動態(tài)技術磁化

1、動態(tài)技術磁化第1頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一軟磁材料動態(tài)特性第2頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一第3頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一第4頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一第5頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一損耗來自磁滯損耗、渦流損耗和被稱為剩余損耗的所有其它機制的損耗。磁滯和剩余損耗與頻率f成正比，渦流損耗與f2成比例。金屬軟磁材料電阻小，應用在比較低的頻率區(qū)，主要損耗是磁滯和渦流損耗。鐵氧體是氧化物，電阻大，應用在高頻區(qū)，主要損耗一般是剩余損耗。剩余損耗的原因有

2、擴散、尺寸共振、磁力共振、疇壁共振、自然共振等。渦流損耗：渦流損耗與電導率成正比，與磁導率、板厚度、頻率、外場振幅等的平方成正比 磁滯損耗：與磁滯回線的面積成正比第6頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一1、磁后效在施加磁場后，磁化強度的變化被延遲的現(xiàn)象叫磁后效magnetic after-effect。結(jié)構(gòu)變化，如果是在室溫或接近室溫下緩慢進行，通常稱做老化aging，同樣會引起磁化強度隨時間變化。 磁后效與老化引起的磁化強度的變化之間的區(qū)別在于，由磁后效引起的變化，在施加適當磁場后可以消除，而老化引起的變化，借助純磁學方法無法恢復。為弛豫時間，Bn為t=0到的磁化強度總

3、變化。五、動態(tài)磁化過程非齊次方程的解具有類似的形式，但C是時間的函數(shù)， 第7頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一當磁場從一個恒定值階梯式地變到另一個恒定值時， 若弛豫過程有多種，對應的弛余時間也有多個值，這時 其中是 弛豫時間為 的幾率第8頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一磁后效引起的磁譜 第9頁，共10頁，2022年，5月20日，15點10分，星期一在低碳鋼中觀察到顯著的磁后效，在純鐵中則觀察不到。顯然，磁后效與C有關。原子半徑小的C固溶于由六個最近鄰Fe原子組成的八面體間隙位置。六個近鄰Fe中，一對Fe與C的距離是a/2(a:晶格常數(shù))，其余四個Fe的距離是a/2有三種不同取向的八面體間隙位置：最近距離的一對Fe是沿著 100軸的位置(x位)、沿010軸的位置(y位)、沿001軸的位置(z位)。當磁化是沿著001方向時，晶格沿z方向伸長，x、y方向收縮/2，從而占據(jù)z位的C的物理環(huán)境和能量與占據(jù)x、y位的不同。因此在平衡狀態(tài)下，占據(jù)這個位置的C原子數(shù)與其它位置不同。由此看出，占據(jù)三個不同間隙位置的C原子數(shù)依賴于磁化方向。當改變磁場，從而改變磁化狀態(tài)時，C分布的