水溶性干膜顯影工藝及常見問題的處理方法

水溶性干膜顯影工藝及常見問題的處理方法水溶性干膜的顯影液為l—2%的無水碳酸鈉溶液，液溫30—40C。顯影的速度在范圍內(nèi)隨溫度增高而加快，不同的干膜顯影溫度略有差別，需根據(jù)實際情況調(diào)整，溫度過高會使膜缺乏韌性變脆。顯影機理是感光膜中未曝光部分的活性基團與稀堿溶液反應生成可溶性物質(zhì)而溶解下來，顯影時活性基團羧基—COOH與無水碳酸鈉溶液中的Na+作用，生成親水性集團—COONa。從而把未曝光的部分溶解下來，而曝光部分的干膜不被溶脹。顯影操作—般在顯影機中進行，控制好顯影液的溫度，傳送速度，噴淋壓力等顯影參數(shù)，能夠得到好的顯影效果。正確的顯影時間通過顯出點（沒有曝光的干膜從印制板上被溶解掉之點）來確定，顯出點必須保持在顯影段總長度的—個恒定百分比上。如果顯出點離顯影段出口太近，未聚合的抗蝕膜得不到充分的清潔顯影，抗蝕劑的殘余可能留在板面上。如果顯出點離顯影段的入口太近，已聚合的于膜由于與顯影液過長時間的接觸，可能被浸蝕而變得發(fā)毛，失去光澤。通常顯出點控制在顯影段總長度的40%—60%之內(nèi)。其顯影點的計算方法較為簡單，使用—至幾塊長的板材，其長度大于等于顯影段的長度，貼完膜后不曝光直接顯影，當板子的最前端走到顯影出口時關(guān)閉顯影藥水的噴淋。根據(jù)板子顯影的情況可得知顯影點在顯影段中的位置。從而根據(jù)顯示情況調(diào)整顯影速度達到最佳的顯影狀態(tài)。顯影機在使用時由于溶液不斷地噴淋攪動，會出現(xiàn)大量泡沫，因此必須加入適量的消泡劑。如正丁醇、印制板專用消泡劑AF—3等。消泡劑起始的加入量為0.%左右，隨著顯影液溶進干膜，泡沫又會增加，可繼續(xù)分次補加。部份顯影機有自動添加消泡劑的裝置。顯影后要確保板面上無余膠，以保證基體金屬與電鍍金屬之間有良好的結(jié)合力。在顯影的過程中碳酸鈉不斷需要補充，在某些他天氣較寒冷地區(qū)在冬天顯影時其補充碳酸鈉的藥桶要有加熱裝置，以防止顯影段由于補充藥液導致溫度下降造成顯影不良。顯影后板面是否有余膠，肉眼很難看出，可用1%甲基紫酒精水溶液或l一2%的硫化鈉或硫化鉀溶液檢查，染十甲基紫顏色和浸入硫化物后沒有顏色改變說明有余膠。常見問題原因解決方法

過顯影或顯影不足顯影點位置不對。調(diào)整顯影速度、溫度。

部份顯影不足或過顯影消泡劑補充不足、后段清洗問題。補充消泡劑檢杳清洗段。干膜質(zhì)量差。更換干膜。儲存時受到其它光源的影響。改善儲存條件。曝光過度。使用曝光尺檢杳曝光強度。底片問題。使用儀器檢杳底片的透光率。真空不良引起底片與基板接觸不好產(chǎn)生虛光。檢杳設(shè)備真空及框架的氣密性。顯影液失效。更換顯影液。顯影時間短，噴嘴堵塞，壓力過低，顯影液中泡沫過多。檢杳設(shè)備，加消泡劑，測量顯影點。噴嘴堵塞。清洗設(shè)備。顯影后干膜比平時脆顯影或/及）烘干溫度過高。調(diào)整溫度。曝光過度。調(diào)整曝光指數(shù)。顯影后線條上有毛邊過顯影或曝光不足。調(diào)整顯影速度、溫度和溶液濃度，使用曝光尺改善曝光時間。顯影段溫度高造成過顯影顯影段冷凝管堵塞或冷凝水供應不足，加熱段失控。檢杳和清洗設(shè)備，檢杳冷凝水供水系統(tǒng)。顯影后干膜的附著力不強干膜存儲條件不符合要求導致失效。改善儲存條件。干膜儲存時間過長失效。改善儲存條件。環(huán)境濕度過大。調(diào)整環(huán)境濕度。線路板前處理不好。檢杳前處理線保證去除線路板表面的氧化和油污，并保證表面有一定的粗糙度。貼膜速度過快或溫度不夠高。調(diào)整速度和溫度。線路板上有碎膜貼膜后切膜留邊過長、顯影液液位過高、噴淋過濾器失效。溶液失效。清洗段問題。調(diào)整手動或自動貼膜機，曝光底片加大邊框余量。檢杳顯影液位、及噴淋過濾器。更換溶液檢杳清洗段。膜中有氣泡貼膜溫度過高。調(diào)整到適合的溫度。

貼膜壓輥壓力過低或有損傷。調(diào)整壓力，修復或更換壓輥。板面不平有損傷。刖道工序加強自檢。掩膜法的膜破裂孔中有水分。檢杳