LCD-清洗簡(jiǎn)介課件

CleanerIntroductionReporter:Date:2006/11/17CleanerIntroductionReporter:1SummaryCleanerConceptionCleaningMethodLayoutSummaryCleanerConception2WhyneedtocleanUnpacking出的玻璃附著大量的Particle和Organic。在附著Particle的基板上成膜會(huì)造成膜層的Defect。對(duì)于有Organic的基板成膜，會(huì)降低膜層的貼合性。WhyneedtocleanUnpacking出的玻璃3PollutionSource污染源的種類污染的危害污染源Particle1.Pinhole2.PatternDefect3.SignalOpen1.MaterialFray2.SubstrateUnpacking2.C/RPollution3.HumanPollutionOrganic1.UniformityAbnormal2.ResistanceAbnormal1.HumanPollution2.SubstrateUnpacking3.Detergent4.PR5.MaterialFrayParticleOrganicEUV×◎Brush◎◎MS◎×SBJ◎×CJ◎×Detergent◎◎PollutionSource污染源的種類污染的危害污染源4EUVN2inN2outLampquartzSubstrate172nmEUVHousingForInitialCleaner:RemoveOrganicObjectForPre-depoCleaner:RemoveOrganicObjectRemoveremainderPROther:Ashing(308nm)O2O3O*CxHyOzCmHnOkCmHnOk+O*/O3CO2+H2O+CO172nm172nm172nm(x>m,y>n,z>k)EUVN2inN2outLampquartzSubstr5UVVSEUVUVEUVMerit價(jià)格便宜溫度為40℃左右無(wú)需HP、CP開(kāi)關(guān)為瞬時(shí)節(jié)省1/3電力波長(zhǎng)短(172nm)能量大Demerit運(yùn)行溫度高，100℃以上需要HP、CP開(kāi)關(guān)非瞬時(shí)波長(zhǎng)185nm運(yùn)行費(fèi)用高價(jià)格昂貴UVVSEUVUVEUVMerit價(jià)格便宜溫度為40℃左6DiskBrushSubstrateDiskBrushChamberMerit:CleanabilitygoodDemerit:DifficulttoPM&MaintenanceBrush清洗CF和有膜的基板，不能使用Brush，否則會(huì)對(duì)Brush造成污染，須作PM和QC才能繼續(xù)使用，甚至需要更換Brush。DiskBrushSubstrateDiskBrush7RollBrushRollBrushRollerSubstratePinchRollerRollBrush的旋轉(zhuǎn)方向如圖反相對(duì)刷，目的在于：上下、左右對(duì)刷，使基板受力均勻，不至于滑動(dòng)或者被刮傷。上Brush的旋轉(zhuǎn)方向可以降低Detergent的使用量。在PM時(shí)，可以進(jìn)行對(duì)刷，用于清潔Brush。清潔效果比同方向要好。RollBrushRollBrushRollerSubs8MSMS=MegaSonic由超聲波震子震動(dòng)，使通入的DIW產(chǎn)生同頻率震動(dòng)，并在出口處形成DIWCurtain，從而去除Particle。通常MS的頻率為1.6MHz，去除Particle的大小為1um左右。MSMS=MegaSonic由超聲波震子震動(dòng)，使通入的DI9SBJBubbleJet將CDA和DIW進(jìn)行混合，并利用高壓噴灑到Substrate表面，產(chǎn)生大量的微小氣泡。氣泡在破裂的時(shí)候產(chǎn)生沖擊力，可以打掉基板表面的大顆粒Particle。CDADIWBubble=CDA+DIWBubbleSBJBubbleJet將CDA和DIW進(jìn)行混合，并利用高10CJCJ=CavitationJet利用高壓噴出DIW可以在Housing內(nèi)產(chǎn)生大量氣穴，利用氣穴破裂產(chǎn)生的沖擊力打掉Particle。通常CJ的壓力在10kg/cm2以上，所以必須用專用的CJPump提供動(dòng)力。1000200030005101520CJ壓力(kg/cm2)Particle(1um)CJCJ=CavitationJet10002000311HF氫氟酸：是HF氣體的水溶液。由于玻璃基板在搬送過(guò)程中暴露在空氣中，容易在膜層上形成氧化膜，利用氫氟酸可以去除表面的氧化膜。安全：氫氟酸易揮發(fā)易腐蝕，人體攝入1.5g以上HF會(huì)導(dǎo)致立即死亡。濃度為30%以上的氫氟酸接觸人體會(huì)立即有疼痛感和皮膚潰爛。身體任何部位接觸低濃度氫氟酸，應(yīng)當(dāng)立即用清水沖洗，尤其是眼部和手指。HF氫氟酸：12DetergentTankPHHHLLLDrainHeater易粘附，needPMresistanceFromChamberDIWSupplyMaintenanceCoverToChamberOverFlowProcessTMP:38~40℃PDetergentTankPHHHLLLDrainHeat13

AirKnifeAirKnifeShowerAirFlowHeightAdjustmentAngleAdjustmentSubstrateNormally50°3mmAirKnife前需要預(yù)濕Shower，使Substrate表面形成均一的水膜，AirKnife干燥之后，不會(huì)留下殘水，也不容易因?yàn)閴毫Σ痪斐蒑ura。AirKnife的壓力和流量通常為：UpperKnifePressure:0.50~0.60MPaLowerKnifePressure:0.45~0.55MPaUpperKnifeFlow:1750~1850NL/minLowerKnifeFlow:1650~1750NL/minUpper的壓力要比Lower的壓力大，否則Glass容易震動(dòng)。

AirKnifeAirKnifeShowerAirF14InitialCleaner(TFT&CF)Detergent:TMAHTFT:0.4%CF:0.04%InitialCleaner(TFT&CF)Dete15HFCleanerHFCleaner16Pre-DepositionCleaner×4Pre-DepositionCleaner×417ThankyouforattentionThankyouforattention18CleanerIntroductionReporter:Date:2006/11/17CleanerIntroductionReporter:19SummaryCleanerConceptionCleaningMethodLayoutSummaryCleanerConception20WhyneedtocleanUnpacking出的玻璃附著大量的Particle和Organic。在附著Particle的基板上成膜會(huì)造成膜層的Defect。對(duì)于有Organic的基板成膜，會(huì)降低膜層的貼合性。WhyneedtocleanUnpacking出的玻璃21PollutionSource污染源的種類污染的危害污染源Particle1.Pinhole2.PatternDefect3.SignalOpen1.MaterialFray2.SubstrateUnpacking2.C/RPollution3.HumanPollutionOrganic1.UniformityAbnormal2.ResistanceAbnormal1.HumanPollution2.SubstrateUnpacking3.Detergent4.PR5.MaterialFrayParticleOrganicEUV×◎Brush◎◎MS◎×SBJ◎×CJ◎×Detergent◎◎PollutionSource污染源的種類污染的危害污染源22EUVN2inN2outLampquartzSubstrate172nmEUVHousingForInitialCleaner:RemoveOrganicObjectForPre-depoCleaner:RemoveOrganicObjectRemoveremainderPROther:Ashing(308nm)O2O3O*CxHyOzCmHnOkCmHnOk+O*/O3CO2+H2O+CO172nm172nm172nm(x>m,y>n,z>k)EUVN2inN2outLampquartzSubstr23UVVSEUVUVEUVMerit價(jià)格便宜溫度為40℃左右無(wú)需HP、CP開(kāi)關(guān)為瞬時(shí)節(jié)省1/3電力波長(zhǎng)短(172nm)能量大Demerit運(yùn)行溫度高，100℃以上需要HP、CP開(kāi)關(guān)非瞬時(shí)波長(zhǎng)185nm運(yùn)行費(fèi)用高價(jià)格昂貴UVVSEUVUVEUVMerit價(jià)格便宜溫度為40℃左24DiskBrushSubstrateDiskBrushChamberMerit:CleanabilitygoodDemerit:DifficulttoPM&MaintenanceBrush清洗CF和有膜的基板，不能使用Brush，否則會(huì)對(duì)Brush造成污染，須作PM和QC才能繼續(xù)使用，甚至需要更換Brush。DiskBrushSubstrateDiskBrush25RollBrushRollBrushRollerSubstratePinchRollerRollBrush的旋轉(zhuǎn)方向如圖反相對(duì)刷，目的在于：上下、左右對(duì)刷，使基板受力均勻，不至于滑動(dòng)或者被刮傷。上Brush的旋轉(zhuǎn)方向可以降低Detergent的使用量。在PM時(shí)，可以進(jìn)行對(duì)刷，用于清潔Brush。清潔效果比同方向要好。RollBrushRollBrushRollerSubs26MSMS=MegaSonic由超聲波震子震動(dòng)，使通入的DIW產(chǎn)生同頻率震動(dòng)，并在出口處形成DIWCurtain，從而去除Particle。通常MS的頻率為1.6MHz，去除Particle的大小為1um左右。MSMS=MegaSonic由超聲波震子震動(dòng)，使通入的DI27SBJBubbleJet將CDA和DIW進(jìn)行混合，并利用高壓噴灑到Substrate表面，產(chǎn)生大量的微小氣泡。氣泡在破裂的時(shí)候產(chǎn)生沖擊力，可以打掉基板表面的大顆粒Particle。CDADIWBubble=CDA+DIWBubbleSBJBubbleJet將CDA和DIW進(jìn)行混合，并利用高28CJCJ=CavitationJet利用高壓噴出DIW可以在Housing內(nèi)產(chǎn)生大量氣穴，利用氣穴破裂產(chǎn)生的沖擊力打掉Particle。通常CJ的壓力在10kg/cm2以上，所以必須用專用的CJPump提供動(dòng)力。1000200030005101520CJ壓力(kg/cm2)Particle(1um)CJCJ=CavitationJet10002000329HF氫氟酸：是HF氣體的水溶液。由于玻璃基板在搬送過(guò)程中暴露在空氣中，容易在膜層上形成氧化膜，利用氫氟酸可以去除表面的氧化膜。安全：氫氟酸易揮發(fā)易腐蝕，人體攝入1.5g以上HF會(huì)導(dǎo)致立即死亡。濃度為30%以上的氫氟酸接觸人體會(huì)立即有疼痛感和皮膚潰爛。身體任何部位接觸低濃度氫氟酸，應(yīng)當(dāng)立即用清水沖洗，尤其是眼部和手指。HF氫氟酸：30DetergentTankPHHHLLLDrainHeater易粘附，needPMresistanceFromChamberDIWSupplyMaintenanceCoverToChamberOverFlowProcessTMP:38~40℃PDetergentTankPHHHLLLDrainHeat31

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