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上節(jié)課內(nèi)容:1.液體清洗:有機(jī)溶劑

洗潔精2.高純水的制備:粗過濾——活性炭過濾——電滲析————紫外光——項目二:LCD制造前工序工藝任務(wù)一:清洗與干燥(二)超聲清洗一、概述1.超聲波2.超聲清洗的應(yīng)用二、工作原理超聲清洗利用的原理(1)空化作用;(2)聲波的振動;(2).影響超聲波空化作用的因素超聲波空化作用的強(qiáng)弱與聲學(xué)參數(shù)以及液體的物理化學(xué)性質(zhì)有關(guān)

1)超聲波強(qiáng)度超聲波強(qiáng)度指單位面積上的超聲功率,空化作用的產(chǎn)生與超聲波強(qiáng)度有關(guān)。對于一般液體超聲波強(qiáng)度增加時,空化強(qiáng)度增大,但達(dá)到一定值后,空化趨于飽和,此時再增加超聲波強(qiáng)度則會產(chǎn)生大量無用氣泡,從而增加了散射衰減,降低了空化強(qiáng)度。

2)超聲波頻率超聲波頻率越低,在液體中產(chǎn)生的空化越容易,產(chǎn)生的力度大,作用也越強(qiáng),適用于工件(粗、臟)初洗。頻率高則超聲波方向性強(qiáng),適用于精細(xì)的物件清洗。。一般采用的頻率范圍20~90kHz。3)液體的表面張力與黏滯系數(shù)液體的表面張力越大,空化強(qiáng)度越高,越不易于產(chǎn)生空化。黏滯系數(shù)大的液體難以產(chǎn)生空化泡,而且傳播過程中損失也大,因此同樣不易產(chǎn)生空化。

4)液體的溫度液體溫度越高,對空化的產(chǎn)生越有利,但是溫度過高時,氣泡中蒸汽壓增大,因此氣泡閉合時增強(qiáng)了緩沖作用而使空化減弱。一般來說,超聲波在50℃-85℃時,效果最好。三、超聲波清洗機(jī)的構(gòu)成超波清洗機(jī)主要由超聲波清洗槽和超聲波發(fā)生器兩部分構(gòu)成。

四、超聲波清洗的特點1、清洗效果好,清潔度高且全部工件清潔度一致2、清洗速度快,提高生產(chǎn)效率,不須人手接觸清洗液,安全可靠。3、對深孔、細(xì)縫和工件隱蔽處亦可清洗干凈4、對工件表面無損傷,節(jié)省溶劑、熱能、工作場地和人工等。

干燥工藝與設(shè)備烘干法甩干法有機(jī)溶劑脫水法風(fēng)刀吹干法任務(wù)二:光刻工藝(一)光刻工藝流程簡介

光刻工藝也被稱為大家熟知的Photomasking,masking,photolithography,或microlithography。

涂光刻膠——前烘——曝光——顯影——堅膜——刻蝕——剝離去膜——水洗透明導(dǎo)電玻璃

液晶顯示器基本材料

導(dǎo)電膜經(jīng)過刻蝕形成特定形狀的的電極,上下兩片導(dǎo)電玻璃制成液晶盒,在電極上加適當(dāng)信號,是液晶特性改變,就可顯示出與電極形狀相對應(yīng)的圖形。

透明導(dǎo)電玻璃根據(jù)導(dǎo)電膜的不同有很多種,LCD制造目前應(yīng)用比較廣泛的是ITO玻璃。ITO(IndiumTinOxide)玻璃1.ITO玻璃基本結(jié)構(gòu)基板sio2

ITO(1)基板:常用基板厚度:1.1mm;0.7mm;0.55mm;0.5mm,0.4mm鈉鈣玻璃和硼硅玻璃是LCD行業(yè)中較常用的基板,其中鈉鈣型玻璃應(yīng)用更廣泛.(2)Si02層:

Si02層的作用:主要是防止鈉鈣型基板中的金屬離子擴(kuò)散滲透到ITO層中,影響ITO層的導(dǎo)電能力。SiO2層的膜厚:標(biāo)準(zhǔn)膜厚一般為:200—500AITO玻璃的制造

ITO玻璃簡要生產(chǎn)工藝流程如下:

磨邊——切角——拋光——清洗——Si02濺射——ITO濺射——檢驗——包裝(1)切割磨邊的工藝流程:磨邊類型及規(guī)格要求:

(3)鍍膜工藝流程:

鍍膜方法:

噴霧法;涂覆法;浸漬法;化學(xué)氣相沉積法;真空蒸發(fā)法;測射法,但目前工業(yè)化最有效的方法是磁控測射法。磁控測射法:在高真空反應(yīng)室中充入一定比例的02和Ar的混合氣體,在直流高壓下,Ar被電離,在電場作用下轟擊靶材,使銦和錫以原子和離子形式濺射出來,沉積在基板玻璃表面,同時被氧化,形成氧化銦錫膜。(4)ITO玻璃的評價參數(shù)透過率:在波長為550nm的光波照射下,具有SI02阻檔層玻璃的透過率不小于80%,其主要取決于玻璃材料、ITO厚度和折射率。透過率定義:透過玻璃的光通量T2與入射光通量T1之比的百分比。Tt=T2/T1X100%。方塊電阻:d為膜厚,I為電流,L1為膜厚在電流方向上的長度,L2為膜層在垂直電流方向的長度,ρ為導(dǎo)電膜的體電阻率。ρ和d可以認(rèn)為是不變的定值,當(dāng)L1=L2時,為正方形的膜層,無論方塊大小如何,其電阻率為定值ρ/d,這就是方塊電阻的定義,即R□=ρ/dL2L1dIR=ρ×L1/(d×L2)ITO玻璃基板平整度參數(shù)包括:1、玻璃表面粗糙度;2、基板表面波紋度;3、基板翹曲度;4、基板垂直度;5、ITO膜表面粗糙度;6、ITO玻璃基板、膜厚均勻度?;瘜W(xué)穩(wěn)定性:ITO鍍膜層的耐化學(xué)性能應(yīng)符合表以下技術(shù)要求。a)耐堿性鍍層在溫度為60±2℃,濃度為10%的氫氧化鈉(分析純)溶液中浸泡5分鐘,ITO膜的方電阻與浸泡前的方電阻相比不得超過110%。b)耐酸性在25±2℃,6%鹽酸(分析純)溶液中浸泡2分鐘,ITO膜的方電阻與浸泡前的方電阻相比不得超過110%。c)耐溶劑性能將鍍膜玻璃放入丙酮(分析純)、無水乙醇(分析純)中浸泡5分鐘后,ITO膜的方電阻與浸泡前的方電阻相比不得超過110%。熱穩(wěn)定性:在空氣中經(jīng)30分鐘300±5℃(觸摸屏用ITO玻璃是在200±5℃)高溫后,ITO膜的方阻的變化率小于300%附著力:用3M膠帶粘在玻璃表面迅速撕開,ITO層無明顯開裂現(xiàn)象常見ITO玻璃異常對LCD產(chǎn)品的影響主要注意事項:1、ITO玻璃連同包裝應(yīng)存放在干燥、陰涼、清潔的環(huán)境中,溫度28度以下,濕度不大于70%RH為宜;2、ITO玻璃的

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