曝光原理介紹

1、Compeq Confidential曝光制程介紹曝光制程介紹Compeq Confidential曝光原理介紹曝光原理介紹內(nèi)容提要: 對位系統(tǒng)介紹 參數(shù)檢討 Compeq Confidential對位系統(tǒng)介紹Align吸真空吸真空J(rèn)udge PE/JE曝光曝光NGOKOKNG對位流程示意圖Compeq Confidential對位1350靶位孔P11350靶位孔P2鑽孔銅膜板1350靶P11350靶P2外層底片對位后Compeq Confidential對位運作模式對位運作模式AlignDX DY Dq 設(shè)定值(5um)PCB於承載盤上Compeq ConfidentialCenter of

2、 PCB markCenter of mask markDq adjustDX DY adjustCompeq ConfidentialPE 值定義Pitch ErrorPitch Error即為一般所謂之PE值PE值乃指A/W與基板之大小差異PE=(P1P2-M1M2)/2針對4個CCD時.PE=MAX(a-a1)/2 & (b-b1)/2 (f-f1)/2 ps. PE=48 C1-2 指的是ccd1和ccd2間的差異為最大,差異值為48umPEPE板子板子abcdf底片底片a1b1c1d1e1f1eCompeq ConfidentialCCD window座標(biāo)轉(zhuǎn)換 AX1=CX1

3、+AX1 AY1=CY1+AY1Camera1Camera2(CX1,CY1)(AX1,AY1)StageCompeq Confidential計算Mask & Panel targets position22)21()21(.AYAYAXAXARLengthARAXAXAAngle211cos.q22)21()21(.CYCYCXCXCRLengthCRCXCXCAngle211cos.q qqqCACompeq Confidential計算Mask & Panel targets position1 ) 取得底片 mark的位置.Camera1 : (MX1, MY1) =

4、 (CX1, CY1)Camera2 : (MX2, MY2) = (CX2, CY2)2 )取得板子mark的相對位置. Camera1 : (PX1, PY1) = (CX1 + X1, CY1 + Y1)Camera2: (PX2, PY2) = (CX2 + X2, CY2 + Y2)Compeq ConfidentialGet DX & DY&Rotation angle )(sin(11)(22qqDCYCXmDCompeq ConfidentialLimit Mode1.XYq2.X+qX, Y+qY3.Xn, Yn4.Xn, Yn circleCompeq Co

5、nfidentialLimit Mode - XYqAlign完成後完成後,得出得出DX,DY,Dq q.Judge DX,DY,Dq q將其與設(shè)定之將其與設(shè)定之JE值比較值比較DYDXDq XYq mode由於由於q q被轉(zhuǎn)換為被轉(zhuǎn)換為markmark點處的差異點處的差異, ,Panel SizePanel Size越大時越大時, ,要求就越嚴(yán)格。要求就越嚴(yán)格。Compeq ConfidentialLimit Mode - X+qX, Y+qYX+q qX, Y+q qY模式中模式中Dx, Dy 的計算同的計算同XYq q模式模式;Dq qx,Dq qy則由則由mark點在點在x和和y方向上

6、方向上的分量表示的分量表示判斷方式與判斷方式與XYq q模式不同模式不同,如果如果JE設(shè)定為設(shè)定為20um,允許曝光的條允許曝光的條件為件為:Dx +Dq qx=20um,Dy +Dq qy =20um.Compeq Confidential判斷對位判斷對位mark(PCBmark)與基準(zhǔn)與基準(zhǔn)mark (底片底片mark)在在mark點處的偏差點處的偏差如果如果JE設(shè)定為設(shè)定為20um,允許曝光的條件為允許曝光的條件為:X1toX4 =20umY1toY4 =20um.最大偏差為最大偏差為: 20/2=28.3umLimit Mode - XnYnCompeq Confidential 同同

7、XnYn模式一樣模式一樣,Xn,YnCircle模式也是模式也是判斷對位判斷對位mark(PCBmark)與基準(zhǔn)與基準(zhǔn)mark (底片底片mark)在在mark點處的偏差。點處的偏差。 如果如果JE設(shè)定為設(shè)定為20um,允許曝光的條件為允許曝光的條件為:從右邊示意圖可以看出從右邊示意圖可以看出, 在在JE設(shè)定相同設(shè)定相同時時,Xn, Yn Circle mode較較Xn, Yn mode更更精確些。精確些。/X12+X22 =20umLimit Mode - Xn,YnCircleCompeq ConfidentialCenter of Mask markCenter of Mask mark

8、Align完成后完成后求出求出DX,DY,Dq q進行進行Judge:(1).DX=(X1+X2)/2 JE (2).DY=(Y1+Y2)/2 JE(3).Dq q JECenter of Panel markq qX1Y1X2Y2對位參數(shù)檢討對位參數(shù)檢討1. XYq q ModeCompeq Confidential以按分點之偏移量以按分點之偏移量(DX,DY)來用於計算來用於計算Panel與與A/W的偏移量時的偏移量時,有公有公式式:偏移量偏移量= ; v因此種估算沒有考慮Dq對板子邊角處的較大影響,需將JE適當(dāng)減小以防止曝偏,但會增加重複Align&Judge的次數(shù). DX2+D

9、Y2 DXDYProportional divided point for Panel markProportional divided point for Mask markCompeq ConfidentialPE 0, JE 0, Dq q = 0Proportional divided point for Panel markProportional divided point for Mask markPE DX2+DY2 由以上可知最大偏移量由以上可知最大偏移量=1.41*JE+PE客戶規(guī)格客戶規(guī)格(孔環(huán)留邊大小孔環(huán)留邊大小)=D則則 1.41*JE+PE=D 即可即可Ps,孔環(huán)留

10、邊大小為孔環(huán)留邊大小為3mil,客戶允許切邊客戶允許切邊, 那麼需那麼需1.41JE+PE=75umCompeq ConfidentialX1Y1Y2X2JEJE2. XnYn ModeAlign 完成完成,進行進行Judge:(1).X1 JE , Y1 JE(2).X2 JE , Y2 JE*任一組不任一組不ok,則不會曝光則不會曝光.偏移量分別為偏移量分別為:最大偏移量為最大偏移量為: ,PE設(shè)定需小于設(shè)定需小于1.41*JE.Ps,客戶規(guī)格客戶規(guī)格D,PE=1.41*JE=D. X12+Y12 , X22+Y22 2 *JECompeq Confidential2. ORC XnYn

11、Circle ModeX1Y1Y2X2JEJEAlign 完成,進行Judge:(1). JE(2). JE*任一組不ok,則不會曝光.最大偏移量即為JE客戶規(guī)格D,PE設(shè)定等於JE即可 X X1 12 2+Y+Y1 12 2 X X2 22 2+Y+Y2 22 2這裡Compeq ConfidentialXnYnXnYn CircleXYq qJudge ActionX1JE , Y1JEX2JE , Y2JEDX JE DY JEDq q JEMAX偏移量JE +PEJE/PE設(shè)定(um)Cls=1.0mil18/2525/25偏移量 1.41*JE+PECls=1.5mil26/3737/37Cls=2.0mil37/5050/50 JE JE X X1 12 2+Y+Y1 12 2 X X2 22 2+Y+Y2 22 2 2 *JE 2 *JE不同不同Mode下下PE/JE設(shè)定設(shè)定Advice:待收集各機臺不同待收集各機臺不同JE/PE Value Set yield 狀況狀況.Compeq ConfidentialCommentsPE僅針對基板與A/W size差異進行初步篩選(設(shè)定值越小對位時間越長).曝光品質(zhì)則由JE進行最後把關(guān).不同之judge mode僅做不同方式之判斷曝光與否,不影響對位結(jié)果.在XYq & X+qX, Y+qY m