電暈處理容易出現(xiàn)地問(wèn)題以及注意事項(xiàng)

1、實(shí)用文檔電暈處理容易出現(xiàn)的問(wèn)題以及考前須知1 1 原理本文所述的電暈處理是一種在高電壓下令電子加速離開(kāi)電極,并撞擊聚合物外表的一種過(guò)程.由于兩極間的傳導(dǎo)被阻斷,使得處于電場(chǎng)中的氣體因受電子碰撞后離子化濃度急劇增加,其主要反響過(guò)程如下：Q+Q+高能量電子-2O42O4 氐能量電子2O+2GH2Q+2O+2GH2Q+熱即：3Q+3Q+電能 72O+72O+熱前式也可寫(xiě)成：3Q+IVR2Q+M3Q+IVR2Q+M式中 M M 為空氣中任何其它氣體分子,如氮.它們也可受高能電子沖擊離解為氮原子,并引發(fā)一系列反響,此處略去.在臭氧生成過(guò)程中,伴有彌散藍(lán)紫色輝光的電暈現(xiàn)象,從而被稱(chēng)之為電暈.換言之,薄膜的

2、電暈處理就是把薄膜置于電場(chǎng)中成為阻斷傳導(dǎo)的介質(zhì),在電場(chǎng)作用下,獲得高能量,并激活其它離子或分子,同時(shí)把這種能量分配到薄膜上,在薄膜外表駐極,形成極性的化學(xué)自由基團(tuán),使薄膜外表產(chǎn)生懸掛鍵.在這一過(guò)程中,高能電子碰撞空氣中的氧分子、氮分子、水分子等,伴之發(fā)生氧化一復(fù)原反響,并產(chǎn)生臭氧和氮氧化物等.由于臭氧具有強(qiáng)烈的氧化性,當(dāng)它接觸到聚丙烯薄膜外表時(shí),會(huì)在其外表毫微米發(fā)生復(fù)雜的有機(jī)反響,產(chǎn)生羥基(-OH)(-OH)、竣基(-COOH)(-COOH)?；?C=O)C=O)等.而這些含氧官能團(tuán)的引入,是增加薄膜外表張力的關(guān)鍵所在.因此,通過(guò)氧化,不僅可以改進(jìn)薄膜外表張力,還可以提升薄膜外表的可蒸鍍性和可

3、印刷性.文案大全實(shí)用文檔電暈處理設(shè)備一般包括了一個(gè)高頻高壓發(fā)生器和一個(gè)附帶金屬電極和支持卷軸的電暈處理站.它們互相平行,并以一個(gè) 1.5mm1.5mm 的空氣間隙作為分隔.當(dāng)電暈處理站輸入 202040kH40kHz z 或數(shù)千伏高電壓時(shí),電極間便會(huì)產(chǎn)生放電現(xiàn)象,在薄膜外表形成均勻火花.2 2 討論4.14.1 電暈處理站的設(shè)備配置和調(diào)整狀態(tài)4.1.14.1.1 理想的電暈處理是電機(jī)的作業(yè)頻率正確,輸出電壓和電流值適中,放電過(guò)程有規(guī)律,這樣才能得到好的處理效果.4.1.24.1.2電暈處理輻與電極之間的間隙大小必須保持一致,亦即兩者之間既要有一定的距離又要相互平行,這樣才能使膜外表處的場(chǎng)強(qiáng)相同

4、,產(chǎn)生均勻的電暈處理.一般二者的間隙在 1.51.52.5mm2.5mm4.1.34.1.3 調(diào)整好電暈處理輻與其它牽引輯之間的平行度和電暈處理輻上壓輻壓力的均勻性,這樣才能使膜在運(yùn)行中平穩(wěn),不至于在電暈輻上發(fā)生起皺和斜扯,保持得到均勻的、足夠的電暈量.4.24.2 膜面溫度和空氣相對(duì)濕度對(duì)電暈處理的影響在電暈處理的過(guò)程中,膜面溫度和空氣相對(duì)濕度是影響它的兩個(gè)顯著的變量.隨著空氣相對(duì)濕度和膜面溫度的增大所需電暈處理的時(shí)間就越長(zhǎng),也即薄膜越不容易被電暈處理.這是由于當(dāng)空氣中相對(duì)濕度增大時(shí),空氣中水分子的含量增大,而電暈過(guò)程中產(chǎn)生的臭氧可溶于水,在常溫常壓下,臭氧在水中的溶解度比氧約高 1313

5、倍,比空氣高 2525 倍.由于臭氧濃度的下降,使含氧官能團(tuán)在膜面生成及駐極的時(shí)機(jī)大大減小,從而降低電暈處理的效果.隨著膜面溫度的增高,使駐極分子的穩(wěn)定性變差,外表分子遷移文案大全實(shí)用文檔的比例增大,不利于膜面的高外表能區(qū)域的形成,局部抵消了通過(guò)電暈增加薄膜外表張力的作用.但另一方面,根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)中的經(jīng)驗(yàn),膜面的溫度也并非越低越好.在生產(chǎn)中,電暈處理過(guò)程會(huì)產(chǎn)生大量的熱.為預(yù)防膜面溫度過(guò)高,通常我們采用循環(huán)水輻內(nèi)進(jìn)行閉式循環(huán),并增加一套加熱裝置使冷卻水保持一定的溫度.過(guò)低的溫度會(huì)使膜面的分子在極化和發(fā)生化學(xué)變化時(shí)根本能量缺乏,也會(huì)造成膜面外表張力缺乏的問(wèn)題,所以,把電暈處理輻處的膜面溫度限制在適

6、當(dāng)?shù)臏囟确秶鷥?nèi)是電暈處理的一個(gè)關(guān)鍵問(wèn)題,這也是我們?cè)陂L(zhǎng)期生產(chǎn)中摸索發(fā)現(xiàn)的.4.34.3 電暈處理中電暈強(qiáng)度和處理時(shí)間的限制在生產(chǎn)中,為了使薄膜外表張力的處理到達(dá)某一等級(jí),通常采用的方法是增加電暈處理的強(qiáng)度,在一定界限內(nèi),這種方法是行之有效的,當(dāng)超過(guò)這一界限后,即使再增加電暈,也不會(huì)使薄膜外表能等級(jí)得到提升,這是由于當(dāng)膜在瞬時(shí)進(jìn)行電暈處理過(guò)程中,電極與電暈輻之間的空氣量處于一種相對(duì)穩(wěn)定狀態(tài),而這相對(duì)穩(wěn)定空氣量中的氧氣分子含量是一定的,即使提升電極的電壓和電流值,也不能激活更多的氧分子,使更多的含氧官能團(tuán)駐極到薄膜外表,到達(dá)提升薄膜外表能的目的.一般說(shuō)來(lái),電暈處理的時(shí)間越長(zhǎng),外表能也會(huì)越高.但是,

7、一方面在固有設(shè)備的條件下,延長(zhǎng)電暈處理時(shí)間,必然會(huì)降低生產(chǎn)效率；另一方面,過(guò)長(zhǎng)的電暈處理時(shí)間,會(huì)使薄膜外表張力太大,出現(xiàn)脆化現(xiàn)象乃至降解,不利于膜的一次收卷和二次復(fù)卷,我們?cè)谀硢挝坏脑O(shè)備上就此進(jìn)行過(guò)成功的試驗(yàn).4.44.4 電暈處理輯和電極平行文案大全實(shí)用文檔輯面和電極面的不平行會(huì)導(dǎo)致電暈處理不均,原因是電暈強(qiáng)度有差異,由下式電暈強(qiáng)度=P/WVP/WV式中：P P電暈裝置放電功率,WW W 膜寬,m;m;V V-膜速,m/min;m/min;從上式看出,電暈強(qiáng)度正比于電暈放電功率,而電暈放電的功率方程式為：P=4CdVsfP=4CdVsf：V0-V0-Cd+Cg/CdCd+Cg/CdVsVs式

8、中：CdCd介電體電容,F;F;Cg-Cg-放電間隙電容,F;F;V V0 0驅(qū)動(dòng)電壓峰值,V;,V;V Vs s間隙發(fā)火電壓峰值,V;V;f f驅(qū)動(dòng)電壓頻率,HzHz.由上式顯見(jiàn),間隙大小不一,直接導(dǎo)致單位面積上的放電功率不均,由于各處電暈的差異,最終影響浸潤(rùn)張力的一致性.4.54.5 膜運(yùn)行的平穩(wěn)性如果膜在運(yùn)行中,輻筒施加于膜上的張力的不一致,這種差異會(huì)發(fā)生局部皺折,使該部位在電暈處理時(shí)電容量發(fā)生變化,最終也會(huì)導(dǎo)致浸潤(rùn)張力的不均勻.除上述輻筒同步有差異外,還有電暈處理輻上的夾輻和電暈處理輻到后擴(kuò)展輯對(duì)膜的擴(kuò)展,以及輻與輻之間平行度、輻面水平度等,均有可能導(dǎo)致薄膜運(yùn)行姿態(tài)的不夠平穩(wěn).文案大全

9、實(shí)用文檔4.64.6 薄膜發(fā)脆走偏問(wèn)題電暈處理中,要有一個(gè)度的問(wèn)題,如果注入功率過(guò)大,那么會(huì)出現(xiàn)水溫提得過(guò)高,影響到薄膜分子間的次價(jià)鍵力而出現(xiàn)發(fā)脆,即影響薄膜的使用,又使卷制電容器時(shí)邊緣無(wú)法卷齊,只得以降低速度來(lái)完成卷制任務(wù),從而給電容器的制作工藝造成不利.4.74.7 廢液污染問(wèn)題電暈處理過(guò)程中,由于兩極間施加高壓,產(chǎn)生的電子對(duì)兩極間空氣中的分子進(jìn)行碰撞和激活,產(chǎn)生臭氧及一氧化氮等物質(zhì),在一定的溫度下,由于它們的親水性,會(huì)與空氣中的水分子相結(jié)合,產(chǎn)生含有亞硝酸鹽、硝酸鹽成份的廢液,并且隨著空氣濕度的增加而增加.如果對(duì)產(chǎn)生的廢液不能及時(shí)進(jìn)行很好的清理,在排出管道或電極罩殼中存留下來(lái),就可能流滴

10、到輯面,并隨著輻的轉(zhuǎn)動(dòng)而造成膜面污染,造成薄膜局部浸潤(rùn)張力降低、附著不牢等,形成產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題.2.BOPP2.BOPP 薄膜電暈處理強(qiáng)度的影響因素電暈處理器由電極、 高電位器及硅橡膠輻組成,當(dāng)電壓通過(guò) 2.5MM2.5MM 的空氣間隙時(shí),就會(huì)產(chǎn)生連續(xù)放電,另外為了排除所產(chǎn)生的臭氧及降溫,用抽風(fēng)風(fēng)機(jī)把電暈處理器附近的空氣往外排走以及在硅橡膠輻內(nèi)部利用工藝水冷散熱.影響電暈處理效果的因素主要有以下幾種：2.12.1電極類(lèi)型電暈處理的效果與電極的設(shè)計(jì)有較大關(guān)系.設(shè)備上采用單電極或雙電極方式在處理效果上有一定的差異,雙電極比擬于單電極有幾方面優(yōu)點(diǎn)：文案大全實(shí)用文檔1 1、能產(chǎn)生更高處理值,耗能更低；2

11、 2、能減少儲(chǔ)存時(shí),外表張力的下降；3 3、減少薄膜在電暈處理過(guò)程中的受熱；4 4、減少外表感應(yīng)的靜電.2.22.2 薄膜溫度BOPPBOPP 是擠出厚片經(jīng)激冷后,再經(jīng)縱、橫二個(gè)方向拉伸后所制得的薄膜,在進(jìn)入牽引單元后,通過(guò)冷卻、切邊、測(cè)厚、預(yù)熱等工序,然后再進(jìn)行電暈處理.這時(shí)薄膜的溫度對(duì)電暈處理的效果有直接的影響,而薄膜溫度那么主要由預(yù)熱輻的設(shè)定溫度進(jìn)行限制,隨著薄膜溫度的升高,薄膜的外表處理達(dá)因值也同時(shí)升高.通過(guò)預(yù)熱輻的設(shè)定溫度來(lái)調(diào)整薄膜的外表處理達(dá)因值,是在工藝限制中經(jīng)常采用的有效方法之一.2.32.3 生產(chǎn)線速度生產(chǎn)線速度是影響電暈處理效果另一重要因素.BOPBOP 礴膜是在極短的時(shí)間

12、內(nèi)通過(guò)高壓電極間隙,而使外表達(dá)因值得以提升,于高壓電極間隙內(nèi)停留時(shí)間的長(zhǎng)短,會(huì)影響薄膜的電暈處理效果.由此可見(jiàn),電暈處理的電極電壓要隨著生產(chǎn)線速度的變化要作出相應(yīng)的調(diào)整,隨著生產(chǎn)線速度的增大而增大.2.42.4 電極排風(fēng)量在電暈處理過(guò)程中,隨著空氣離子化,會(huì)產(chǎn)生等離子體,其中包含有電子、氧離子、臭氧等,等離子體會(huì)滲透薄膜,破壞其它化學(xué)鍵,激發(fā)自由游離基,與氧氣離子起作用成氧化極化基,這些基團(tuán)會(huì)對(duì)薄膜的外表潤(rùn)濕特性產(chǎn)生影響.從另一方面來(lái)說(shuō),等離子體在薄膜外表的濃度會(huì)直接影響電暈處理的效果.一般而言,電極排風(fēng)閥門(mén)的開(kāi)啟度越大,薄膜的表文案大全實(shí)用文檔面處理達(dá)因值會(huì)越??；反之,電極排風(fēng)閥門(mén)的開(kāi)啟度越

13、小,薄膜的外表處理達(dá)因值會(huì)越大.2.52.5 外表材料BOPPBOPP 的生產(chǎn)會(huì)涉及到不同的材料及添加母料.BOPBOP 可分作熱封型和非熱封型兩大類(lèi),在表層的根本材料中分別是共聚物及均聚物,由于兩者材料本身的差異,在經(jīng)受同樣的電暈處理后,兩者外表張力有一定的差異,一般來(lái)說(shuō),對(duì)于共聚物,如目前國(guó)內(nèi)外常用的 SOLVAYKS4SOLVAYKS41313MONTELPLZ679BASEALEP5cMONTELPLZ679BASEALEP5c3 3 等,離子體滲透進(jìn)薄膜的外表效能比均聚物更大,所以熱封型薄膜會(huì)更加容易到達(dá)更高的處理強(qiáng)度.止匕外,在熱封型薄膜的配方設(shè)計(jì)上,通常為了適應(yīng)包裝機(jī)器的要求,需

14、要使用爽滑劑來(lái)改善薄膜的摩擦性能,在選擇爽滑劑時(shí)要盡可能預(yù)防使用硅酮類(lèi)爽滑劑,這是由于硅酮的外表張力比擬低,在常溫下約為 1212 達(dá)因,與 PPPP 的 3131 達(dá)因有較大的差距,使用硅酮類(lèi)爽滑劑會(huì)大幅降低 BOPPBOPP 勺外表張力值.抗靜電劑對(duì) BOPP!BOPP!膜電暈處理效果也會(huì)有一定的影響.抗靜電劑大多數(shù)添加在芯層,其具有遷移性,滲透至外表的抗靜電劑會(huì)影響薄膜的外表電暈處理特性,處理強(qiáng)度值會(huì)有一定程度的降低.2.62.6 外表材料BOBOP P哂膜在生產(chǎn)后還會(huì)發(fā)生結(jié)構(gòu)狀態(tài)的變化,在幾天內(nèi),聚合物由無(wú)定形變化成晶體形,從而影響電暈處理的效果.處理強(qiáng)度會(huì)隨著時(shí)間的推移先是逐步下降,

15、最后漸漸保持穩(wěn)定.電暈處理的消減幅度與貯存溫度有關(guān),溫度越高,消減幅度越快.文案大全實(shí)用文檔3.3.電暈處理對(duì)薄膜物理特性的影響電暈處理除了可以改變薄膜的外表達(dá)因值外,還會(huì)對(duì)薄膜的其他物理性能產(chǎn)生影響,主要包括以下幾方面：3.13.1 摩擦系數(shù)由于電暈處理的原理是薄膜經(jīng)過(guò)有兩高壓電極產(chǎn)生電子流,使薄膜外表產(chǎn)生極性,而薄膜處理面與非薄膜處理面相比,位于薄膜芯層的添加劑包括抗靜電劑及爽滑劑更加容易通過(guò)薄膜處理面滲出.以 ABAABA 類(lèi)型薄膜即內(nèi)、外兩面配方結(jié)構(gòu)相同的薄膜為例,未經(jīng)電暈處理的薄膜內(nèi)、外兩面的摩擦系數(shù)是一致的,但是在經(jīng)過(guò)電暈處理后,薄膜處理面的摩擦系數(shù)值比非處理面的摩擦系數(shù)值低.從生產(chǎn)到 1414 天后,薄膜芯層的添加劑處于高速的遷移期,處理面與非處理面的靜、 動(dòng)摩擦系數(shù)都呈快速下降趨勢(shì),1414 天后數(shù)值趨于穩(wěn)定.由整體上比擬,處理面的摩擦系數(shù)較非處理面的摩