標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 11164-1999 真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件》相較于其前版《GB 11164-1989》，主要在以下幾個方面進行了調(diào)整和更新：

  1. 標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)的改變：從標(biāo)準(zhǔn)編號可見，新標(biāo)準(zhǔn)由原來的強制性國家標(biāo)準(zhǔn)（GB）轉(zhuǎn)變?yōu)橥扑]性國家標(biāo)準(zhǔn)（GB/T），意味著新版標(biāo)準(zhǔn)為推薦執(zhí)行，給企業(yè)更多的適應(yīng)性和靈活性。

  2. 技術(shù)內(nèi)容的更新：新版標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展，對設(shè)備的技術(shù)要求進行了修訂和補充，包括但不限于提高了對真空系統(tǒng)密封性能、真空泵抽氣速率、鍍膜均勻性及控制系統(tǒng)的精度要求，以適應(yīng)更高質(zhì)量的鍍膜產(chǎn)品需求。

  3. 安全與環(huán)保要求：增加了對設(shè)備操作安全及環(huán)境保護的相關(guān)要求，強調(diào)在設(shè)計和使用過程中需考慮能效比、廢棄物處理及減少有害物質(zhì)排放，體現(xiàn)了對可持續(xù)發(fā)展和生產(chǎn)安全的重視。

  4. 檢測方法與驗收準(zhǔn)則：詳細規(guī)定了更加科學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)臋z測方法和驗收標(biāo)準(zhǔn)，確保設(shè)備性能的可靠評估。這包括對鍍膜層的厚度、附著力、純度等方面的測試方法進行了優(yōu)化和明確，便于實際操作中的執(zhí)行與驗證。

  5. 術(shù)語與定義的完善：隨著技術(shù)進步，對一些專業(yè)術(shù)語進行了重新定義或新增解釋，使得標(biāo)準(zhǔn)的表述更加準(zhǔn)確，便于行業(yè)內(nèi)的統(tǒng)一理解和交流。

  6. 兼容性和互換性：考慮到技術(shù)的國際化趨勢，新標(biāo)準(zhǔn)可能還增強了設(shè)備與國際標(biāo)準(zhǔn)的兼容性，促進了國內(nèi)外技術(shù)交流與合作，提升了國內(nèi)真空鍍膜設(shè)備的國際市場競爭力。


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  • 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替，建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 11164-2011
  • 1999-04-08 頒布
  • 1999-09-01 實施
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文檔簡介

ICS.23.160J78中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T11164一1999真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件Vacuumcoatingplantgenericspecification1999-04-08發(fā)布1999-09-01實施國家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T11164-1999本標(biāo)準(zhǔn)是對GB/T11164—1989《真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件》進行修訂而編制的。在內(nèi)容上,對某些技術(shù)指標(biāo)進行了修政，如：B類鍍膜設(shè)備抽氣時間從原來的1520min改為10min:增加了升壓率指標(biāo)；并且由于原標(biāo)準(zhǔn)中C類鍍膜設(shè)備國內(nèi)已無生產(chǎn)廠生產(chǎn)，在本次標(biāo)準(zhǔn)修訂中將C類產(chǎn)品取消。本標(biāo)準(zhǔn)自實施之日起代替GB/T11164—1989。本標(biāo)準(zhǔn)由國家機械工業(yè)局提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國真空技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：上海曙光機械制造廠、沈陽真空技術(shù)研究所本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張樹中、李春影、李玉英。

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)11164-GB/T-1999真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件代替GB/T11164—1989Vacuumcoatingplantgeneriespecification1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空鍍膜設(shè)備技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運輸和存等。本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在10～10-"Pa范圍的蒸發(fā)類、濺射類、離子鍍類真空鍍膜設(shè)備(以下簡稱設(shè)2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時,所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂·使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性GB191—1990包裝儲運圖示標(biāo)志GB/T6070—1995真空法蘭GB/T13384—1992機電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件JB/T7673—1995真空設(shè)備型號編制方法3定義本標(biāo)準(zhǔn)采用下列定義、3.1極限壓力真空系統(tǒng)正常工作時，空載干燥的鍍膜室逐漸穩(wěn)定的最低壓力。單位：Pa3.2抽氣時間真空系統(tǒng)正常工作時,將空載干燥的鍍膜室從大氣壓(10Pa)抽到規(guī)定的壓力所需要的時間。單位：min.3.3升壓率將空載干燥的鍍膜室連續(xù)抽氣至穩(wěn)定的最低壓力后，截止抽氣，在鍍膜室內(nèi)由于漏氣或內(nèi)部放氣所造成的單位時間的升壓。單位：Pa/h.4技術(shù)要求4.1設(shè)備正常工作條件4.1.1環(huán)境溫度：10～30C。4.1.2相對濕度：不大于75%、4.1.3冷卻水進水溫度：不高于25C4.1.4冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?.1.5供電電源：380V、三相、50Hz或220V、單相、50Hz(由所用電器需要而定)電壓波動范圍342～399V

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