金屬鍍覆和化學(xué)處理表示方法

1、金屬鍍覆和化學(xué)處理表示方法金屬鍍覆和化學(xué)處理的表示方法的國家標(biāo)準(zhǔn)為GB/T 1391120081、 適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金屬鍍覆和化學(xué)處理的標(biāo)識方法；本標(biāo)準(zhǔn)適用于金屬和非金屬制件上進(jìn)行電鍍、化學(xué)鍍以及化學(xué)處理的標(biāo)識；鋁及鋁合金表面化學(xué)處理的標(biāo)識方法可參照本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定通用的標(biāo)識方法。注：對金屬鍍覆和化學(xué)處理有本標(biāo)準(zhǔn)未予規(guī)定的要求時，允許在有關(guān)的技術(shù)文件中加說明。2、 規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款，經(jīng)引用的文件如下：GB/T 3138 金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語（GB/T 31381995，neq ISO 2079：1981）GB/T 9797 金屬覆蓋層

2、鎳+鉻和銅+鎳+鉻電鍍層（GB/T 97972005，ISO 1456：2003，IDT）GB/T 9798 金屬覆蓋層 鎳電沉積層（GB/T 97982005，ISO 1458：2002，IDT）GB/T 9799 金屬覆蓋層 鋼鐵上的鋅電鍍層（GB/T 97991997，eqv ISO 2081：1986）GB/T 11379 金屬覆蓋層 工程用鉻電鍍層（GB/T 113792008，ISO 6158：2004，IDT）GB/T 12332 金屬覆蓋層 工程用鎳電鍍層（GB/T 123322008，ISO 4526：2004，IDT）GB/T 12599 金屬覆蓋層 錫電鍍層 技術(shù)規(guī)范和試

3、驗方法（GB/T 125992002，ISO 2093：1986，MOD）GB/T 12600 金屬覆蓋層 塑料上鎳+鉻電鍍層（GB/T 126002005，ISO 4525：2003，IDT）GB/T 13913 金屬覆蓋層 化學(xué)鍍（自催化）鎳+磷電鍍層 規(guī)范和試驗方法（GB/T 139132008，ISO 4527：2003，IDT）GB/T 13346 金屬覆蓋層 鋼鐵上的鎘電鍍層（GB/T 133461992，idt ISO 2082：1986）GB/T 17461 金屬覆蓋層 錫鉛合金電鍍層（GB/T 174611998，eqv ISO 7587：1986）GB/T 17462 金屬

4、覆蓋層 錫鎳合金電鍍層（GB/T 174621998，eqv ISO 2179：1986）ISO 4521 金屬覆蓋層 工程用銀和銀合金電鍍層ISO 4523 金屬覆蓋層 工程用金和金合金電鍍層3、 術(shù)語與定義GB/T 3138中確立的術(shù)語與定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。4、 金屬鍍覆和化學(xué)處理的標(biāo)識方法4.1、金屬鍍覆和化學(xué)處理的標(biāo)識通常由四個部分組成第一部分包括鍍覆方法，該部分為組成標(biāo)識的必要元素；第二部分包括執(zhí)行的標(biāo)準(zhǔn)和基體材料，該部分為組成標(biāo)識的必要元素；第三部分包括鍍層材料、鍍層要求和鍍層特征，該部分構(gòu)成了鍍覆層的主要工藝特征，組成的標(biāo)識隨工藝特性變化而變化；第四部分包括每部分的詳細(xì)說明，如，化

5、學(xué)處理的方式、應(yīng)力消除的要求和合金元素的標(biāo)注。該部分為組成標(biāo)識的可選擇元素。金屬鍍覆和化學(xué)后處理的通用標(biāo)識見表 1 。 鍍覆標(biāo)識順序說明：a）、鍍覆方法應(yīng)用中文表示。為便于使用，常用中文：電鍍、化學(xué)鍍、機(jī)械鍍、電刷鍍、氣相沉積等表示。b）、本標(biāo)準(zhǔn)號為相應(yīng)鍍覆層執(zhí)行的國家標(biāo)準(zhǔn)號、或者行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)號；如不執(zhí)行的國家或者行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)則應(yīng)標(biāo)識該產(chǎn)品的企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)號，并注明該標(biāo)準(zhǔn)為企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，不允許為無標(biāo)準(zhǔn)號產(chǎn)品；c）、標(biāo)準(zhǔn)號后連接短橫杠“”；d）、基體材料用符號表示，見表 2常用基體材料的表示符號，對合金材料的鍍覆必要時還必須標(biāo)注出合金元素成分和含量；e）、基體材料后用斜杠“/”隔開；f）、當(dāng)需要底鍍層時，應(yīng)標(biāo)注底

6、鍍層材料、最小厚度（單位為m）, 底鍍層特征有要求時應(yīng)按典型標(biāo)識（見第5章）規(guī)定注明底鍍層特征符號，如無特征要求，則表示鍍層無特殊要求，允許省略底鍍層特征符號。對合金材料的鍍覆必要時還必須標(biāo)注出合金元素成分和含量。如果不需底鍍層，則不需標(biāo)注；g）、當(dāng)需要中鍍層時，應(yīng)標(biāo)注中鍍層材料、最小厚度（單位為m）, 中鍍層特征有要求時應(yīng)按典型標(biāo)識（見第5章）規(guī)定注明中鍍層特征符號，如無特征要求，則表示鍍層無特殊要求，允許省略中鍍層特征符號。對合金材料的鍍覆必要時還必須標(biāo)注出合金元素成分和含量。如果不需中鍍層，則不需標(biāo)注；h）、應(yīng)標(biāo)注面鍍層材料及最小厚度標(biāo)識, 面鍍層特征有要求時應(yīng)按典型標(biāo)識（見第5章）規(guī)定

7、注明面鍍層特征符號，對合金材料的鍍覆必要時還必須標(biāo)注出合金元素成分和含量。如無特征要求，則表示鍍層無特殊要求，則應(yīng)省略鍍層特征符號；i）、鍍層后處理為化學(xué)處理、電化學(xué)處理和熱處理，標(biāo)注方法見典型標(biāo)識規(guī)定（見第5章）；j）、必要時需標(biāo)注合金鍍層材料的標(biāo)識，二元合金鍍層應(yīng)在主要元素后面加括弧標(biāo)注主要元素含量，并用一橫杠連接次要元素，如：Sn（60）Pb表示錫鉛合金鍍層，其中錫質(zhì)量含量為60%；合金成分含量無需標(biāo)注或不便標(biāo)注時，允許不標(biāo)注。三元合金標(biāo)注出二種元素成分的含量，依此類推。4.2、金屬鍍覆方法及化學(xué)處理常用符號金屬材料用化學(xué)元素符號表示，合金材料用其主要成分的化學(xué)元素符號表示，非金屬材料用

8、國際通用縮寫字母表示。常用基體材料的表示符號見表 2 。5、典型的鍍覆層的標(biāo)識示例5.1、金屬基體上鎳+鉻和銅+鎳+鉻電鍍層的標(biāo)識金屬基體上鎳+鉻和銅+鎳+鉻電鍍層的標(biāo)識見GB/T 9797標(biāo)識的規(guī)定。鍍層特征標(biāo)識見表 3 ，典型標(biāo)識示例如下，非典型標(biāo)識參見GB/T 9797：示例 1 ：電鍍層GB/T 9797Fe/Cu20a Ni30b Cr mc該鍍覆標(biāo)識表示：在鋼鐵基體上鍍覆20m延展并整平銅+30m光亮鎳+0.3m微裂紋鉻的電鍍層標(biāo)識。示例 2 ：電鍍層GB/T 9797Zn/Cu20a Ni20b Cr mc該鍍覆標(biāo)識表示：在鋅合金基體上鍍覆20m延展并整平銅+20m光亮鎳+0.3

9、m微裂紋鉻的電鍍層標(biāo)識。示例 3 ：電鍍層GB/T 9797Cu/Ni25b Cr mp該鍍覆標(biāo)識表示：在銅合金基體上鍍覆25m半光亮鎳+0.3m微孔鉻的電鍍層標(biāo)識。示例 4 ：電鍍層GB/T 9797Al/Ni20s Cr r該鍍覆標(biāo)識表示：在鋁合金基體上鍍覆20m緞面鎳+0.3m常規(guī)鉻的電鍍層標(biāo)識。5.2、塑料上鎳+鉻電鍍層的標(biāo)識塑料上鎳+鉻、銅+鎳+鉻電鍍層的標(biāo)識見GB/T 12600標(biāo)識的規(guī)定。鍍層特征標(biāo)識見表 3 ，標(biāo)識示例及說明如下：示例 1 ：電鍍層GB/T 12600PL/Cu15a Ni 10b Cr mp（或mc）該鍍覆標(biāo)識表示：在塑料基體上鍍覆15m延展并整平銅+10m光

10、亮鎳+0.3m微孔或微裂紋鉻的電鍍層標(biāo)識。示例 2 ：電鍍層GB/T 12600PL/ Ni 20dp Ni 20d Cr mp該鍍覆標(biāo)識表示：在塑料基體上鍍覆20m延展鎳+20m雙層鎳+0.3m微孔鉻的電鍍層標(biāo)識。注：dp表示從專門預(yù)鍍?nèi)芤褐须婂冄诱剐灾鶢铈囧儗?.3、金屬基體上裝飾性鎳、銅+鉻電鍍層的標(biāo)識金屬基體上鎳、銅+鉻電鍍層的標(biāo)識見GB/T 9798標(biāo)識的規(guī)定。鍍層特征標(biāo)識見表 3 ，標(biāo)識示例及說明如下：示例 1 ：電鍍層GB/T 9798Fe/ Cu 20a Ni 25s該鍍覆標(biāo)識表示：在鋼鐵基體上鍍覆20m延展并整平銅+25m緞面鎳的電鍍層標(biāo)識。示例 2 ：電鍍層GB/T 979

11、8Fe/Ni30p 該鍍覆標(biāo)識表示：在鋼鐵基體上鍍覆30m半光亮鎳的電鍍層標(biāo)識。示例 3 ：電鍍層GB/T 9798Zn/Cu10a Ni15b 該鍍覆標(biāo)識表示：在鋅合金基體上鍍覆10m延展并整平銅+15m全光亮鎳的電鍍層標(biāo)識。示例 4 ：電鍍層GB/T 9798Cu/Ni10b 該鍍覆標(biāo)識表示：在銅合金基體上鍍覆10m全光亮鎳的電鍍層標(biāo)識。示例 5 ：電鍍層GB/T 9797Al/Ni25b 該鍍覆標(biāo)識表示：在鋁合金基體上鍍覆25m全光亮鎳的電鍍層標(biāo)識。a、作為鍍鎳、鍍鉻的底層的銅鍍層的厚度（供參考）輕度腐蝕的大氣中 鍍層厚度 15m中等腐蝕的大氣中 鍍層厚度 30m嚴(yán)重腐蝕的大氣中 鍍層厚

12、度 45mb、裝飾性鉻鍍層的厚度 鍍層厚度 13m （供參考） 說明：裝飾性鉻鍍層必須要以銅或黃銅作底層。c、鍍銅、鍍鎳、鍍鉻的三層鍍防腐層的厚度 m（供參考）使用條件銅（氰化物法）銅（酸性法）鎳鉻輕度腐蝕的大氣中312101中等腐蝕的大氣中322151嚴(yán)重腐蝕的大氣中332201 氰化鍍銅具有均鍍能力好，鍍層結(jié)晶細(xì)致和基體金屬有良好的結(jié)合力的特點，廣泛用于鋼鐵件和鋅基合金壓鑄件上的預(yù)鍍層。而硫酸鍍銅有著良好的整平性和鏡面光亮度，且成本低。5.4、鋼鐵上鋅電鍍層、鎘電鍍層的標(biāo)識鋼鐵基體上鋅電鍍層、鎘電鍍層的標(biāo)識見GB/T 9799和GB/T 13346標(biāo)識的規(guī)定。標(biāo)識中有關(guān)電鍍鋅、鎘電鍍層化學(xué)

13、處理及分類符號見表 4及表 5 。標(biāo)識示例及說明如下：示例 1 ：電鍍層GB/T 9799Fe/Zn25 c1A 該鍍覆標(biāo)識表示：在鋼鐵基體上電鍍鋅層至少為25m，電鍍后鍍層光亮鉻酸鹽處理。示例 2 ：電鍍層GB/T 13346Fe/Cd 8 c2C 該鍍覆標(biāo)識表示：在鋼鐵基體上電鍍鎘層至少為8m，電鍍后鍍層彩虹鉻酸鹽處理。a、鋅鍍層的厚度（供參考）室內(nèi)或良好條件下 鍍層厚度 710m室外或潮濕空氣中 鍍層厚度 1020m十分潮濕空氣或工業(yè)性大氣中 鍍層厚度 2040m汽油、煤油、潤滑油等油類中 鍍層厚度 2050mb、鎘鍍層的厚度（供參考）海洋性大氣中 鍍層厚度 1040m海洋或氯化鈉溶液中

14、 鍍層厚度 4050m工業(yè)性大氣中 鍍層厚度 515m潮濕大氣中 鍍層厚度 715m5.5、工程用鉻電鍍層的標(biāo)識工程用鉻電鍍層的標(biāo)識見GB/T 11379的規(guī)定。標(biāo)識中工程用鉻鍍層特征符號見表 6 ，為確保鍍層與基體金屬之間的結(jié)合力良好，工程用鉻在鍍前和鍍后有時需要熱處理。鍍層熱處理特征符號見表 7，熱處理特征標(biāo)識見GB/T 11379。標(biāo)識示例及說明如下：示例 1 ：電鍍層GB/T 11379Fe/ Cr50hr該鍍覆標(biāo)識表示：在低碳鋼基體上直接電鍍厚度為50m的常規(guī)硬鉻（Cr50hr）的電鍍層標(biāo)識。示例 2 ：電鍍層GB/T 11379Al / Cr250hp該鍍覆標(biāo)識表示：在鋁合金基體上

15、直接電鍍厚度為250m多孔鉻電鍍層的標(biāo)識。示例 3 ：電鍍層GB/T 11379Fe/ Ni10sf/Cr25hr該鍍覆標(biāo)識表示：在鋼基體上電鍍底鍍層為10m厚的無硫鎳+25m的常規(guī)硬鉻電鍍層的標(biāo)識。示例 4 ：電鍍層GB/T 11379Fe/SR（210）2/Cr50hr/ER（210）22該鍍覆標(biāo)識表示：在鋼基體上電鍍厚度為50m厚的常規(guī)硬鉻電鍍層，電鍍前在210下進(jìn)行消除應(yīng)力的熱處理2h，電鍍后在210下進(jìn)行降低脆性的熱處理22h。注：1：鉻鍍層及面鍍層和底鍍層的符號，每一層之間按鍍層的先后順序用斜線（/）分開。鍍層標(biāo)識應(yīng)包括鍍層的厚度（以微米計）和熱處理要求。工序間不作要求的步驟應(yīng)用雙

16、斜線（/）標(biāo)明。注：2：鍍層熱處理特征標(biāo)識，例如：SR（210）1 表示在210下進(jìn)行消除應(yīng)力的熱處理1h。 說明：在鋼鐵上鍍硬鉻可直接鍍，鍍層厚度可達(dá)501000m，一般鍍后都要經(jīng)過研磨。5.6、工程用鎳電鍍層的標(biāo)識工程用鎳電鍍層的標(biāo)識見GB/T 12332的規(guī)定。標(biāo)識中工程用鎳鍍層類型、含硫量及延展性標(biāo)識見表 8 ，為確保鍍層與基體金屬之間的結(jié)合力良好，工程用鎳在鍍前和鍍后有時需要熱處理。鍍層熱處理特征符號見表 7，標(biāo)識示例及說明如下：示例 1 ：電鍍層GB/T 12332Fe/ Ni50sf該鍍覆標(biāo)識表示：在碳鋼基體上電鍍的最小局部厚度為50m無硫的工程用鎳電鍍層的標(biāo)識。示例 2 ：電鍍

17、層GB/T 12332Al / Ni75pd該鍍覆標(biāo)識表示：在鋁合金基體上電鍍的最小局部厚度為75m、無硫的、鎳層含有共沉積的碳化硅顆粒的工程用鎳電鍍層的標(biāo)識。示例 3 ：電鍍層GB/T 12332Fe/SR（210）2/ Ni25 sf /ER（210）22該鍍覆標(biāo)識表示：在高強(qiáng)度鋼基體上電鍍的最小局部厚度為25m無硫的工程用鎳電鍍層，電鍍前在210下進(jìn)行消除應(yīng)力的熱處理2h，電鍍后在210下進(jìn)行降低脆性的熱處理22h。注：鎳和鎳合金鍍層及底鍍層和面鍍層的符號，每一層之間按鍍層的先后順序用斜線（/）分開。鍍層標(biāo)識應(yīng)包括鍍層的厚度（以微米計）和熱處理要求。工序間不作要求的步驟應(yīng)用雙斜線（/）標(biāo)

18、明。5.7、化學(xué)鍍（自催化）鎳磷合金電鍍層的標(biāo)識化學(xué)鍍鎳磷鍍層的質(zhì)量與基體金屬的特性、鍍層及熱處理條件有密切關(guān)系（見GB/T 13913的說明和規(guī)定）。所以化學(xué)鍍鎳磷鍍層的標(biāo)識包括4.1規(guī)定的通用標(biāo)識外，必要時還應(yīng)包括基體金屬的特殊合金的標(biāo)識、基體和鍍層消除內(nèi)應(yīng)力的要求、化學(xué)鍍鎳-磷鍍層中的磷含量。雙斜線（/）將用于指明某一步驟或操作沒有被例舉或被省略?；瘜W(xué)鍍鎳-磷鍍層應(yīng)用符號NiP標(biāo)識，并在緊跟其后的圓括弧中填入鍍層磷含量的數(shù)值，然后再在其后注出化學(xué)鍍鎳-磷鍍層的最小局部厚度，單位m。典型標(biāo)識示例如下，非典型的化學(xué)鍍的標(biāo)識參見GB/T 13913。示例 1 ：化學(xué)鍍鎳-磷鍍層GB/T 139

19、13Fe<16Mn>SR（210）22/ NiP（10）15 /Cr0.5ER（210）22該標(biāo)識表示：在16Mn鋼基體上化學(xué)鍍含磷量為10%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)），厚度為15m的鎳-磷鍍層，化學(xué)鍍前要求在210的溫度下進(jìn)行22h的消除應(yīng)力的熱處理，化學(xué)鍍鎳后再在其表面電鍍0.5m 厚的鉻。最后在210的溫度下進(jìn)行22h的消除氫脆的熱處理。示例 2 ：化學(xué)鍍鎳-磷鍍層GB/T 13913Al<2B12>/ / NiP（10）15 /Cr0.5/該標(biāo)識表示：在鋁合金基體上化學(xué)鍍含磷量為10%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)），厚度為15m的鎳-磷鍍層，化學(xué)鍍鎳后再在其表面電鍍0.5m 厚的鉻，不需要熱處

20、理。示例 3 ：化學(xué)鍍鎳-磷鍍層GB/T 13913Cu<H68>/ / NiP（10）15 /Cr0.5/該標(biāo)識表示：在銅合金基體上化學(xué)鍍含磷量為10%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)），厚度為15m的鎳-磷鍍層，化學(xué)鍍鎳后再在其表面電鍍0.5m 厚的鉻，不需要熱處理。5.8、工程用銀和銀合金電鍍層的標(biāo)識工程用銀和銀合金電鍍層的標(biāo)識見ISO 4521標(biāo)識的規(guī)定。貴金屬鍍層常用厚度見表 9 。典型標(biāo)識示例如下，非典型的標(biāo)識參見ISO 4521：示例 1 ：電鍍層ISO 4521Fe/Ag10該標(biāo)識表示：在鋼鐵金屬基體上電鍍厚度為10m的銀電鍍層的標(biāo)識。示例 2 ：電鍍層ISO 4521Fe/Cu10 N

21、i10 Ag5該標(biāo)識表示：在鋼鐵金屬基體上電鍍厚度為10m的銅電鍍層+10m的鎳電鍍層+5m的銀電鍍層的標(biāo)識。示例 3 ：電鍍層ISO 4521Al/ Ni20 Ag5該標(biāo)識表示：在鋁或鋁合金基體上電鍍厚度為20m的鎳電鍍層+5m的銀電鍍層的標(biāo)識。5.9、工程用金和金合金電鍍層的標(biāo)識工程用金和金合金電鍍層的標(biāo)識見ISO 4523標(biāo)識的規(guī)定。如果需要表示金的金屬純度時，可在該金元素符號后用括號（）列出質(zhì)量百分?jǐn)?shù)，精確至小數(shù)點后一位。貴金屬鍍層常用厚度見表 9 。標(biāo)識示例及說明如下：示例 1 ：電鍍層ISO 4523Fe/Au（99.9）2.5該標(biāo)識表示：在鋼鐵金屬基體上電鍍厚度為2.5m純度為99.9%的金電鍍層的標(biāo)識。示例 2 ：電鍍層ISO 4523Fe/Cu10 Ni5 Au1該標(biāo)識表示：在鋼鐵金屬基體上電鍍厚度為10m的銅電鍍層，再電鍍厚度為5m的鎳電鍍層后，電鍍1m的金電鍍層的標(biāo)識。示例 3 ：電鍍層ISO 4523Al/ Ni20 Auo.5該標(biāo)識表示：在鋁或鋁合金基體上電鍍厚度為20m的鎳電鍍層后，電鍍0.5