2022年行業(yè)分析光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀

光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀光刻機(jī)從2022年到2025年的復(fù)合年增長(zhǎng)率將達(dá)到為15.8%。目前光刻工藝是IC制造中最關(guān)鍵也是最簡(jiǎn)單步驟，光刻機(jī)是目前成本最高的半導(dǎo)體設(shè)備，光刻工藝也是制造中占用時(shí)間比最大的步驟。以下對(duì)光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀分析。

光刻機(jī)設(shè)備市場(chǎng)龍頭集中，EUV光刻機(jī)被ASML壟斷。全球光刻機(jī)出貨量99%集中在ASML，尼康和佳能。光刻機(jī)行業(yè)分析指出，其中ASML份額最高，達(dá)到67.3%，且壟斷了高端EUV光刻機(jī)市場(chǎng)。ASML技術(shù)先進(jìn)離不開(kāi)高投入，其研發(fā)費(fèi)用率始終維持在15%-20%，遠(yuǎn)高于Nikon和Canon。

光刻機(jī)廠商市場(chǎng)份額

光刻機(jī)用途廣泛，除了高端大氣上檔次的前道光刻機(jī)之外，還有用于LED制造領(lǐng)域投影光刻機(jī)和用于芯片封裝的后道光刻機(jī)，雖然在前道光刻機(jī)上國(guó)內(nèi)廠商和ASML差距猶如鴻溝，但后道光刻機(jī)和封裝光刻機(jī)國(guó)內(nèi)廠商不僅都能制造，還占據(jù)了不低的市場(chǎng)份額。現(xiàn)從三大市場(chǎng)狀況來(lái)分析光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀。

上海微電子的90nm光刻機(jī)：目前我國(guó)能整機(jī)制造光刻機(jī)的只有上海微電子，2022年起家開(kāi)頭做這方面的討論，從零起步，目前其制造工藝已經(jīng)能達(dá)到90nm，2022年時(shí)上海微電子產(chǎn)的光刻機(jī)已經(jīng)完成驗(yàn)收。光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀根據(jù)科技領(lǐng)域的研發(fā)狀況，使用一代，研發(fā)一代，再預(yù)備一代，上海微電子基本上也是這個(gè)流程，搞定90nm工藝后，現(xiàn)階段已經(jīng)完成了65nm工藝的研發(fā)和驗(yàn)證，已經(jīng)再預(yù)備后續(xù)28nm的工藝了。另有消息稱我國(guó)已經(jīng)在加緊研制14nm的制造工藝，前期預(yù)備工作(相關(guān)技術(shù))已經(jīng)通過(guò)驗(yàn)證和審核。

上海微電子只是系統(tǒng)制造商：雖然上海微電子能做光刻機(jī)整機(jī)設(shè)備，但并不意味著這家企業(yè)能自己獨(dú)立生產(chǎn)光刻機(jī)中的全部零配件，它只是一個(gè)系統(tǒng)制造商。光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀分析，想要制造一臺(tái)完整的光刻機(jī)需要全球選購(gòu)零配件，尤其是核心精密零部件更是依靠國(guó)外廠商，比如的光柵、德國(guó)鏡頭、瑞典軸承等等。當(dāng)然，全球選購(gòu)是目前光刻機(jī)廠商通用的做法，也是很無(wú)奈的做法，由于沒(méi)有任何一家企業(yè)有實(shí)力完成全部零配件的生產(chǎn)，能獨(dú)立完成光刻機(jī)的制造。荷蘭ASML也一樣全球選購(gòu)然后生產(chǎn)制造。

提高光刻機(jī)技術(shù)核心是材料學(xué)：前面說(shuō)了制造光刻機(jī)需要各種精密配件，上海微電子僅的光刻機(jī)就得幾萬(wàn)的配件。光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀分析，想要提高我國(guó)光刻機(jī)的整體工藝水平，光靠上海微電子一家廠商是不行的，需要全國(guó)整體的制造業(yè)水平上去，能夠制造出我國(guó)自己的光柵、鏡頭、軸承、閥件等等。而想要制造出高質(zhì)量的配件，最終又將歸結(jié)于材料學(xué)的討論，許多東西目前其實(shí)我們能造，但是使用的材料不過(guò)關(guān)，精度和質(zhì)量達(dá)不到國(guó)外廠商的水準(zhǔn)。因此，這就需要我國(guó)全部相關(guān)企業(yè)都能努力提高。

作為集成電路產(chǎn)業(yè)的核心裝備，有人稱光刻機(jī)為“人類(lèi)最精密簡(jiǎn)單的機(jī)器”。工件臺(tái)系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要子系統(tǒng)，工件臺(tái)系統(tǒng)的運(yùn)行速度、加速度、系統(tǒng)穩(wěn)定性和系統(tǒng)的定位建立時(shí)間對(duì)光刻機(jī)的生產(chǎn)精度和效率起著至關(guān)重要的作用。本次“光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”項(xiàng)目驗(yàn)收