中國(guó)光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀、細(xì)分行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模及技術(shù)壁壘分析圖

1、中國(guó)光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀、細(xì)分行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模及技術(shù)壁壘分析圖 光刻膠是電子領(lǐng)域微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵性材料，在半導(dǎo)體、LCD、PCB等行業(yè)的生產(chǎn)中具有重要作用。光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩膜板轉(zhuǎn)移到代加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，是光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路加工制作的關(guān)鍵性材料。 一、光刻膠發(fā)展現(xiàn)狀 按照下游應(yīng)用，光刻膠可分為半導(dǎo)體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB用光刻膠等，其技術(shù)壁壘依次降低。相應(yīng)地，PCB光刻膠是目前進(jìn)度最快的，LCD光刻膠替代進(jìn)度相對(duì)較快，半導(dǎo)體光刻膠目前國(guó)產(chǎn)技術(shù)較國(guó)外先進(jìn)技術(shù)差距最大。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn)，光刻膠市場(chǎng)總需

2、求不斷提升。2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預(yù)計(jì)未來3年仍以年均5%的速度增長(zhǎng)，預(yù)計(jì)至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過100億美元。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理數(shù)據(jù)來源：公開資料整理數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 中國(guó)光刻膠市場(chǎng)需求增速高于國(guó)際平均，但中國(guó)本土供應(yīng)量在全球的占比僅有10%左右，發(fā)展空間巨大。受益半導(dǎo)體、顯示面板、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢(shì)，2019年我國(guó)光刻膠市場(chǎng)本土供應(yīng)量約70億元，自2011年至今CAGR達(dá)到11%，遠(yuǎn)高于全球平均5%的增速，但市場(chǎng)規(guī)模全球占比僅為10%左右，發(fā)展空間巨大。全球市場(chǎng)中，半導(dǎo)體、LCD、PCB用光刻膠的供應(yīng)結(jié)構(gòu)較

3、為均衡；但中國(guó)市場(chǎng)中，本土供應(yīng)以PCB用光刻膠為主，LCD、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理數(shù)據(jù)來源：公開資料整理數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 由于極高的行業(yè)壁壘，全球光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，長(zhǎng)年被日本、歐美專業(yè)公司壟斷。目前前五大廠商占據(jù)了全球光刻膠市場(chǎng)87%的份額，行業(yè)集中度較高。其中，日本JSR、東京應(yīng)化、日本信越與富士電子材料市占率加和達(dá)到72%。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 二、細(xì)分行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模 1.半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)難度最高，國(guó)產(chǎn)化率極低 半導(dǎo)體是光刻膠最重要的應(yīng)用領(lǐng)域。光刻和刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體芯片在精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。光刻工藝的成本

4、約為整個(gè)芯片制造工藝的30%，耗時(shí)約占整個(gè)芯片工藝的40%50%，是芯片制造中最核心的工藝。光刻膠及其配套化學(xué)品在芯片制造材料成本中的占比高達(dá)12%，是繼硅片、電子氣體的第三大IC制造材料。 HYPERLINK /research/201912/822304.html 智研咨詢發(fā)布的2020-2026年中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)深度監(jiān)測(cè)及投資戰(zhàn)略決策報(bào)告數(shù)據(jù)顯示：光刻膠市場(chǎng)需求快速增長(zhǎng)。隨著半導(dǎo)體線路圖形越來越小，光刻工藝對(duì)光刻膠的需求量也越來越大。2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約13億美元，預(yù)計(jì)未來5年年均增速約8%10%；中國(guó)半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約23億元人民幣，預(yù)計(jì)未來5年年均增速約10

5、%。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理數(shù)據(jù)來源：公開資料整理數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 2.PCB光刻膠：技術(shù)含量較低，國(guó)產(chǎn)化率超過50% PCB光刻膠主要品種有干膜光刻膠、濕膜光刻膠（又稱液態(tài)光致抗蝕劑、線路油墨）、光成像阻焊油墨等。濕膜性能優(yōu)于干膜，未來濕膜光刻膠有望逐步替代干膜光刻膠。濕膜相比干膜具有高精度、低成本的優(yōu)勢(shì)，容易得到高分辨率，滿足PCB高性能的要求。PCB行業(yè)成本中，光刻膠及油墨的占比約35%。 全球PCB光刻膠市場(chǎng)規(guī)模在20億美元左右，中國(guó)市場(chǎng)規(guī)模占比達(dá)50%以上。隨著PCB光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，中國(guó)已成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地。 PCB光刻膠全球市場(chǎng)行業(yè)集中度較高

6、。干膜光刻膠方面，臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué)、日本旭化成、日本日立化成三家公司就占據(jù)了全球80%以上的市場(chǎng)份額；光成像阻焊油墨方面，日本太陽(yáng)油墨占據(jù)全球60%左右的市場(chǎng)份額，前十家公司合計(jì)占據(jù)全球80%以上的市場(chǎng)份額。 國(guó)內(nèi)市場(chǎng)中，PCB光刻膠的國(guó)產(chǎn)化滲透率較高，中國(guó)內(nèi)資企業(yè)已在國(guó)內(nèi)PCB市場(chǎng)中占據(jù)50%以上的市場(chǎng)份額。PCB光刻膠技術(shù)壁壘較低，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)中，容大感光、廣信材料、東方材料、北京力拓達(dá)等內(nèi)資企業(yè)已占據(jù)國(guó)內(nèi)50%左右的濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場(chǎng)份額。國(guó)內(nèi)企業(yè)中，飛凱材料、容大感光、廣信材料等已有相應(yīng)PCB光刻膠產(chǎn)品投產(chǎn)。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 3.LCD光刻膠：市場(chǎng)規(guī)模最大，低端產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)

7、化 LCD光刻膠全球市場(chǎng)規(guī)模約23億美元，其中中國(guó)市場(chǎng)規(guī)模約9億美元。2019年全球LCD用光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約23億美元，過去5年平均增速在4%左右，預(yù)計(jì)未來3年增速也在4%左右。2019年中國(guó)LCD面板產(chǎn)能占全球比重已達(dá)40%左右，據(jù)此測(cè)算中國(guó)LCD光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約9億美元。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 LCD光刻膠的全球供應(yīng)集中在日本、韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣等地區(qū)，海外企業(yè)市占率超過90%。彩色濾光片所需的高分子顏料和顏料的分散技術(shù)主要集中在Ciba等日本顏料廠商手中，因此彩色光刻膠和黑色光刻膠的核心技術(shù)基本被日本和韓國(guó)企業(yè)壟斷。數(shù)據(jù)來源：公開資料整理 三、光刻膠技術(shù)壁壘 1.純度要求高、工藝復(fù)雜 由于光刻膠用于微米級(jí)甚至納米級(jí)圖形加工，光刻膠產(chǎn)品需要嚴(yán)格控制質(zhì)量。光刻膠及其專用化學(xué)品的化學(xué)結(jié)構(gòu)特殊，品質(zhì)要求高，微粒子及金屬離子含量極低，生產(chǎn)工藝復(fù)雜，其研發(fā)和生產(chǎn)具有較高的技術(shù)門檻。 2.配方技術(shù) 光刻膠的品種非常多，針對(duì)不同應(yīng)用需求，通過調(diào)整光刻膠的配方，滿足差異化的應(yīng)用需求，是光刻膠制造商最核心的技術(shù)。 3.光刻機(jī)的配套需求 光刻膠需要有相應(yīng)的光刻機(jī)與之配對(duì)調(diào)試，資金壁壘較高。目前全球光刻機(jī)核心技術(shù)處于壟斷狀態(tài)，只有荷蘭ASML公司可制造EUV光刻機(jī)，售價(jià)超過1億歐元；而技術(shù)水平稍低的DUV光刻機(jī)，售價(jià)為20005000萬美元；目前國(guó)