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1、CTGS-資料文件化學(xué)轉(zhuǎn)移應(yīng)用:1.形成大而完美的單晶 2分離提純物質(zhì)3合成新化合物 低溫分離:1.分級(jí)冷凝2分級(jí)減壓蒸發(fā)3吸附分離4分餾5化學(xué)分離 當(dāng)兩種化合物通過(guò)它們揮發(fā)性的差別進(jìn)行分離不容易時(shí)使用。高壓下無(wú)機(jī)化合物變化:1.提高反應(yīng)速率和產(chǎn)物轉(zhuǎn)化率,降低合成溫度,縮短合成進(jìn)度2可以合成一些常壓高溫方法難于合成的化合物 3高壓有增加物質(zhì)的密度,對(duì)稱(chēng)性、配位數(shù)的作用,可以縮短鍵長(zhǎng)4非平衡相變中,高壓可以使非晶體發(fā)生晶化 5晶體的能帶結(jié)構(gòu)在高壓條件下發(fā)生改變 6容易獲得單相物質(zhì)低熱固相反應(yīng):擴(kuò)散、反應(yīng)、成核、長(zhǎng)大規(guī)律:1潛伏期2無(wú)化學(xué)平衡3拓?fù)浠瘜W(xué)控制原理4分步反應(yīng)5嵌入反應(yīng) 應(yīng)用:1合成原子
2、簇化合物 2合成新的配合物3合成固配化合物 水熱法:在T> 100°, P> 1mPa的環(huán)境下過(guò)飽和睡溶液中進(jìn)行結(jié)晶的方法。方法:金屬鹽、氧化物、氫氧化物的前驅(qū)體溶液在T> 100 ° , P> 1mPa的環(huán)境下過(guò)飽和形核,長(zhǎng)大成晶體。應(yīng)用:1合成晶體2合成多孔材料3合成其他方法得不到的材料優(yōu)點(diǎn):1生成低溫固相單晶,高粘度材料2生成高蒸生壓,分解的材料 3晶體發(fā)育好,幾何形狀完美過(guò)程:1在高壓釜中加入適量的原料到溶解區(qū)2待溶解的原料溶解后,由于溫差產(chǎn)生對(duì)流,原料向生成區(qū)擴(kuò)散3高溫的飽和溶液至籽晶區(qū)形成過(guò)飽和溶液而結(jié)晶4.冷卻析出部分溶質(zhì)的溶液又流向下
3、部5.循環(huán)化學(xué)沉積:兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi),然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成一種新的 材料,沉積到基片表面上。要求:1原料必須是氣體,或者在高溫容易氣化,擁有很高的純度2通過(guò)沉積反應(yīng)易于生產(chǎn)所需要的材料沉積物,副反應(yīng)產(chǎn)物一定是氣體,主反應(yīng)物一定是固體3整個(gè)反應(yīng)要易于控制步驟:1進(jìn)入氣體,由于有濃度梯度,所以擴(kuò)散邊界層2吸附在基片上 3.接觸后反應(yīng)4由于粒子找不到合適位置,解析5抽離。生態(tài)物與反應(yīng)物進(jìn)入氣流層,離開(kāi)系統(tǒng)微波:是一種頻率在 300mHz到3000GHz,即波長(zhǎng)在0.1mm到1000mm范圍內(nèi)的電磁波加熱機(jī)理:極性分子會(huì)產(chǎn)生偶極矩,不過(guò)約為零。微波作用后,出現(xiàn)
4、偶極矩極化,偶極矩不再為零。在外力電磁 場(chǎng)的作用下,無(wú)論極性分子還是非極性分子,都會(huì)產(chǎn)生電子相對(duì)于原子核的移動(dòng)和原子核之間的位移。對(duì)于非均 相體系來(lái)說(shuō),外加電磁場(chǎng)對(duì)桌面電荷產(chǎn)生桌面極化。由于微波是交變電場(chǎng),使極性分子不斷改變方向,運(yùn)動(dòng)加 劇,分子劇烈碰撞產(chǎn)生熱,把電磁能轉(zhuǎn)化為熱能。特點(diǎn):1.加熱快2.加熱均勻3.節(jié)能高效4.易于控制5.清潔衛(wèi)生6.安全無(wú)害 薄膜:厚度很小的二維材料特性:1.熔點(diǎn)降低2.表面散射3.表面能級(jí) 晶體結(jié)構(gòu):?jiǎn)尉А⒍嗑А⒎蔷⒂^結(jié)構(gòu):1.薄膜呈現(xiàn)柱狀與空穴結(jié)構(gòu) 2.柱狀垂直于基片表面生長(zhǎng) 3.層面桌面明顯 缺陷:空位、位錯(cuò)、雜質(zhì)、晶界附著力:范德華力、靜電力、化學(xué)鍵合
5、內(nèi)應(yīng)力:拉應(yīng)力、壓應(yīng)力外延:薄膜可沿單晶基片的結(jié)晶軸方向呈單晶生長(zhǎng)。(同質(zhì)外延異質(zhì)外延)條件:1.吸附原子必須有高的遷移率 2.基片與薄膜材料的結(jié)晶相容性3.要求基片干凈、光滑、穩(wěn)定薄膜生長(zhǎng)模式 島狀生長(zhǎng):原子第一步沉積在裸露的襯底表面,逐步形成小島,襯底表面上的小島可能同時(shí)增長(zhǎng), 也可以部分分解成單個(gè)原子,同時(shí)可以在形成薄膜前在大范圍內(nèi)進(jìn)行重新排列。層狀生長(zhǎng):以單層開(kāi)始,然后進(jìn)行第二層生長(zhǎng),生長(zhǎng)薄膜的晶向基本上由第一層的晶向所決定復(fù)合生長(zhǎng):是層狀生長(zhǎng)與島狀生長(zhǎng)混合的生長(zhǎng)模式。先層狀生長(zhǎng),之后在一層或若干層之上再進(jìn)行島狀生長(zhǎng) 薄膜形核:自發(fā)形核:完全是在相變自由能的推動(dòng)下進(jìn)行。非自發(fā)形核:還有
6、其他因素起到了作用均勻形核:核心不依附于任何雜質(zhì)自發(fā)形成,形核勢(shì)壘很大,要過(guò)冷到很低的溫度才有結(jié)晶。非均勻形核:核心 依附于液相。原子沉積過(guò)程:1.氣相原子的沉積或吸附 2.表面擴(kuò)散3.體擴(kuò)散物理氣相沉積:在真空條件下,采用物理方法,將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,并通過(guò)低壓氣體過(guò)程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的技術(shù)。類(lèi)型:蒸發(fā)沉積濺射鍍膜 離子鍍膜CTGS-資料文件真空蒸鍍的方式:電阻加熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)高頻加熱激光加熱化學(xué)鍍特點(diǎn):1工藝簡(jiǎn)單,適用范圍廣,不需要電源,2鍍層與基體的結(jié)合強(qiáng)度好3成品率高,成本低,溶液可循環(huán)使用,副反應(yīng)少 4無(wú)毒,環(huán)保5投資少.
7、溶液鍍膜法:在溶液中利用化學(xué)反應(yīng)或電化學(xué)反應(yīng)在基片表面沉積薄膜的技術(shù)方法:化學(xué)反應(yīng)沉積陽(yáng)極氧化電鍍?nèi)苣z凝膠電鍍?cè)恚宏?yáng)極失去電子,溶解。陰極得到電子,沉淀優(yōu)點(diǎn):常溫下進(jìn)行,膜層細(xì)致,無(wú)針孔,平整,不粗糙,厚度易控制,設(shè)備不復(fù)雜缺點(diǎn):影響因素多,只能在金屬上鍍膜表征:厚度的測(cè)量,形貌和結(jié)構(gòu)的表征,成分分析厚度:幾何厚度、光學(xué)厚度、質(zhì)量厚度方法:光學(xué)法、機(jī)械法、電學(xué)法顯微結(jié)構(gòu)的表征結(jié)構(gòu)表征方法:X射線衍射、掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡、低能電子衍射 成分成分分析方法:X射線能量色散譜、俄歇電子能譜、 X射線光電子能譜 新型陶瓷與傳統(tǒng)區(qū)別及特點(diǎn)區(qū)別:1原材料不同2化學(xué)組成不同3品種不同4制備工藝不
8、同5用途不同特點(diǎn)。1陶瓷的結(jié)合鍵一般為離子鍵和共價(jià)鍵2顯微組織的不均勻性和復(fù)雜性。新型陶瓷材料一般經(jīng)過(guò)原料粉碎配制,成型和燒結(jié)等過(guò)程,其顯微組織是由晶體相,玻璃相和氣相組成,而各種相的相對(duì)量變化很大,分布不均 勻,但陶瓷材料一旦燒結(jié)成型,不能用冷熱加工工藝改變由顯微組織和結(jié)構(gòu)。粉體要求:高純、超微細(xì)、0.1卩m1卩m制備方法:機(jī)械法(滾筒、攪拌、行星)、化學(xué)合成法粉碎定義:一種大塊物變成小塊的物品并產(chǎn)生新表面的過(guò)程。追求:增加反應(yīng)速率,有利于物品的均勻混合,便于原料顆粒內(nèi)的成分進(jìn)行分離,提高物品的工藝性能,便于輸 送和儲(chǔ)存球星球磨機(jī)原理:當(dāng)筒體旋轉(zhuǎn)時(shí),帶動(dòng)研磨體旋轉(zhuǎn),靠離心力和摩擦力的作用,將
9、磨球帶到一定高度當(dāng)離心力小于其自身重量時(shí),研磨體下落,沖擊下部研體及筒壁,而介于其間的粉體受到?jīng)_擊和研磨。特點(diǎn):1進(jìn)料粒度在980納米左右,出料粒度小于 74納米2.球磨灌轉(zhuǎn)速快,球磨效率高,具有公轉(zhuǎn)和自傳3結(jié)構(gòu)緊湊,制作方便,噪音低,無(wú)污染 液相法:直接沉淀、均勻沉淀、共沉淀法陶瓷粉體成型前預(yù)處理過(guò)程 :1原料煅燒(去除原料的雜質(zhì),去除化學(xué)結(jié)合和物理附水、氣分、有機(jī)物)2原料的混合(干混、濕混)3制粒(普通,壓塊,噴霧制粒法)4塑化(物品中加入塑化劑,使物品具有可塑性的過(guò)程).成型:注漿成型、壓制成型、塑性成型干壓影響:1氣體2坯體水分3加壓次數(shù)對(duì)層裂4壓制進(jìn)度燒結(jié):熱壓、反應(yīng)、等離子熱壓燒
10、結(jié) 定義:針對(duì)高溫下在粉料中可能發(fā)生的某種化學(xué)反應(yīng)過(guò)程,因勢(shì)利導(dǎo),加以利用的一種熱壓燒結(jié)的方 法。.特點(diǎn):成型壓力小,燒結(jié)溫度不大,燒結(jié)進(jìn)度短,得到晶粒細(xì)小,致密度高和機(jī)械,電學(xué)性能良好的產(chǎn)品,無(wú)需 添加燒結(jié)助劑和成型助劑,可生產(chǎn)高純度的陶瓷產(chǎn)品。反應(yīng)燒結(jié) 定義:通過(guò)多孔坯體同氣相或液相發(fā)生化學(xué)反應(yīng),使坯體質(zhì)量增加,孔隙減小,并燒結(jié)成為具有一定溫度和尺寸精度的成品的工藝。特點(diǎn):質(zhì)量增加,可以制造尺寸精確的制品,遷移過(guò)程發(fā)生在長(zhǎng)距離范圍內(nèi),反應(yīng)速度取決于傳質(zhì)和傳熱過(guò)程,液相反應(yīng)燒結(jié)工藝在形式上同粉末冶金中的熔浸法類(lèi)似。氧化物非氧化物的特點(diǎn):1與碳結(jié)合材料比較,它們具有優(yōu)越得多的常溫和高溫抗折溫度
11、。2較強(qiáng)的抗氧化性 3.與氧化物比較,它們具有較好的抗熱震性4抗渣侵蝕性好相變過(guò)程:氣相t固相 過(guò)飽和度 液相t固相 熔體 過(guò)冷形核機(jī)理:獲得結(jié)晶驅(qū)動(dòng)力,第一步形成新相的核,體系內(nèi)出現(xiàn)兩相桌面CTGS-資料文件晶體的生長(zhǎng)機(jī)制:1.完整光滑桌面生長(zhǎng)機(jī)制:在一個(gè)尚未生長(zhǎng)完全的桌面上找出最佳生長(zhǎng)位置2非完整光滑桌面生長(zhǎng)機(jī)制:晶面上存在的螺旋位錯(cuò)可以作為晶體生長(zhǎng)的源頭,或者可以對(duì)光滑晶面的生長(zhǎng)起到催化作用3.其他位錯(cuò)生長(zhǎng)機(jī)制.助溶劑法:原理:將組成結(jié)晶物質(zhì)的原料在高溫下溶解于低熔點(diǎn)的助溶劑中,使之形成飽和溶液,然后通過(guò)緩慢降溫或在恒定溫度下蒸發(fā)戎機(jī)等方法,使熔融液過(guò)飽和,從而使結(jié)晶物質(zhì)析出生長(zhǎng)的方法.
12、特點(diǎn):生長(zhǎng)溫度低。設(shè)備簡(jiǎn)單。晶體生長(zhǎng)周期長(zhǎng)。晶體一般較小氣液固技術(shù)制備晶須材料的原理 :普通的氣相生長(zhǎng)是從氣相直接析出固相,VLSi法與之有一點(diǎn)不同,是從氣相析出固相的過(guò)程是通過(guò)溶液作媒介的。非晶態(tài)特點(diǎn):普遍存在。結(jié)構(gòu)特征性能與進(jìn)度有關(guān)(老化)。微觀上結(jié)構(gòu)及動(dòng)力學(xué)不均勻。原子尺度納米效應(yīng)局 部特性。長(zhǎng)程無(wú)序、短程有序。從熱力學(xué)上看處于亞穩(wěn)狀態(tài).玻璃特性:1.各向同性2介穩(wěn)性3熔融態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)椴AB(tài)是漸變的,可逆的,在一定溫度范圍內(nèi)完成,無(wú)固定熔點(diǎn)4.熔融態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)椴AB(tài)過(guò)程中,物理化學(xué)性質(zhì)連續(xù)變化結(jié)構(gòu)學(xué)說(shuō):1微晶子學(xué)說(shuō):無(wú)論溫度升高或者降低,硅酸鹽玻璃在打到573 C時(shí),性質(zhì)必然發(fā)生反常變化,而57
13、3 C正是石英由a型向B型變的溫度,認(rèn)為玻璃是高度分散晶體的集合體。要點(diǎn):1硅酸鹽玻璃是由各種硅酸鹽和二氧化硅等微晶體組成,玻璃中的金屬離子和SiO4離子團(tuán)或更復(fù)雜的硅氧離子團(tuán)以一定數(shù)量結(jié)合2這些微晶體不是正常晶格構(gòu)造的晶體,而是原子有序排列的微區(qū).2無(wú)規(guī)則網(wǎng)絡(luò)學(xué)說(shuō):凡是成為玻璃態(tài)的物質(zhì)與相應(yīng)的晶體結(jié)構(gòu)一樣,也是一個(gè)我、三維空間網(wǎng)絡(luò)所構(gòu)成,這種網(wǎng) 絡(luò)是離子多面體構(gòu)筑起來(lái)的,晶體結(jié)構(gòu)網(wǎng)咯是由多面體無(wú)數(shù)有規(guī)則的重復(fù)而構(gòu)成的,而玻璃種結(jié)構(gòu)多面體的重復(fù) 沒(méi)有規(guī)律性.非晶形成原理:1.非晶形成能力(理論上只要冷卻速度足夠快,所有合金都能形成非晶態(tài)合金)2熱力學(xué)分析(合金組元數(shù)的增多使厶 S增大,導(dǎo)致緊密
14、的隨機(jī)程度增加)3動(dòng)力學(xué)分析(抑制形核和結(jié)晶的條件是提高非晶形成能力的條件)4鍵合條件(共價(jià)鍵、離子鍵電負(fù)性大)5結(jié)構(gòu)條件(組元之間具有較大原子尺寸差的合金有利于玻璃的形成) 浮法成型玻璃特點(diǎn):1質(zhì)量好表面平整度、透光率、處理質(zhì)量均達(dá)到磨光玻璃的水平2能生產(chǎn)超薄和超厚的玻璃3生產(chǎn)能力強(qiáng),窯的熔化量大,玻璃牽引速度快。.凝膠注模原理:陶瓷粉體溶于有機(jī)物的水溶液中,經(jīng)球磨后形成高固相體積分散的懸浮體,然后注入一定形狀的 模具中,通過(guò)有機(jī)的凝膠反應(yīng),進(jìn)行原位網(wǎng)狀聚合,粉體顆粒聚集在一起以使單位溶液成為負(fù)載陶瓷粉體的低載 體,通過(guò)交聯(lián)作用使?jié){料形成聚合物的凝膠。通過(guò)干燥去除凝膠部件的溶劑,同時(shí)由于聚合
15、物的橫向連接,聚合 物不會(huì)隨溶劑遷移。 工藝:將有機(jī)單位和交聯(lián)劑溶于水溶劑或有機(jī)溶劑,配制或預(yù)混液,再將陶瓷粉體和分散劑 再將陶瓷粉體和分散劑加入預(yù)混液,球磨,真空除泡,制備出低粘度高固相體積分?jǐn)?shù)的濃懸浮液,然后在注模前 依次加入引發(fā)劑和催化劑,十足攪拌均勻后,將漿料注入非多孔模具中,在一定溫度下引發(fā)有機(jī)單體聚合或三維 網(wǎng)狀聚合物凝膠,并將陶瓷顆粒原位粘結(jié)固話形式濕坯,脫膜后干燥,得到高強(qiáng)度坯體,最后燒結(jié),獲得樣品。 特點(diǎn):適用范圍廣,可制備單相材料和復(fù)合材料,水敏感性和不敏感性材料??芍苽涑鰪?fù)雜形狀的部體,同時(shí)該 工藝制備出的生坯強(qiáng)度高,可以進(jìn)行機(jī)械加工,有機(jī)物含量少,排除較易。成型坯體組分
16、與密度均勻、缺陷少, 燒結(jié)后坯體收縮很小,可實(shí)現(xiàn)成型過(guò)程的連續(xù)化和機(jī)械化。影響因素:1.固體體積分?jǐn)?shù)2有機(jī)物比例及含量 3.pH值及分散劑4引發(fā)劑、催化劑用量 5氣泡消除6固化. 直接凝固成型:原理:基于內(nèi)部化學(xué)反應(yīng)來(lái)調(diào)節(jié)陶瓷漿料的ph值以及增加電解質(zhì)的濃度使雙電層的電位為零,以受控的醇催反應(yīng)再次調(diào)節(jié)ph值,或改變漿料中的離子濃度,控制陶瓷泥漿膠體的分散。凝聚狀態(tài),從而使高固相含量的漿料膜前反應(yīng)緩慢進(jìn)行,漿體保持低黏度,注模后反應(yīng)加快進(jìn)行,漿料凝固,便其固化成型。工藝:第一步制備出固相體積分?jǐn)?shù)高達(dá)50vdl%以上,低黏度,分散性好,流動(dòng)性好,以及靜電穩(wěn)定的懸浮液。然后將漿料溫度降到 0到5
17、176;,在懸浮液中加入延遲反應(yīng)的生物酶或底物,懸浮體注入模具后,升溫至20到50°,與底物反應(yīng),通過(guò)酶的催化反應(yīng)調(diào)節(jié)體系的ph值,從而使體系的電位移向等電點(diǎn),導(dǎo)致懸浮液的黏度增加,成為濕坯體,干燥,再進(jìn)行燒結(jié)。.特點(diǎn):可成型出高固相體積分?jǐn)?shù)且顯微結(jié)構(gòu)均勻的復(fù)雜形狀,不需要加入粘結(jié)劑,不添加或少量添加劑,密度均勻,相對(duì)密度高,化學(xué)反應(yīng)可控制。模具結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,模具材料選擇范圍廣,成本低。.CTGS-資料文件提拉法原理原理:將構(gòu)成晶體的原料放在坩堝中加熱熔化,調(diào)整爐內(nèi)溫度場(chǎng),使熔體上部處于過(guò)冷狀態(tài),然后在 籽晶桿上安放一粒籽晶,讓籽晶接觸熔體表面,待籽晶表面稍溶后,提拉并轉(zhuǎn)動(dòng)籽晶桿,使熔體處于過(guò)冷狀態(tài)而 結(jié)晶于籽晶上,在不斷提拉和旋轉(zhuǎn)過(guò)程中生長(zhǎng)出圓柱狀晶體.特點(diǎn):優(yōu):1在生長(zhǎng)過(guò)程中,可以直接觀察晶體的生長(zhǎng)狀況,這為控制晶體外形提供有利條件2晶體在熔體的自由表面處生長(zhǎng),不與坩堝相接觸,能顯著減小晶體的應(yīng)力并防止坩堝壁上的寄生成核3可以方便地使用定向籽晶和縮頸技術(shù),得到不同取向的單晶體,降低晶體中的位錯(cuò)密度,
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