觸控面板黃光制程工藝全解

1、觸控面板制造工藝之黃光工藝流程全解發(fā)布時間： 2014-8-22作為目前電容式觸摸屏最為主流的制造工藝， 黃光制程一直備受關(guān)注。 技術(shù)發(fā)展到今天， 已經(jīng)擁有非常完善的工藝。 本文將從黃光制程的步 驟入手，全面介紹制程中每個步驟及所需注意的事項。1. PR前清洗A. 清洗：指清除吸附在玻璃表面的各種有害雜質(zhì)或油污。 清洗方法是利用各種 化學(xué)濃劑（ KOH ）和有機濃劑與吸附在玻璃表面上的雜質(zhì)及油污發(fā) 生化學(xué)反應(yīng)和濃解作用， 或以磨刷噴洗等物理措施， 使雜質(zhì)從玻璃表 面脫落，然后用大量的去離子水（ DI 水）沖洗，從而獲得潔凈的玻 璃表面。（風(fēng)切是關(guān)鍵）B干燥：因經(jīng)過清洗后的玻璃， 表面沾有水或有

2、機濃劑等清洗液。 這樣會對后 續(xù)工序造成不良影響，特別是對后續(xù)光刻工藝會產(chǎn)生浮膠、鉆蝕、圖 形不清晰等不良現(xiàn)象。因此，清洗后的玻璃必須經(jīng)過干燥處理。 目 前常采用的方法是烘干法， 而是利用高溫烘烤， 使玻璃表面的水分氣 化變?yōu)樗魵舛サ倪^程， 此方法省時又省力。 但是如果水的純度 不變，空氣凈化等不多或干燥機溫度不夠，玻璃表面殘存的水分 雖 經(jīng)氣化為蒸氣， 但在玻璃表面還會留下水珠， 這種水珠將直接影響后 續(xù)工序的產(chǎn)品質(zhì)量。word編輯版清洗機制程參數(shù)設(shè)定十槽清洗機 PRC.C,浸泡時間為5,溫度為60士 1-3槽KOH溶液為0.40.7N溫 1.0N1.6N,n. KOH溶度為/槽純水溢

3、流量為 0.5士0.2 m2/23min磨 刷傳動速度為3.04.5m/min,噴洗壓為0.21.0kgf/c m ,5度為40士 CC, 干燥5士 0.21.0kg/c m,純水溫度為40轉(zhuǎn)速為8595rpm壓力為 C。 110C 士 10機段溫度為溶KOH注：玻璃清洗潔凈度不夠之改改 善對策,適當(dāng)加入少許,溶液,經(jīng)常擦拭風(fēng)切口,噴洗等處,亦可調(diào) 態(tài)清洗KOH液，改變 速度，將傳速度減慢。機傳動2.PR涂佈 光刻是一種圖像復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的, 綜合性的精密表面加工技 術(shù)。光刻的目的就是按照產(chǎn)品的設(shè)計要求,在導(dǎo)電玻璃上覆蓋感光膠。A.光刻膠的配制光刻膠的性能與光刻膠的配比有關(guān)。 配比的選擇

4、原則是即要光刻膠是 有良好的抗蝕能力, 又要有較高的分辨率。 但兩者往往是相互矛盾的, 不能同時達到。因此,必須根據(jù)不同的光刻對象和要求,選取不同的 配比。 光刻膠的配制應(yīng)在暗室（潔凈度較高的房間）中進行。用量 筒按配方比例將原膠及溶劑分別量好, 再將溶劑倒入原膠, 用玻璃棒 充分攪拌使之均勻混合,通常剛配制好的光刻膠中必然還存在少 word 編輯版 為把這部分未能溶解的固態(tài)物質(zhì)微粒量因態(tài)物質(zhì)微粒未能完全溶解, 濾除，我們一般采用自然沉淀法進行過濾。B.涂層清洗后的玻璃ITO 層與光刻膠之間有良好的接觸和粘附， 為保證必須應(yīng)立即送光刻 工序進行涂膠。如果玻璃擱置較久或者光刻返工，涂膠要求，粘附

5、良 好，均勻厚薄適當(dāng)。若膠膜太薄，重洗在涂膠。 涂膠方法采用針孔較多，則抗蝕能力差，膠膜太厚，則分辨率低。 涂膠應(yīng)在潔凈無塵操作箱內(nèi)進行。 為保證膠膜質(zhì)量，旋轉(zhuǎn)及車混涂法。 涂膠60%C 25C范圍內(nèi)，相對溫度低于涂膠機內(nèi)溫度應(yīng)保持在 20要 在黃燈照射條件下進行，以防止光刻膠露光失效前烘 C 前烘的方法是在恒溫的干燥箱中烘烤，具體情況視膠的種 類和性 質(zhì)而定。影響前烘質(zhì)量的主要因素是溫度和時間，烘烤不足 （溫度過低或交界面處，膠中的溶劑未充分揮發(fā)，曝時間太短） ，在 膠膜與 ITO 光后形成浮膠或使圖形變形。烘烤過頭（溫度太高或時 間太長），會顯影不形成不易溶于顯影液中的薄膜而留下來，導(dǎo)致膠

6、 膜翹曲硬化， 干凈或膠面發(fā)皺，發(fā)黑，失去抗蝕能力。PR.涂膠機機臺參數(shù)設(shè)定 D ±分，干燥機傳速為 4.015218滾輪傳速與涂布輪傳 速為±轉(zhuǎn) 2m/min word 編輯版.（光刻0.1mm.0.±光刻膠米方度為30± 2mpa.s光刻膠壓入量為 .=10:1（依粘度測試情況而定） 5 膠只能四收次使用）光阻劑：稀 釋劑之改善對策，調(diào)態(tài)涂膠滴管內(nèi)涂布氣泡、涂布不均勻 ）注：涂布 不良（ 光刻膠滴入量。 3.曝光目前曝光方法采用接觸式曝光， 因此方 法所用設(shè)備簡單，操作方便，它包括“定位”和“曝光兩個步聚。定 位對光刻精度影響很大， 是光刻中十分重要

7、的一環(huán)，要認真對準(zhǔn)。 ） 燈，待光源穩(wěn)定后，把菲 UV 一般操作程序是：光預(yù)熱紫外光（玻璃 放在平臺上，膠面朝上， ITO 林安裝在支架上；將涂有光刻膠的使菲 林上定位標(biāo)志與仔細調(diào)態(tài)平臺微動裝置， 將光刻菲林支架放下， 曝光 后經(jīng)過顯影并定位完成即可曝光，平臺上玻璃的定位準(zhǔn)確套合。 檢 查定位是否正確。光刻膠的感光性玻璃的距離，光源強弱，曝光時間 由光源到 ITO 光刻膠感光不足，如曝光時間過短，能及菲林、玻璃 厚薄等因素決定，光刻膠的抗蝕性能就會降低，顯影時部分 則其光化學(xué)反應(yīng)不充分 若曝光時間太長，會使溶解，此時在投影機下可觀察到膠膜發(fā)黑； 光刻膠本不該感光部分的邊緣被微弱感光，即產(chǎn)生“暈

8、光”現(xiàn)象，蝕 刻后邊原模糊或發(fā)現(xiàn)皺紋，使分辨率降低。 為了保證曝光質(zhì)量，在 操作中要注意以下幾點； 定位必須嚴格套準(zhǔn)） （1word編輯版菲林必須平整地貼在玻璃上，不能有空隙。若存在空隙， 2）（ 則不 該曝光的地方會受到光的照射，使圖形產(chǎn)生畸變； 曝光操作中，應(yīng) 注意動作要輕，保護好菲林不致劃傷；（3） 曝光治具有菲林、 干版、 絡(luò)版） 曝光時間必須準(zhǔn)確控制。 （4 曝光工藝參數(shù)之設(shè)定：曝光柄位 之標(biāo)準(zhǔn)公/,曝光時間為（1）光量為100-140mj/c納米曝光機 內(nèi)紫外光被為380-780差士 0.2mm, 4.顯影 顯影的目的是將未感光部 分的光刻膠出所需要的圖行。 顯影必須徹底，以使圖形

9、邊緣整齊。 顯 影需嚴格控制好顯影時間。 若顯影時間不足， 則在未感光處留下一層 不易察覺的光刻膠層，層之間，它起了祖蝕作用，而隨意蝕刻液對這 一博層膠 ITO 在蝕刻層蝕刻不徹底，形成斑紋或小 ITO 膜的穿透和破壞，使這一博層的 島。此外，顯影不足還會使膠膜邊緣出現(xiàn)厚度 不均的過夜區(qū)，造成邊 緣毛刺，圖形模糊，影響光刻質(zhì)量。若顯影 時間過長，由于顯影時光刻膠發(fā)生軟化、膨脹，顯影液從 層表面向 圖形邊緣滲入，發(fā)生粘溶， 使圖形邊緣變形。 ITO 表面的膠膜皺起呈 橘皮狀，嚴重有的甚至?xí)霈F(xiàn)浮膠現(xiàn)象， ITO 的甚至大片剝落形成 脫膠。 word 編輯版 為了保證顯影質(zhì)量，必須嚴格控制顯影顯影

10、時間并及時更換顯影液。 顯影后玻璃一般應(yīng)檢查一下幾個方面： 圖形定位是否準(zhǔn)確；）（1 ） 圖形邊緣是否整齊；（2 ）有無皺膠和膠發(fā)黑；（ 3 ）有無浮膠；（ 4 ITO 層的劃傷；（5）有無膠面及顯影機工藝參數(shù)之設(shè)定：（6）顯影漂洗是否干凈等；傳，C,壓力為三 0.2kg/c m2 0.1-0.18NKOH 溶度為，溫度為 30士 2 。itf 4.5士 1.5m/min , 噴洗壓力為0.1-0.5 kg/c速為5.堅膜由于顯影時膠膜發(fā)生軟化、膨脹， 影響膠膜抗蝕能力，因此在使膠膜堅固。以去除顯影夜和水份，顯 影后必須以適當(dāng)溫度烘干玻璃， 層之間貼得更牢， 同時也增強了膠膜 本身的 ITO

11、堅膜可以使膠膜與 能力?？刮g 則因膠膜沒有烘透，堅膜的溫度和時間要適當(dāng)選擇，若堅膜不足，不 夠堅固，在蝕刻時發(fā)生浮膠或嚴重測蝕等。 若堅膜過度，則使膠膜 因 熱膨脹會產(chǎn)生翹曲和剝落， 當(dāng)蝕刻時會發(fā)生鉆蝕或浮膠。 堅膜最好采 用緩慢升溫和自然冷卻法，這樣可使膠膜更堅固，防 止因膠的細小 裂紋而出現(xiàn)毛刺現(xiàn)象。 蝕刻 6.編輯版又不損傷玻璃表層，蝕刻所選用的酸夜必須能腐蝕掉裸露的 ITO 面 的光刻膠層。另外，還要求酸夜毒性小，使用方便。 （酸夜為 的混合 物）。HCL+HN03蝕刻溫度對蝕刻效果影響很大，溫度太低，則蝕 刻時間要長，易產(chǎn)生浮膠；溫度太高，則蝕刻酸夜太活潑，也較易產(chǎn) 生脫膠或鉆蝕現(xiàn)

12、象。光刻質(zhì)量要求和分析 1）光刻質(zhì)量要求（因光刻質(zhì)量的好壞直接影 響到產(chǎn)品性能，成品率和可靠性，所以 把好光刻工藝的質(zhì)量關(guān)是十 分重要的。 蝕刻的圖形完整，尺寸準(zhǔn)確，邊緣整齊，線條陡直； 圖 形內(nèi)毛刺等，蝕刻干凈； 蝕刻后的玻璃表面清潔，不發(fā)光，沒有殘 留的被蝕刻夜； 圖形定位準(zhǔn)確； 2）光刻指令分析（要達到好上所 示的質(zhì)量，必須對光刻過程中存在的各種缺陷和弊 病進行分析和研 究，找出原因，才有可能克服這些缺陷和弊病。 顯影時產(chǎn)生浮膠的 原因有A.涂膠前玻璃表面不潔凈，表面有油污，水汽等，或玻璃清洗 后在或者涂膠膜操空氣中的水汽附在玻璃表面上； 空氣中放置時間過 長， word 編輯版 使膠與

13、玻璃表面粘附不良。因此，必須注意做好作環(huán)境濕度太大，玻璃表面潔凈處理和操作環(huán)境的溫濕度及清潔工作。光刻膠配制有 誤膠陳舊不純，膠的光化學(xué)反映性能不好，使膠與 ITO 層結(jié)合能力 差；或者膠膜不均勻和過厚，引起粘附不良。膠膜內(nèi)溶劑不能及時揮 發(fā)，烘烤時間不足，前烘時間不足或過液。顯影時部分膠膜被溶除； 烘烤時間過長，膠膜翹曲硬化，膠的感光特 性會發(fā)生變化。所以前 烘必須恰當(dāng)。曝光不足，光硬化反映不徹底，膠膜溶于顯影液中，引 起浮膠。 因此，在保證分辨率的前提下，曝光要充分。顯影時間太 長，顯影液從膠膜底部不斷滲入，引起浮膠。因此必 須控制好顯影 時間。層時產(chǎn)生浮膠的原因有蝕刻ITOB.蝕刻是產(chǎn)生

14、的浮膠，除了與 顯影時產(chǎn)生的浮膠有相同原因外， 還堅膜不足，膠膜烘烤熱固化不夠。 所以堅膜要充有以下幾個原因； 蝕刻液溫度太低或太高。溫度太低，蝕刻緩慢，分，但也不能太高。 則蝕刻時間太長，蝕刻液穿透或從底部滲入膠膜，引起浮膠；溫度太 高，蝕刻液活潑性強，也可能產(chǎn)生浮膠。因此蝕刻溫度要選擇適當(dāng)。 蝕刻液配制失誤，蝕刻液的活潑性太強。 產(chǎn)生毛刺和鉆蝕的原因 有：a小顆粒吸附水汽，存在污物，油污、涂膠前玻璃表面潔凈度不 夠，光刻底板不好，引起毛刺或局部鉆蝕。層粘附不良， ITO 使光 刻膠與光刻膠過濾不好或太陳舊，存在顆粒狀物 圖形邊緣有毛刺狀 缺陷。 word 編輯版 顯影時間過長，圖形邊緣發(fā)生

15、鉆溶，蝕刻時就質(zhì)，造成粘附不良。 曝光不足，光硬化反映不徹底，顯影后在膠膜上產(chǎn)生要造成鉆蝕。溶坑或圖形邊緣引起鉆溶，蝕刻時造成毛刺或鉆蝕 . 產(chǎn)生針孔的 原因 b 光刻掩模版質(zhì)量不好，本身有針孔； 涂光刻膠時，操作環(huán)境 被灰塵沾污； 光刻膠涂得太薄，或光刻膠本身抗蝕性能太差； 蝕刻 液配比不當(dāng)；曝光時間控制不好；玻璃表面本身缺陷也可能造成針孔。c.產(chǎn)生“小道”的原因及其處理方法由于菲林不好， 圖案區(qū)有針孔或損傷， 曝光是光透過這些針 孔，使這些地方的膠膜局部感光， 成為不溶于顯影液的膠膜 “小島”， 蝕層的“小島”，出現(xiàn)這種情況應(yīng)及時發(fā)現(xiàn)并更換或處刻后成為 ITO 理菲林。若顯影不徹底，則在光

16、刻窗口內(nèi)留下一層不易察覺的膠膜， 這層層蝕刻不徹 ITO 膠膜在蝕刻 ITO 層的過程中起阻蝕作用，從而 造成層“小島”。出現(xiàn)這種情況在膠膜抗蝕能力允許的底， 殘留下 ITO 蝕刻液不純，特別是沾有灰塵等異條件下，應(yīng)適當(dāng)延長蝕刻時間。 層“小島”。因此，保持層有腐蝕作用，形成 ITOITO 物，往往對玻 璃表面清潔， 無灰塵污染，保持蝕刻液清潔并定期更換蝕刻液， 可 以 減少由此產(chǎn)生的“小島” 。 word 編輯版蝕刻時間與蝕刻速度有關(guān)， 而蝕刻速度又與酸液和溫度有關(guān)， 若會導(dǎo) 致短路而蝕刻時間也不宜太層未蝕刻干凈， 蝕刻時間太短， ITO 時間 長了蝕刻酸液會穿透蝕膠膜產(chǎn)生浮因為膠膜抗蝕能力有限，長， 膠 或使分辨率降低，圖形變壞等。 蝕刻后玻璃應(yīng)檢查項目有： 蝕刻不 足、蝕刻過度、無卜、短路等。 蝕刻工藝參數(shù)之設(shè)定：溫度（特殊 玻璃）為646.8N酸液溶度為（一般玻璃）噴洗壓，3.2士 0.1 min36C蝕刻