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文檔簡介
半導(dǎo)體物理
復(fù)習(xí)閃卡
第二章半導(dǎo)體中雜質(zhì)和缺陷能級12015年10月硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級2硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級化合物半導(dǎo)體中的雜質(zhì)能級缺陷、位錯能級小結(jié)雜質(zhì)存在的方式金剛石結(jié)構(gòu)Si中,一個晶胞內(nèi)的原子占晶體原胞的34%,空隙占66%雜質(zhì)——與本體元素不同的其他元素缺陷——原子周期性排列被破壞影響半導(dǎo)體材料的物理、化學(xué)性質(zhì)硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級3SiSiSiSiSiSiSiPSiLi半導(dǎo)體中雜質(zhì)存在方式有:_____式
和_____式____族的替位雜質(zhì)——施主雜質(zhì)或___型雜質(zhì)在硅Si中摻入PSiSiSiSiSiSiSiP+Si電離后:磷原子替代硅原子后,形成一個____和一個_________。硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級施主雜質(zhì)、施主能級含有施主雜質(zhì)的半導(dǎo)體,其導(dǎo)電的載流子主要是_____,被稱為____型半導(dǎo)體,或_____6施主雜質(zhì)、施主能級被施主雜質(zhì)束縛的電子的能量比______略低,稱為施主能級____。E?施主電離能△ED=弱束縛的電子擺脫雜質(zhì)原子束縛成為晶格中自由運動的電子(導(dǎo)帶中的電子)所需要的能量。△ED=?-?6E?E?E?7在Si中摻入B____族替位雜質(zhì)——受主雜質(zhì)B獲得一個電子變成_____,周圍產(chǎn)生帶____電的_____。B-+B-E?受主雜質(zhì)、受主能級受主雜質(zhì)向價帶提供______。被受主雜質(zhì)束縛的空穴能量比價帶頂E?_____
,稱為受主能級,E?8E?E?E?受主電離能△EA=空穴擺脫受主雜質(zhì)束縛成為導(dǎo)電空穴所需要的能量△EA=?-?受主雜質(zhì)、受主能級含有受主雜質(zhì)的半導(dǎo)體,其導(dǎo)電的載流子主要是____,被稱為____型半導(dǎo)體,或_____。10雜質(zhì)激發(fā)、雜質(zhì)半導(dǎo)體
本征激發(fā)、本征半導(dǎo)體雜質(zhì)半導(dǎo)體雜質(zhì)半導(dǎo)體中雜質(zhì)載流子濃度______本征載流子濃度Si在室溫下,本征載流子濃度為?/cm3雜質(zhì)的補償作用12EcED電離施主電離受主Ev(1)ND>NA半導(dǎo)體中同時存在施主和受主雜質(zhì),施主和受主之間有互相抵消的作用,即雜質(zhì)的補償作用EA有效的施主濃度n=_________,此時半導(dǎo)體為_____型.
14(3)ND≈NA雜質(zhì)的高度補償EcEDEAEv本征激發(fā)產(chǎn)生的導(dǎo)帶電子本征激發(fā)產(chǎn)生的價帶空穴雜質(zhì)的補償作用
深能級雜質(zhì)15淺能級雜質(zhì)深能級雜質(zhì)→能級_______導(dǎo)帶底EC或價帶頂EV,雜質(zhì)電離能_______典型的深能級雜質(zhì)元素有:?????ECEDEVEAEgECEAEVEDEg缺陷、位錯能級缺陷對材料性能有重要的影響
理想晶體:??
實際晶體:??缺陷的類型點缺陷:空位、間隙原子線缺陷:位錯面缺陷:層錯、晶界硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級化合物半導(dǎo)體中的雜質(zhì)能級缺陷、位錯能級小結(jié)缺陷、位錯能級雜質(zhì)缺陷(組成缺陷):
外來原子進(jìn)入主晶格產(chǎn)生的缺陷。在原晶體結(jié)構(gòu)中進(jìn)入了雜質(zhì)原子,它與固有原子性質(zhì)不同,破壞了原子排列的周期性,雜質(zhì)原子在晶體中占據(jù)兩種位置.空位原子的空位起受主作用SiSiSiSiSiSiSiSi填隙間隙原子缺陷起施主作用SiSiSiSiSiSiSiSiSiSi18(1)弗倫克爾缺陷(Frenkel)原子進(jìn)入晶格的間隙位置,空位和間隙原子同時出現(xiàn),晶體體積不發(fā)生變化,晶體不會因為出現(xiàn)空位而產(chǎn)生密度變化。特點:空位與間隙粒子成對出現(xiàn),數(shù)量相等,晶體體積不發(fā)生變化。熱缺陷(晶格位置缺陷)
缺陷、位錯能級硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級化合物半導(dǎo)體中的雜質(zhì)能級缺陷、位錯能級小結(jié)20點缺陷和位錯點缺陷:在三維尺寸均很小,只在某些位置發(fā)生,只影響鄰近幾個原子。是處于原子大小數(shù)量級上的缺陷。線缺陷(位錯):缺陷尺寸在一維方向較長,另外二維方向上很短。在一維方向上偏離理想晶體中的周期性、規(guī)則性排列所產(chǎn)生的缺陷。這種線缺陷又稱位錯。面缺陷(層錯):在密排晶面上缺少或多余一層原子而構(gòu)成的缺陷。硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級化合物半導(dǎo)體中的雜質(zhì)能級缺陷、位錯能級小結(jié)缺陷
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