GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術條件

ICS25.220.20A29中華人民共和國國家標準GB/T18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術條件SpecificationsofphysicalvapourdepositionTiNfilms2002-03-10發(fā)布2002-08-01實施中華人民共和國發(fā)布國家質量監(jiān)督檢驗檢疫總局

GB/T18682-2002次前言1范圍規(guī)范性引用文件術語和定義34技術要求5性能及試驗方法附錄A(規(guī)范性附錄）鍍膜前零件表面質量控制技術要求附錄B(規(guī)范性附錄）物理氣相沉積技術用鈦靶………附錄C(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN設備的真空技術要求附錄D(規(guī)范性附錄)膜厚度測量方法……附錄E(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN薄膜防腐能力試驗方法附錄F(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN薄膜摩擦學性能試驗方法

GB/T18682-2002前本標準的附錄A、附錄B、附錄C、附錄D、附錄E、附錄F為規(guī)范性附錄.本標準由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出。本標準由全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術委員會歸口本標準負責起草單位：武漢材料保護研究所本標準參加起草單位：鋼鐵研究總院、中科院力學研究所、中國航科集團公司五一一研究所、成都工具研究所、中科院蘭州化學物理研究所、蘭州真空設備有限責任公司、長沙科航新型表面技術研究所。本標準主要起草人：凌國偉、李健、倪瀚、黃濟群、曲學基、紀曉春、秦襄培。

GB/T18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術條件范圍本標準規(guī)定了物理氣相沉積TiN薄膜的技術要求。本標準適用于物理氣相沉積TiN薄膜.也適用于其他方法制備的TiN薄膜。本標準也適用于其他材料沉積層(TiC,TICN,TiAlN等).2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過在本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內容)或修訂版均不適用于本標準.然而，鼓勵根據(jù)本標準達成協(xié)議的各方研究是否使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標準。GB191包裝儲運圖示標志(eqvISO780）GB/T3620.1鈦及鈦合金牌號和化學成分GB/T3620.2鈦及鈦合金加工產品化學成分及成分允許偏差GB/T4698海綿鈦、鈦及鈦合金化學分析方法GB/T5168兩相鈦合金高、低倍組織檢驗方法GB/T5193鈦及鈦合金加工產品超聲波探傷方法(eqvAMS2631)GB/T6070真空法蘭(eqvISO1609）GB/T8180鈦及鈦合金加工產品的包裝、標志、運輸和儲存GB/T11164—1999真空鍍膜設備通用技術條件GB/T13384機電產品包裝通用技術條件GB/T15827離子鍍仿金氮化鈦的顏色(neqISO8654)JB/T6075氮化鈦涂層金相檢驗方法JB/T7506松散磨粒磨料磨損試驗方法橡膠輪法JB/T7673真空設備型號編制方法JB/T7705固定磨粒磨料磨損銷-砂紙盤滑動磨損法JB/T8554氣相沉積薄膜與基體附著力的劃痕試驗法JB/T53021真空鍍膜設備產品質量分等3術語和定義下列術語和定義適用于本標準極限壓力ultimatevacuumpressure真空系統(tǒng)正常工作時，空載干燥的真空室達到穩(wěn)定的最低壓力。單位為Pa3.