零級(jí)衍射。圖1.10 一行原子列對(duì)X射線的衍射晶體結(jié)構(gòu)是一種三維的周期結(jié)構(gòu),設(shè)有三行不共面的原
30、子列,其周期大小分別為a0、b0、c0,入射X射線同它們的交角分別為0、0、0,當(dāng)衍射角分別為h、k、l,則必定滿足下列的條件:a0(cosh - cos0) h b0(cosk - cos0) k (1.13) c0(cosl - cos0) l 式中h,k,l為整數(shù)(可為零和正或負(fù)的數(shù)),稱為衍射指標(biāo),為入射線的波長(zhǎng)。式(1.13)是晶體產(chǎn)生X射線衍射的條件,稱勞埃方程。衍射指標(biāo)hkl的整數(shù)性決定了晶體衍射方向的分立性,每一套衍射指標(biāo)規(guī)定了一個(gè)衍射方向。.2 布拉格方程晶體的空間點(diǎn)陣可劃分為一族平行且等間距的平面點(diǎn)陣(hkl),或者稱晶面。同一晶體不同指標(biāo)的晶面在空間的取向不同,晶面間距d
31、(hkl)也不同。設(shè)有一組晶面,間距為d(hkl),一束平行X射線射到該晶面族上,入射角為。對(duì)于每一個(gè)晶面散射波的最大干涉強(qiáng)度的條件應(yīng)該是:入射角和散射角的大小相等,且入射線、散射線和平面法線三者在同一平面內(nèi)(類似鏡面對(duì)可見光的反射條件),如圖1.11a所示,因?yàn)樵诖藯l件下光程都是一樣的,圖中入射線s0在P,Q,R處的相位相同,而散射線s在P,Q,R處仍是同相,這是產(chǎn)生衍射的必要條件。圖1.11 布拉格方程的推引現(xiàn)在考慮相鄰晶面產(chǎn)生衍射的條件。如圖1.11b所示的晶面1,2,3, 間距為d(hkl),相鄰兩個(gè)晶面上的入射線和散射線的光程差為:MBBN,而MBBNd(hkl) sinn,即光程差
32、為 2d (hkl) sinn,當(dāng)光程差為波長(zhǎng)的整數(shù)倍時(shí),相干散射波就能互相加強(qiáng)從而產(chǎn)生衍射。由此得晶面族產(chǎn)生衍射的條件為:2 d (hkl) sinn n (1.14) 式中n為1,2,3,等整數(shù),n為相應(yīng)某一n值的衍射角,n則稱衍射級(jí)數(shù)。式(1.14)稱為布拉格方程,是晶體學(xué)中最基本的方程之一。根據(jù)布拉格方程,我們可以把晶體對(duì)X射線的衍射看作為“反射”,并樂于借用普通光學(xué)中“反射”這個(gè)術(shù)語,因?yàn)榫娈a(chǎn)生衍射時(shí),入射線、衍射線和晶面法線的關(guān)系符合鏡面對(duì)可見光的反射定律。但是,這種“反射”并不是任意入射角都能產(chǎn)生的,只有符合布拉格方程的條件才能發(fā)生,故又常稱為“選擇反射”。據(jù)此,每當(dāng)我們觀測(cè)到
33、一束衍射線,就能立即想象出產(chǎn)生這個(gè)衍射的晶面族的取向,并且由衍射角n便可依據(jù)布拉格方程計(jì)算出這組平行晶面的間距(當(dāng)實(shí)驗(yàn)波長(zhǎng)也是已知時(shí))。由布拉格方程,我們可以知道如果要進(jìn)行晶體衍射實(shí)驗(yàn),其必要條件是:所用X射線的波長(zhǎng)< 2d。但是不能太小,否則衍射角也會(huì)很小,衍射線將集中在出射光路附近的很小的角度范圍內(nèi),觀測(cè)就無法進(jìn)行。晶面間距一般在10埃以內(nèi),此外考慮到在空氣中波長(zhǎng)大于2埃的X射線衰減很嚴(yán)重,所以在晶體衍射工作中常用的X射線波長(zhǎng)范圍是0.5至2埃。對(duì)于一組晶面hkl,它可能產(chǎn)生的衍射數(shù)目n決定于晶面間距d,因?yàn)楸仨殱M足n< 2d。如果我們把第n級(jí)衍射視為和晶面族hkl平行但間距為
34、dn的晶面的第一級(jí)衍射(依照晶面指數(shù)的定義,這些假想晶面的指數(shù)為nh,nk,nl,在n個(gè)這樣的假想晶面中只有一個(gè)是實(shí)際晶體結(jié)構(gòu)的一個(gè)點(diǎn)陣平面),于是布拉格方程可以簡(jiǎn)化表達(dá)為:2 d sin = (d = dn) (1.15) 因?yàn)樵谝话闱闆r下,一個(gè)三維晶體對(duì)一束平行而單色的入射X射線是不會(huì)使之發(fā)生衍射的,如果要產(chǎn)生衍射,則至少要求有一組晶面的取向恰好能滿足布拉格方程,所以對(duì)于單晶的衍射實(shí)驗(yàn),一般采用以下兩種方法:1.用一束平行的“白色”X射線照射一顆靜止的單晶,這樣,對(duì)于任何一組晶面總有一個(gè)可能的波長(zhǎng)能夠滿足布拉格方程;2.用一束平行的單色X射線照射一顆不斷旋轉(zhuǎn)的晶體,在晶體旋轉(zhuǎn)的過程中各個(gè)取
35、向的晶面都有機(jī)會(huì)通過滿足布拉格方程的位置,此時(shí)晶面與入射X射線所成的角度就是衍射角。對(duì)于無織構(gòu)的多晶樣品(如微晶的聚晶體,很細(xì)的粉末等),當(dāng)使用單色的X射線作入射光時(shí),總是能夠產(chǎn)生衍射的。因?yàn)樵跇悠分?,晶粒的取向是機(jī)遇的,所以任意一種取向的晶面總是有可能在某幾顆取向恰當(dāng)?shù)木ЯV刑幱谀墚a(chǎn)生衍射的位置,這就是目前大多數(shù)多晶衍射實(shí)驗(yàn)所采用的方法,稱為“角度色散”型方法。對(duì)于多晶樣品采用“白色”X射線照射,在固定的角度位置上觀測(cè),則只有某些波長(zhǎng)的X射線能產(chǎn)生衍射極大,依據(jù)此時(shí)的角度大小和產(chǎn)生衍射的X射線波長(zhǎng)就能計(jì)算得出相應(yīng)的晶面間距大小,這就是所謂“能量色散”型的多晶X射線衍射方法。 1.6.2 多晶
36、X射線的衍射強(qiáng)度勞埃(Laue)方程和布拉格(Bragg)方程只是確定了衍射方向與晶體結(jié)構(gòu)基本周期的關(guān)系,通過對(duì)衍射方向的測(cè)量,理論上我們可以確定晶體結(jié)構(gòu)的對(duì)稱類型和晶胞參數(shù)。而X射線對(duì)于晶體的衍射強(qiáng)度則決定于晶體中原子的元素種類及其排列分布的位置,此外,還與諸多其它的因素有關(guān)。所謂衍射強(qiáng)度是指“積分強(qiáng)度”,積分強(qiáng)度是一個(gè)能量的概念,一個(gè)在理論上能夠計(jì)算并且實(shí)驗(yàn)上也能測(cè)量的量。在晶體衍射的記錄圖中(照片、照片的光度計(jì)掃描圖或衍射儀記錄圖等),照片的黑度或衍射儀記錄圖的強(qiáng)度曲線下面的面積,應(yīng)該與檢測(cè)點(diǎn)處的衍射線功率成正比,比例系數(shù)是儀器條件的函數(shù)。在理論上以檢測(cè)點(diǎn)處通過單位截面積上衍射線的功率定
37、義為某衍射線的強(qiáng)度(絕對(duì)積分強(qiáng)度)。純物質(zhì)衍射線強(qiáng)度的表達(dá)式很復(fù)雜,但是可以簡(jiǎn)明地寫成下面的形式:I = I0·K·|F|2 (1.16) 式中:I0為單位截面積上入射的單色X射線功率;|F|稱為結(jié)構(gòu)因子,取決于晶體的結(jié)構(gòu)以及晶體所含原子的性質(zhì)。結(jié)構(gòu)因子可由下式求算:Fhkl = fn·exp2i(h xn + k yn +l zn) (1.17) 式中fn是晶體單胞中第n個(gè)原子的散射因子,(xn、yn、zn)是第n個(gè)原子的坐標(biāo),h、k、l是所觀測(cè)的衍射線的衍射指標(biāo),公式求和計(jì)算時(shí)需包括晶體單胞內(nèi)所有原子;K是一個(gè)綜合因子,它與實(shí)驗(yàn)時(shí)的衍射幾何條件,試樣的形狀、吸
38、收性質(zhì),溫度以及一些物理常數(shù)有關(guān)。對(duì)于粉末衍射儀而言(粉末衍射儀使用時(shí)將樣品壓成平板狀,入射線和衍射線對(duì)樣品平面的交角總是相等的),K由下式求算: (1.18) 式中:因子與實(shí)驗(yàn)條件有關(guān):A為樣品受照射的面積,R為衍射儀圓的掃描半徑;因子是一些物理常數(shù):e為電子的電荷,m為電子的質(zhì)量,C為光速,為實(shí)驗(yàn)時(shí)X射線的波長(zhǎng);因子稱作多重性因子,在粉末衍射中,晶面間距相等的晶面其衍射角相等,由于對(duì)稱性的聯(lián)系,這些晶面可能有j種晶面指標(biāo);因子中V是單位晶胞的體積;因子是衍射儀條件下的洛倫茨偏振因子;因子為溫度因子,原子的熱振動(dòng)將使衍射減弱,故衍射強(qiáng)度與溫度有關(guān);因子 是衍射儀條件下的吸收因子,它只和樣品的
39、吸收性質(zhì)有關(guān)。1.7 X射線的檢測(cè) 利用X射線和物質(zhì)相互作用的一些效應(yīng),我們可以有很多有效的檢測(cè)X射線的方法。常用的檢測(cè)手段如下: 1.7.1 熒光板熒光板是將ZnS、CdS等熒光材料涂布在紙板上制成,常用來確認(rèn)光源產(chǎn)生的原射線束的存在。 1.7.2 照相方法照相法是最早使用的檢測(cè)并記錄X射線的方法,直到現(xiàn)在仍是一種常用的基本方法。X射線與可見光一樣,能夠使感光乳劑感光。當(dāng)感光乳劑受到X射線照射后,AgBr顆粒離解形成顯影核,經(jīng)過顯影而游離出來的單質(zhì)銀微粒使感光處變黑。 在一定的曝光條件下,黑度是與曝光量成比例的。黑度也和波長(zhǎng)有關(guān)。測(cè)量黑度的簡(jiǎn)單方法是目估,較為準(zhǔn)確的測(cè)量方法則需要事先制作好黑
40、度標(biāo)準(zhǔn),或者用光電黑度計(jì)來掃描測(cè)量。 1.7.3 正比計(jì)數(shù)管(PC)正比計(jì)數(shù)管(PC)和電離室、蓋革計(jì)數(shù)管都是氣體器件,但后兩者在X射線分析儀器中已經(jīng)不常使用。PC一般以一個(gè)內(nèi)徑約25mm的金屬圓筒作為陰極,圓筒中心有一根拉成直線的鎢絲作為陽極,筒內(nèi)充滿0.5至1個(gè)大氣壓的氬氣或氙氣,并加有10%左右的淬滅氣體(一般為CH4、乙醇或Cl2)。圓筒的側(cè)壁或一端設(shè)有入射X射線的“窗”,由于衍射實(shí)驗(yàn)使用的X射線的多為軟X射線,因此要求窗壁極薄,所用窗口材料通常為云母片或者鈹片。 圖1.12 正比計(jì)數(shù)管的結(jié)構(gòu) 在使用正比計(jì)數(shù)管時(shí),兩電極間需要加上1000至2000伏的直流高壓。計(jì)數(shù)管在被X射線照射時(shí),
41、管內(nèi)氣體被電離,初始產(chǎn)生的離子對(duì)數(shù)目與X射線的量子能量成比例,在極間電壓的作用下,離子定向運(yùn)動(dòng)并在運(yùn)動(dòng)過程中不斷碰撞其它的中性氣體分子,由此產(chǎn)生二次以至多次的電離并伴隨著光電效應(yīng),此時(shí)電離的數(shù)目大量增殖從而形成放電(稱為電子雪崩或氣體放電),直到所有電荷都聚集到相應(yīng)的電極上,放電才停止,每次放電的時(shí)間歷程極短,約0.20.5微秒。因此,每當(dāng)有一個(gè)X射線量子進(jìn)入計(jì)數(shù)管時(shí),兩極間將有一脈沖電流通過。正比計(jì)數(shù)管工作在氣體放電的正比區(qū),脈沖電流在負(fù)載電阻上產(chǎn)生的平均電壓降(即脈沖電壓幅度)與入射X射線的量子能量成正比,故稱正比計(jì)數(shù)管。 正比計(jì)數(shù)管在接收單一波長(zhǎng)的射線時(shí),每個(gè)X射線量子產(chǎn)生的電脈沖幅度實(shí)
42、際上不是嚴(yán)格相同的,而是分布在以平均幅度為中心的比較狹窄的一個(gè)范圍內(nèi)的,根據(jù)PC的放電特性,平均幅度的大小由入射X射線的量子能量決定,若脈沖分布的寬度越窄,其能量分辨能力就越好。能量分辨能力可用能量分辨率來表示,作為計(jì)數(shù)管的一個(gè)重要特性: 能量分辨率分布的半高寬W ÷ 平均脈沖幅度h ×100 圖1.13 不同能量的X射線的脈沖幅度分布 1.7.4 NaI(Tl)閃爍計(jì)數(shù)管(SC)X射線衍射分析中使用的閃爍計(jì)數(shù)管,其閃爍體大多使用摻有Tl的NaI晶體。下圖示出閃爍計(jì)數(shù)管的基本結(jié)構(gòu),它由三部分組成:閃爍體、光電倍增管和前置放大器。圖1.14 閃爍計(jì)數(shù)管的基本結(jié)構(gòu)及工作原理 閃
43、爍體是摻有0.5左右的Tl作為激活劑的NaI透明單晶體的切片,厚約12mm。晶體被密封在一個(gè)特制的盒子里,以防止NaI晶體受潮損壞。密封盒的一面是薄的鈹片(不透光),用來作為接收X射線的窗;另一面是對(duì)藍(lán)紫光透明的光學(xué)玻璃片。密封盒的透光面緊貼在端窗式的光電倍增管的光電陰極窗面上,界面上涂有一薄層光學(xué)硅脂以增加界面的光導(dǎo)率。NaI晶體被X射線激發(fā)能發(fā)出4200埃(藍(lán)紫色)的可見光,每個(gè)入射X射線量子將使晶體產(chǎn)生一次閃爍,每次閃爍將激發(fā)倍增管光電陰極產(chǎn)生光電子,這些一次光電子被第一級(jí)打拿極(D1)收集并激發(fā)出更多的二次電子,再被下一級(jí)打拿極(D2)收集,又倍增出更多的電子,如此,光電陰極發(fā)射的光電
44、子經(jīng)10級(jí)打拿極的倍增作用后,最后收集極能獲得約為初始電子數(shù)目105倍的電子,從而形成可檢測(cè)的電脈沖信號(hào)。 目前,閃爍計(jì)數(shù)管仍是各種晶體X射線衍射工作中通用性最好的檢測(cè)器。它的主要優(yōu)點(diǎn)是:對(duì)于晶體X射線衍射工作使用的各種X射線波長(zhǎng),均具有很高的接近100的量子效率(圖1.15);穩(wěn)定性好;使用壽命長(zhǎng);此外,它和正比計(jì)數(shù)管一樣具有很短的分辨時(shí)間(10-7秒),因而實(shí)際上不必考慮檢測(cè)器本身所帶來的計(jì)數(shù)損失;它對(duì)晶體衍射用的軟射線也有一定的能量分辨力。因此現(xiàn)在的射線衍射儀大多配用SC。圖1.15 計(jì)數(shù)管計(jì)數(shù)效率的比較 1.7.5 固體檢測(cè)器(SSD)SSD又稱半導(dǎo)體檢測(cè)器,圖1.16示出Si(Li)
45、半導(dǎo)體檢測(cè)器的基本結(jié)構(gòu)。 圖1.16 Si(Li)檢測(cè)器的基本結(jié)構(gòu) SSD的工作原理如下:當(dāng)X射線照射半導(dǎo)體時(shí),由于射線量子的電離作用,能產(chǎn)生一些電子-空穴對(duì),以圖1.16的結(jié)構(gòu)為例,在本征區(qū)產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)在電極間的電場(chǎng)作用下,電子集中在n區(qū),空穴則聚集在p區(qū),其結(jié)果將有一股小脈沖電流向外電路輸出,本征區(qū)起著“電離箱”的作用。SSD被電離產(chǎn)生一對(duì)電子-空穴對(duì)所需的能量約為3.8eV,而PC約為30eV,SC約為500eV,由此可見SSD與PC和SC三者相比,其能量分辨率最佳。現(xiàn)在,Si(Li) SSD的能量分辨力可達(dá)160eV。圖1.17示出三種檢測(cè)器能量分辨率的對(duì)比圖。此外,SSD的脈沖
46、分辨時(shí)間約為10-8秒,可見SSD是性能極其優(yōu)異的檢測(cè)器。 圖1.17 三種X射線檢測(cè)器能量分辨力的比較 Si(Li)半導(dǎo)體檢測(cè)器缺點(diǎn)是需要在液氮溫度(約170)下才能正常工作,且售價(jià)很高。現(xiàn)在已有可適用于X射線衍射工作的半導(dǎo)體電致冷Si檢測(cè)器,能量分辨力為300eV,是近年X射線檢測(cè)實(shí)用技術(shù)的重要突破。 SSD原是為核譜研究而發(fā)展的,有極佳的能量分辨本領(lǐng),不僅作為射線計(jì)數(shù)器用來測(cè)量射線的強(qiáng)度,同時(shí)也能測(cè)量射線的能量。60年代中SSD開始應(yīng)用到X射線發(fā)射光譜分析(X射線熒光分析),特別是用到電子探針中;應(yīng)用到X射線衍射研究中,出現(xiàn)了能量色散型的X射線衍射儀。高能量分辨率的SSD用作衍射儀的X射
47、線檢測(cè)器,可以同時(shí)作為一種高效的(近乎100)“單色化”方法。濾波片、晶體單色器等物理“單色化”方法不可避免地會(huì)造成強(qiáng)度的損失,因而是低效率的;借助SSD的高能量分辨率僅對(duì)K進(jìn)行測(cè)量,避免了強(qiáng)度的損失,從而能成倍地增加X射線的接收強(qiáng)度。在衍射儀上使用SSD還能實(shí)現(xiàn)X射線衍射和X射線能譜同時(shí)分析,這對(duì)于物相分析非常有價(jià)值。SSD的這些優(yōu)越性能在衍射分析中已引起人們的重視,現(xiàn)在,高能量分辨率的SSD已列為X射線衍射儀基本配置的一種選擇。 1.7.6 位敏正比計(jì)數(shù)管(多絲正比計(jì)數(shù)管)測(cè)量正比計(jì)數(shù)管陽極絲兩端產(chǎn)生脈沖的時(shí)間差,有可能使正比計(jì)數(shù)管在絲線方向上具有位置分辨力,這就是一維的位敏正比計(jì)數(shù)管。從這基本思想出發(fā),正比計(jì)數(shù)管的陽極采用并排平行的多根絲,便發(fā)展成為二維面積型的位敏正比計(jì)數(shù)管。這類器件的位置分辨能力可達(dá) 0
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